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Influence of N2 flow rate on structure and properties of TiBCN films prepared by multi-cathodic arc ion plating and studied with ion beam scattering spectroscopy
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作者 Bin Han Ze-Song Wang +4 位作者 D. Neena Bao-Zhu Lin Bing Yang Chuan-Sheng Liu De-Jun Fu 《Nuclear Science and Techniques》 SCIE CAS CSCD 2017年第5期9-17,共9页
TiBCN films were deposited on Si(100) and cemented carbide substrates by using multi-cathodic arc ion plating in C_2H_2 and N_2atmosp^here. Their structure and mechanical properties were studied systematically under d... TiBCN films were deposited on Si(100) and cemented carbide substrates by using multi-cathodic arc ion plating in C_2H_2 and N_2atmosp^here. Their structure and mechanical properties were studied systematically under different N_2 flow rates. The results showed that the Ti BCN films were adhered well to the substrates. Rutherford backscattering sp^ectroscopy was employed to determine the relative concentration of Ti, B, C and N in the films.The chemical bonding states of the films were explored by X-ray photoelectron sp^ectroscopy, revealing the presence of bonds of Ti N, Ti(C,N), BN, pure B, sp^2C–C and sp^3C–C, which changed with the N_2 flow rate. Ti BCN films contain nanocrystals of Ti N/Ti CN and Ti B_2/Ti(B,C)embedded in an amorphous matrix consisting of amorphous BN and carbon at N_2 flow rate of up to 250 sccm. 展开更多
关键词 TiBCn nanocomposite n2 flow rate RUTHERFORD BACKSCATTERInG SPECTROSCOPY (RBS) X-ray PHOTOELECTROn SPECTROSCOPY
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The Effect of Gas Flow Rate on Radio-Frequency Hollow Cathode Discharge Characteristics 被引量:1
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作者 赵国明 孙倩 +2 位作者 赵书霞 高书侠 张连珠 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第7期669-676,共8页
It is known that gas flow rate is a key factor in controlling industrial plasma processing. In this paper, a 2D PIC/MCC model is developed for an rf hollow cathode discharge with an axial nitrogen gas flow. The effect... It is known that gas flow rate is a key factor in controlling industrial plasma processing. In this paper, a 2D PIC/MCC model is developed for an rf hollow cathode discharge with an axial nitrogen gas flow. The effects of the gas flow rate on the plasma parameters are calculated and the results show that: with an increasing flow rate, the total ion(N+2, N+) density decreases, the mean sheath thickness becomes wider, the radial electric field in the sheath and the axial electric field show an increase, and the energies of both kinds of nitrogen ions increase;and, as the axial ion current density that is moving toward the ground electrode increases, the ion current density near the ground electrode increases. The simulation results will provide a useful reference for plasma jet technology involving rf hollow cathode discharges in N2. 展开更多
