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AlxGa1-xN/AlN超晶格材料特性研究 被引量:2
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作者 谢自力 张荣 +7 位作者 江若琏 刘斌 龚海梅 赵红 修向前 韩平 施毅 郑有炓 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期727-729,共3页
用MOCVD技术在(0001)蓝宝石衬底上成功研制了2寸衬底上无裂纹的Al N/Al0.3Ga0.7N超晶格材料。研究了AlxGa1-xN/Al N超晶格材料特性。结果表明,缓冲层材料和结构对Al N/Al0.3Ga0.7N超晶格的表面型貌和界面特性有很大的影响。AFM研究表明... 用MOCVD技术在(0001)蓝宝石衬底上成功研制了2寸衬底上无裂纹的Al N/Al0.3Ga0.7N超晶格材料。研究了AlxGa1-xN/Al N超晶格材料特性。结果表明,缓冲层材料和结构对Al N/Al0.3Ga0.7N超晶格的表面型貌和界面特性有很大的影响。AFM研究表明利用GaN做支撑层生长的Al N/Al0.3Ga0.7N超晶格材料是一种准二维生长模式。XRD和SEM研究表明研制的材料表面平整、界面清晰、并且材料具有完整的周期重复性。利用紫外-可见光谱仪反射谱研究表明研制的30对Al N/Al0.3Ga0.7N超晶格材料在中心波长为313nm的紫外波段具有93.5%的反射率。 展开更多
关键词 MOCVD 超晶格 AlxGa1-xn/AlN
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InxGa1-xN合金薄膜In的表面分凝现象 被引量:1
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作者 刘成祥 谢自力 +14 位作者 韩平 刘斌 李亮 符凯 周建军 叶建东 文博 王荣华 张禹 陈敦军 江若琏 顾书林 施毅 张荣 郑有炓 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第z1期97-100,共4页
用MOCVD方法在α-Al2O3(0001)衬底上外延生长了InxGa1-xN合金薄膜.测量结果显示:所制备的InxGa1-xN样品中In的组分随外延生长温度而改变,生长温度由620℃升高到740℃,In的组分由0.72降低到0.27.这是由于衬底温度越高,In进入InxGa1-xN薄... 用MOCVD方法在α-Al2O3(0001)衬底上外延生长了InxGa1-xN合金薄膜.测量结果显示:所制备的InxGa1-xN样品中In的组分随外延生长温度而改变,生长温度由620℃升高到740℃,In的组分由0.72降低到0.27.这是由于衬底温度越高,In进入InxGa1-xN薄膜而成键的效率越低.样品的X射线衍射谱和X射线光电子能谱均显示:在生长温度为620℃和690℃时所生长的InxGa1-xN样品中均存在明显的In的表面分凝现象;而生长温度升至740℃时所得到的InxGa1-xN样品中,In的表面分凝现象得到了有效抑制.保持生长温度不变而将反应气体的Ⅴ/Ⅲ比从14000增加到38000,In的表面分凝现象也明显减弱.由此可以认为,较高的生长温度使得In原子的表面迁移能力增强,In原子从InxGa1-xN表面解吸附的几率增大,而较高的Ⅴ/Ⅲ比则能增加N与In成键几率,从而有利于抑制In的表面分凝. 展开更多
关键词 InxGa1-xn合金薄膜 表面分凝 Ⅴ/Ⅲ比
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GaN和AlxGa1-xN/CaN异质结的高温性质
3
作者 王茂俊 沈波 +5 位作者 王彦 黄森 许福军 许谏 杨志坚 张国义 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第z1期376-378,共3页
通过高温Hall测量研究了GaN和AlxGa1-xN/GaN异质结从室温到500℃高温下的输运性质.实验发现GaN背景载流子浓度随着温度的升高而升高,载流子浓度变化的幅度和GaN的位错密度存在正比关系,持续光电导的跃迁幅度和GaN的位错密度也存在正比关... 通过高温Hall测量研究了GaN和AlxGa1-xN/GaN异质结从室温到500℃高温下的输运性质.实验发现GaN背景载流子浓度随着温度的升高而升高,载流子浓度变化的幅度和GaN的位错密度存在正比关系,持续光电导的跃迁幅度和GaN的位错密度也存在正比关系,说明位错相关的深施主或者陷阱对GaN在高温下的背景浓度有很大影响.实验发现AlxGa1-xN/GaN异质结中二维电子气的浓度在室温到250℃的范围内随着温度的升高而下降,然后随着温度的升高开始增加.前者主要是由于随着温度的升高,AlxGa1-xN/GaN异质结的导带不连续减小引起的,后者主要是由GaN层背景载流子浓度增加导致的.通过求解自洽的薛定谔和泊松方程得到的二维电子气浓度的温度关系和实验结果一致. 展开更多
关键词 GAN AlxGa1-xn/GaN异质结 位错 HALL 高温
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化学法测定InxGa1-xN外延层中的In含量
4
作者 王雪蓉 刘运传 +3 位作者 王倩倩 周燕萍 姚凯 马衍东 《半导体技术》 CAS 北大核心 2020年第8期652-656,共5页
采用熔融氢氧化钠对生长在蓝宝石衬底上的InxGa1-xN外延层进行化学腐蚀,通过深紫外光致发光光谱仪测量InxGa1-xN的激发光谱来控制其腐蚀过程,用硫酸和氨水对腐蚀InxGa1-xN后得到的的腐蚀溶液进行酸度调节,加入碘化钾、乙基紫与铟离子形... 采用熔融氢氧化钠对生长在蓝宝石衬底上的InxGa1-xN外延层进行化学腐蚀,通过深紫外光致发光光谱仪测量InxGa1-xN的激发光谱来控制其腐蚀过程,用硫酸和氨水对腐蚀InxGa1-xN后得到的的腐蚀溶液进行酸度调节,加入碘化钾、乙基紫与铟离子形成蓝色的离子缔合物,用苯将离子缔合物萃取至有机相,采用分光光度计测量腐蚀溶液在619 nm波长处的吸光度来计算外延层中的In含量。使用该方法测试6次,测试结果的标准偏差为0.25%,测量结果与卢瑟福背散射法的测量结果基本一致,说明该方法具有较高的精密度和准确度。该方法可用于InxGa1-xN外延层中的In含量的准确测量。 展开更多
关键词 InxGa1-xn 分光光度法 化学腐蚀 化学法 缔合物
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纤锌矿InxGa1-xN/GaN量子阱中的界面声子-电子相互作用
5
作者 李伟 张芳 危书义 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2008年第1期43-47,共5页
在介电连续模型下,运用传递矩阵的方法研究了任意层纤锌矿量子阱中界面光学声子的电声相互作用,得出了任意层纤锌矿量子阱中界面光学声子与电子相互作用的哈密顿。结果表明,在对称单量子阱GaN/InxGa1-xN/GaN中,界面声子-电子相互作用的... 在介电连续模型下,运用传递矩阵的方法研究了任意层纤锌矿量子阱中界面光学声子的电声相互作用,得出了任意层纤锌矿量子阱中界面光学声子与电子相互作用的哈密顿。结果表明,在对称单量子阱GaN/InxGa1-xN/GaN中,界面声子-电子相互作用的耦合强度随组分x的变化差别很大;在对称单量子阱GaN/In0.8Ga0.2N/GaN中,不同的界面声子随着波数的变化对电声相互作用的贡献不同。 展开更多
关键词 GaN/InxGa1-xn/GaN 界面声子-电子相互作用 量子阱
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In气氛下晶体生长对Mg掺杂p-AlxGa1-xN激活能的影响
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作者 张延召 秦志新 +9 位作者 桑立雯 许正昱 于涛 杨子文 沈波 张国义 赵岚 张向锋 成彩晶 孙维国 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期91-95,共5页
Ⅲ-Ⅴ族氮化物宽禁带半导体材料体系中,普通方法生长的p型外延层电导率一般都很低,成为了制约器件性能提高的瓶颈。在p-AlxGa1-xN材料中,Mg受主的激活能较大,并且随Al组份增加而增大。通过在p-AlxGa1-xN材料生长过程中引入三甲基铟(TMI... Ⅲ-Ⅴ族氮化物宽禁带半导体材料体系中,普通方法生长的p型外延层电导率一般都很低,成为了制约器件性能提高的瓶颈。在p-AlxGa1-xN材料中,Mg受主的激活能较大,并且随Al组份增加而增大。通过在p-AlxGa1-xN材料生长过程中引入三甲基铟(TMIn),发现能有效地降低AlxGa1-xN材料中受主态的激活能。为研究不同In气氛下生长的p-AlxGa1-xN材料的性质,在使用相同二茂基镁(CP2Mg)的情况下,改变TMIn流量,生长了A,B,C和D四块样品。X射线衍射(XRD)组份分析表明:在1100℃下生长AlxGa1-xN外延层时,In的引入不会影响晶体组份。利用变温霍尔(Hall)测试研究了p-AlxGa1-xN材料中受主的激活能,结果表明:In气氛下生长的外延层相比无In气氛下生长的外延层,受主激活能明显降低,电导率显著提高。采用这种方法改进深紫外发光二极管(LED)的p-AlxGa1-xN层后,LED器件性能明显提高。 展开更多
关键词 p-AlxGa1-xn In气氛 激活能 深紫外LED
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Influence of Polarization-Induced Electric Field on Subband Structure in AlxGa1-xN/GaN Double Quantum Wells 被引量:1
7
作者 雷双英 沈波 张国义 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2006年第6期1574-1577,共4页
The influence of the polarization-induced electric field and other parameters on the subband structure in AlxGa1-x N /GaN coupled double quantum wells (DQWs) has been studied by solving the Schrodinger and Poisson e... The influence of the polarization-induced electric field and other parameters on the subband structure in AlxGa1-x N /GaN coupled double quantum wells (DQWs) has been studied by solving the Schrodinger and Poisson equations self-consistently. It is found that the polarization effect leads to an asymmetric potential profile of AlxGa1-xN/GaN DQ, Ws although the two wells have the same width and depth. The polarization effect also leads to a very large Stark shift between the odd and the even order subband levels that can reach 0.54eV. Due to the polarization-induced Stark shift, the wavelength of the intersubband transition between the first odd order and the second even order subband levels becomes smaller, which is useful for realization of optoelectronic devices operating within the telecommunication window region. 展开更多
关键词 偏振感应电场 次带结构 AlxGa1-xn/GaN双量子阱 量子论
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InxGa1-xN/GaN柱形量子点中电子的能级研究
8
作者 蔡昌梅 《长江大学学报(自科版)(上旬)》 CAS 2008年第3期19-21,共3页
在有效质量的理论框架下,考虑量子点的三维约束效应,研究了InxGa1-xN/GaN柱形量子点中电子的能级,讨论了柱形量子点中电子的基态(m=0)和激发态(m=1)能量以及柱形量子点的电子云概率密度。计算结果发现,InxGa1-xN/GaN量子点中... 在有效质量的理论框架下,考虑量子点的三维约束效应,研究了InxGa1-xN/GaN柱形量子点中电子的能级,讨论了柱形量子点中电子的基态(m=0)和激发态(m=1)能量以及柱形量子点的电子云概率密度。计算结果发现,InxGa1-xN/GaN量子点中电子Z方向的能量较大,Z方向越窄,其能量越大,径方向能量与角动量量子数m、径向半径R有关,角量子数m越大,能级越高,当角量子数m确定后,量子点的能量与径向半径R有关,径向半径越大,能量越小。当柱形量子点处于基态时,其电子云概率密度分布呈类椭圆形,越靠近中心处概率密度越大,并随着径向坐标ρ的增大而减小。 展开更多
关键词 量子点 InxGa1-xn/GaN 电子能级
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高Al组分N-Al_xGa_(1-x)N材料的欧姆接触 被引量:4
9
作者 王玲 许金通 +3 位作者 陈俊 陈杰 张燕 李向阳 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2007年第B09期967-970,共4页
基于各层金属间在快速热退火时容易合金化及Ti,Al易被氧化的特点,在高Al组分N-AlxGa1-xN(x≥0.45)材料上溅射生长多层金属Ti/Al/Ti/Au,并且变化Ti,Al比例以及改变退火温度和时间,得到了金属与高Al组分N-AlxGa1-xN(x≥0.45)材料间的欧姆... 基于各层金属间在快速热退火时容易合金化及Ti,Al易被氧化的特点,在高Al组分N-AlxGa1-xN(x≥0.45)材料上溅射生长多层金属Ti/Al/Ti/Au,并且变化Ti,Al比例以及改变退火温度和时间,得到了金属与高Al组分N-AlxGa1-xN(x≥0.45)材料间的欧姆接触,由传输线模型方法测试得比接触电阻为4.9×10-2Ω.cm2。实验中用到的样品为P(Al0.45Ga0.55N)/i(Al0.45Ga0.55N)/N-Al0.63Ga0.37N多层结构的材料。最后,利用伏安特性和俄歇电子能谱深度分布(AES)研究金属与高Al组分的材料之间形成欧姆接触的原因。 展开更多
关键词 欧姆接触 高Al组分 N—AlxGa1-xn材料
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纤锌矿In-xGa_(1-x)N/GaN量子阱中的界面声子模 被引量:7
10
作者 危书义 张芳 +2 位作者 黄文登 李伟 赵旭 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2006年第4期336-342,共7页
采用赝原胞模型计算讨论纤锌矿InxGa1-xN混晶性质;基于宏观介电连续模型的传递矩阵方法研究任意层纤锌矿量子阱中的界面声子,得出任意层纤锌矿量子阱中的界面声子的本征模解和单量子阱的色散关系,并对InxGa1-xN/GaN单量子阱界面声子的... 采用赝原胞模型计算讨论纤锌矿InxGa1-xN混晶性质;基于宏观介电连续模型的传递矩阵方法研究任意层纤锌矿量子阱中的界面声子,得出任意层纤锌矿量子阱中的界面声子的本征模解和单量子阱的色散关系,并对InxGa1-xN/GaN单量子阱界面声子的色散关系进行了数值计算和讨论。结果表明,纤锌矿InxGa1-xN混晶中的E1声子和A1声子都表现为单模行为;在对称非应变单量子阱GaN/InxGa1-xN/GaN中,界面声子频率随x的变化呈线性关系。 展开更多
关键词 InxGa1-xn/GaN 界面声子 量子阱
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Al_xGa_(1-x)N日盲紫外探测器及其焦平面阵列 被引量:5
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作者 赵文伯 赵红 +7 位作者 叶嗣荣 黄烈云 唐遵烈 罗木昌 杨晓波 廖秀英 向勇军 邹泽亚 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2009年第1期21-24,共4页
报道了320×256元AlxGa1-xN日盲型紫外探测器及其焦平面阵列探测器的研制情况,介绍了材料生长、器件制备工艺和器件的光电特性。器件的开启电压大于3.5V,-0.5V偏压时暗电流小于1.2×10^-12A(φ=300ttm台面),光谱响应范... 报道了320×256元AlxGa1-xN日盲型紫外探测器及其焦平面阵列探测器的研制情况,介绍了材料生长、器件制备工艺和器件的光电特性。器件的开启电压大于3.5V,-0.5V偏压时暗电流小于1.2×10^-12A(φ=300ttm台面),光谱响应范围260~280nm,268nm峰值波长的响应度大于0.095A/W。器件实现了日盲紫外成像演示。 展开更多
关键词 ALXGA1-xn 日盲探测器 紫外焦平面阵列 PIN光电二极管
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MOCVD生长In_xGa_(1-x)N薄膜的表征 被引量:2
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作者 李亮 张荣 +11 位作者 谢自力 张禹 修向前 刘成祥 毕朝霞 陈琳 刘斌 俞慧强 韩平 顾书林 施毅 郑有炓 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第6期1118-1121,共4页
本文利用MOCVD方法在(0001)取向的蓝宝石衬底上实现了不同生工艺条件下的InxGa1-xN薄膜的制备,并通过XRD、SEM、AFM等测量分析方法系统研究了生长工艺参数对InxGa1-xN薄膜的组分和性质的影响。InxGa1-xN薄膜的制备包括蓝宝石衬底表面上... 本文利用MOCVD方法在(0001)取向的蓝宝石衬底上实现了不同生工艺条件下的InxGa1-xN薄膜的制备,并通过XRD、SEM、AFM等测量分析方法系统研究了生长工艺参数对InxGa1-xN薄膜的组分和性质的影响。InxGa1-xN薄膜的制备包括蓝宝石衬底表面上GaN缓冲层的生长以及缓冲层上InxGa1-xN薄膜的沉积两个过程。通过对所制备InxGa1-xN薄膜的XRD、SEM、AFM分析发现,调节生长温度和TMGa的流量可以有效控制InxGa1-xN薄膜中In的组分,并且随着生长温度的升高,InxGa1-xN薄膜的表面缺陷减少。 展开更多
关键词 MOCVD InxGa1-xn 薄膜 缓冲层
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炮钢表面多弧离子镀两种Ti_xAl_(1-x)N薄膜的高温氧化性能 被引量:2
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作者 张健 韩继龙 +3 位作者 郭策安 卢旭东 金浩 郭秋萍 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第14期14107-14111,共5页
用多弧离子镀技术在炮钢表面沉积两种TixAl1-xN薄膜,薄膜在空气中850℃恒温氧化10h,采用XRD、SEM和EDS对薄膜微观结构进行分析,检测其恒温抗氧化性能。结果表明,Ti0.5Al0.5N薄膜的抗高温氧化性能明显优于Ti0.7Al0.3N薄膜。Ti0.7Al0.3N... 用多弧离子镀技术在炮钢表面沉积两种TixAl1-xN薄膜,薄膜在空气中850℃恒温氧化10h,采用XRD、SEM和EDS对薄膜微观结构进行分析,检测其恒温抗氧化性能。结果表明,Ti0.5Al0.5N薄膜的抗高温氧化性能明显优于Ti0.7Al0.3N薄膜。Ti0.7Al0.3N薄膜由于基体Fe元素扩散至薄膜表面,使其表面形成Fe2O3和Fe3O4氧化物,导致薄膜过早失效;而Ti0.5Al0.5N薄膜的表面形成致密且粘附性好的Al2O3和TiO2混合氧化物,表现出优良的抗高温氧化性,同时基体元素和薄膜元素的适度扩散能提高薄膜与基体的结合力。 展开更多
关键词 炮钢 多弧离子镀 TixAl1-xn 高温氧化
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应变对Al_xGa_(1-x)N能带间隙弯曲系数和能带结构的影响 被引量:1
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作者 黄琨 范广涵 +4 位作者 谭春华 李述体 吴文光 李华兵 雷勇 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2005年第4期320-322,326,共4页
在生长AlxGa1-xN外延层过程中,由于外延层的热膨胀系数和晶格常数与衬底的不同,导致许多残留应变产生,这会影响外延层材料的能带结构和跃迁能。从理论上分析了在赝形应变下AlGaN的能带结构和弯曲系数,并通过对AlxGa1-xN能带间隙的理论... 在生长AlxGa1-xN外延层过程中,由于外延层的热膨胀系数和晶格常数与衬底的不同,导致许多残留应变产生,这会影响外延层材料的能带结构和跃迁能。从理论上分析了在赝形应变下AlGaN的能带结构和弯曲系数,并通过对AlxGa1-xN能带间隙的理论结果和实验结果分析比较,得出的能带间隙的弯曲系数与已有文献报道的实验结果相吻合。 展开更多
关键词 ALXGA1-xn 弯曲系数 晶格常数 应变
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高Al组分Al_xGa_(1-x)N薄膜的弹性-塑性力学性质 被引量:1
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作者 许福军 沈波 +7 位作者 王茂俊 许谏 苗振林 杨志坚 秦志新 张国义 蔺冰 白树林 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第10期1551-1554,共4页
采用纳米压痕方法,研究了AlN/spphire模板上的高Al组分AlxGa1-xN薄膜的力学性质,特别是弹性-塑性转变行为.研究表明,AlxGa1-xN薄膜的杨氏模量E随着Al组分的增加而增大,薄膜中产生塑性形变所必要的剪切应力也随着Al组分的增加而增大.在Al... 采用纳米压痕方法,研究了AlN/spphire模板上的高Al组分AlxGa1-xN薄膜的力学性质,特别是弹性-塑性转变行为.研究表明,AlxGa1-xN薄膜的杨氏模量E随着Al组分的增加而增大,薄膜中产生塑性形变所必要的剪切应力也随着Al组分的增加而增大.在AlxGa1-xN薄膜纳米压痕实验中,观察到位移不连续的跳断('pop-in')行为,并且发现'pop-in'行为强烈依赖于Al组分,Al组分的增加导致这种行为的减少.我们认为随着Al组分的增加,AlxGa1-xN中键能的增强和由于AlxGa1-xN与AlN/sapphire模板之间晶格失配减少这两个因素增加了AlxGa1-xN中新位错形成的阻力,从而导致了AlxGa1-xN薄膜中的'pop-in'行为随Al组分增加而减少. 展开更多
关键词 AlxGa1-xn薄膜 杨氏模量 力学性质 塑性形变
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MOCVD制备In_xGa_(1-x)N/GaN MQWs的温度依赖性 被引量:2
16
作者 李培咸 郝跃 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第1期34-38,共5页
利用方势阱模型对Inx Ga1-xN/GaN MQWs结构的光特性进行了量子力学定性理论分析.并在MO源流量恒定条件下,在570℃~640℃范围内进行了不同生长温度的多量子阱制备实验,对Inx Ga1-xNs制备过程中的In组份掺入效率的温度依赖关系进行... 利用方势阱模型对Inx Ga1-xN/GaN MQWs结构的光特性进行了量子力学定性理论分析.并在MO源流量恒定条件下,在570℃~640℃范围内进行了不同生长温度的多量子阱制备实验,对Inx Ga1-xNs制备过程中的In组份掺入效率的温度依赖关系进行研究.通过对制备样品的PL谱测量分析,得到了587℃~600℃的In组份最佳掺入温度区间. 展开更多
关键词 MOCVD INX Ga1-xn GAN MQWs 生长温度
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GaN/Al_xGa_(1-x)N量子点中类氢杂质的结合能 被引量:5
17
作者 郑冬梅 戴宪起 《贵州师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2006年第1期64-68,共5页
利用有效质量方法和变分原理,考虑内建电场(BEF)效应和量子点的三维约束效应,研究了纤锌矿结构的GaN/A lxGa1-xN柱形量子点中类氢杂质的结合能随量子点高度、A l含量和杂质位置的变化规律。结果表明:类氢杂质位于量子点中心时,杂质结合... 利用有效质量方法和变分原理,考虑内建电场(BEF)效应和量子点的三维约束效应,研究了纤锌矿结构的GaN/A lxGa1-xN柱形量子点中类氢杂质的结合能随量子点高度、A l含量和杂质位置的变化规律。结果表明:类氢杂质位于量子点中心时,杂质结合能随量子点高度的增加先增大后减小,存在最大值;随着A l含量的增加,杂质结合能增大。而杂质从量子点下界面沿Z轴上移至上界面时,杂质结合能先增大后减小,存在最大值。 展开更多
关键词 类氢杂质 GaN/Alx Ga1-xn量子点 结合能
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Pb(Zr0.53Ti0.47)O3/AlxGa1-xN/GaN异质结构的电容-电压特征(英文) 被引量:1
18
作者 沈波 李卫平 +10 位作者 周玉刚 毕朝霞 张荣 郑泽伟 刘杰 周慧梅 施毅 刘治国 郑有炓 Someya T Arakawa Y 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第S1期57-60,共4页
通过在调制掺杂Al0 2 2 Ga0 78N/GaN异质结构上淀积Pb(Zr0 53 Ti0 4 7)O3 (PZT)铁电薄膜 ,我们发展了一种基于AlxGa1-xN/GaN异质结构的金属 铁电 半导体 (MFS)结构。在高频电容 电压 (C V)特性测量中 ,发现Al0 2 2 Ga0 78N/GaN... 通过在调制掺杂Al0 2 2 Ga0 78N/GaN异质结构上淀积Pb(Zr0 53 Ti0 4 7)O3 (PZT)铁电薄膜 ,我们发展了一种基于AlxGa1-xN/GaN异质结构的金属 铁电 半导体 (MFS)结构。在高频电容 电压 (C V)特性测量中 ,发现Al0 2 2 Ga0 78N/GaN异质界面二维电子气 ( 2DEG)的浓度在 -1 0V偏压下从 1 5 6× 1 0 13 cm-2 下降为 5 6× 1 0 12 cm-2 。由于PZT薄膜的铁电极化 ,在 -1 0V偏压下可以观察到宽度为 0 2V的铁电C V窗口 ,表明在没有铁电极化方向反转的条件下 ,PZT/AlxGa1-xN/GaNMFS结构也能出现存储特性。因为 2DEG带来的各种优点 ,可以认为AlxGa1-xN/GaN异质结构在以存储器为目标的MFS场效应晶体管中有重要应用。 展开更多
关键词 C-V特性 Pb(ZrTi)O3 铁电薄膜 ALXGA1-xn/GAN
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In_xGa_(1-x)N/GaN量子点中类氢杂质态结合能 被引量:3
19
作者 郑冬梅 戴宪起 《三明学院学报》 2008年第2期144-148,共5页
在有效质量近似下,运用变分方法,考虑内建电场(BEF)效应和量子点的三维约束效应,研究了纤锌矿结构的InxGa1-xN/GaN柱形量子点中类氢杂质态结合能随量子点的结构参数(高度、半径)I、n组分和杂质位置的变化规律。结果表明:类氢杂质位于量... 在有效质量近似下,运用变分方法,考虑内建电场(BEF)效应和量子点的三维约束效应,研究了纤锌矿结构的InxGa1-xN/GaN柱形量子点中类氢杂质态结合能随量子点的结构参数(高度、半径)I、n组分和杂质位置的变化规律。结果表明:类氢杂质位于量子点中心时,杂质态结合能随量子点高度的增加先增大后减小,存在最大值;随量子点半径增大而减小;而随着In组分的增加,杂质态结合能增大;杂质从量子点下界面沿z轴移至上界面过程中,杂质态结合能增大;量子点内外材料的电子有效质量的失配使杂质态结合能减小。 展开更多
关键词 类氢杂质态 InxGa1-xn/GaN量子点 结合能
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类氢杂质对In_xGa_(1-x)N/GaN量子点中激子的基态能和结合能的影响 被引量:1
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作者 郑冬梅 戴宪起 黄凤珍 《三明学院学报》 2005年第4期365-369,共5页
在效质量近似下,运用变分方法,考虑内建电场效应和量子点的三维约束效应,研究了类氢杂质对InxGa1-xN/GaN量子点中激子的基态能和结合能的影响。结果表明:量子点中心引入类氢杂质,量子点的结构参数(半径、高度)和In含量存在临界值,当参... 在效质量近似下,运用变分方法,考虑内建电场效应和量子点的三维约束效应,研究了类氢杂质对InxGa1-xN/GaN量子点中激子的基态能和结合能的影响。结果表明:量子点中心引入类氢杂质,量子点的结构参数(半径、高度)和In含量存在临界值,当参数大于临界值时,约束在QD中激子的基态能减小,结合能增大,激子态的稳定性增强。杂质位于量子点上界面时,激子的基态能最小,结合能最大,系统最稳定。随着杂质从量子点的上界面沿着Z轴移至下界面,激子基态能增大,结合能减小。 展开更多
关键词 类氢杂质 InxGa1-xn/GaN量子点 激子基态能 激子结合能
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