关键词 gas flow rate rf hollow cathode discharge PIC/MCC simulation n2 plasma
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Ar/N_2气体比例对ZrN/WTiN纳米多层膜的影响
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作者 王明霞 李德军 《天津师范大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2010年第3期31-34,共4页
选择ZrN和WTi N作为个体层材料,利用超高真空射频磁控溅射系统制备ZrN,WTi N和一系列的ZrN/WTi N纳米多层薄膜.通过X射线衍射仪(XRD)和纳米力学测试系统分析制备参数中Ar/N2气体比例对多层膜结构与机械性能的影响.结果表明:多层膜的纳... 选择ZrN和WTi N作为个体层材料,利用超高真空射频磁控溅射系统制备ZrN,WTi N和一系列的ZrN/WTi N纳米多层薄膜.通过X射线衍射仪(XRD)和纳米力学测试系统分析制备参数中Ar/N2气体比例对多层膜结构与机械性能的影响.结果表明:多层膜的纳米硬度值普遍高于2种个体材料混合相的硬度值;当FAr∶FN2=5时,ZrN/WTi N纳米多层薄膜出现了ZrN(111),Ti N(111)衍射峰和非晶态,多层膜体系的硬度、应力和弹性模量均达到最佳效果. 展开更多
关键词 射频磁控溅射 Zrn/WTin多层膜 ar/n2气体比例
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N_2流量对反应共溅射TiN/Ni纳米复合膜结构和结合强度的影响 被引量:7
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作者 贺春林 高建君 +3 位作者 王苓飞 马国峰 刘岩 王建明 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第12期2038-2042,共5页
以高纯Ti和Ni为靶材,在不同N_2气流量下反应磁控共溅射了TiN/Ni纳米复合膜,采用原子力显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱、场发射扫描电镜和划痕试验研究了N_2气流量对复合膜微结构、界面结合力和摩擦系数的影响。结果表明,共溅射TiN... 以高纯Ti和Ni为靶材,在不同N_2气流量下反应磁控共溅射了TiN/Ni纳米复合膜,采用原子力显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱、场发射扫描电镜和划痕试验研究了N_2气流量对复合膜微结构、界面结合力和摩擦系数的影响。结果表明,共溅射TiN/Ni纳米复合膜组织细小、表面光滑、致密。TiN为fcc结构,其择优取向为(111)面。随N_2气流量增加,复合膜孔隙率、晶粒尺寸和沉积速率均出现不同程度的下降;而膜表面粗糙度先减小后增大,界面结合力则先提高后下降。本实验条件下,在N_2气流量为16mL/min时所沉积的复合膜表面粗糙度最小、界面结合力最好,分别为2.75nm和44.6N,此时复合膜的摩擦系数最低,为0.14。 展开更多
关键词 Tin/ni 纳米复合膜 反应磁控共溅射 微结构 n2流量 界面结合力
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退火Ar流速对VO_(2)薄膜热致变色光学性能的影响研究
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作者 王嘉威 尤子未 +2 位作者 许嘉俊 郑嘉俊 李派 《湖北大学学报(自然科学版)》 CAS 2022年第6期721-726,共6页
本工作采用溶胶-凝胶法,以石英玻璃为衬底,乙酰丙酮氧钒(VO(acac)_(2))为钒源,高纯Ar为保护气体,在真空管式炉中以不同流速的Ar气氛下进行退火处理,制备出一系列具有不同热致变色性能的VO_(2)薄膜.采用XRD、FE-SEM、XPS、紫外-可见-近... 本工作采用溶胶-凝胶法,以石英玻璃为衬底,乙酰丙酮氧钒(VO(acac)_(2))为钒源,高纯Ar为保护气体,在真空管式炉中以不同流速的Ar气氛下进行退火处理,制备出一系列具有不同热致变色性能的VO_(2)薄膜.采用XRD、FE-SEM、XPS、紫外-可见-近红外光谱仪表征薄膜的结构、表面形貌、V元素的价态、热致变色光学性能.结果表明:随着Ar流速的上升,VO_(2)薄膜的结晶质量持续下降,薄膜的近红外调节能力先上升后下降.当Ar流速为225 mL/min时,制备的VO_(2)薄膜综合性能最优:近红外调控效率(ΔT_(IR))达到20.2%,可见光透过率(T_(lum))为55.5%. 展开更多
关键词 VO_(2)薄膜 ar流速 ΔT_(IR) T_(lum) 智能窗涂层
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磁控溅射TiN薄膜的工艺及电学性能研究 被引量:14
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作者 胡敏 刘莹 +2 位作者 赖珍荃 刘倩 朱秀榕 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期222-225,共4页
采用反应直流磁控溅射法,在Si基底上制备TiN薄膜。研究了溅射沉积过程申溅射气压和Ar/N2气体流量比对TiN薄膜结构及其电学性能的影响,并对试验结果进行了分析。研究发现,在Ar/N2气体流量比为15:1时,TiN薄膜的表面均方根粗糙度和... 采用反应直流磁控溅射法,在Si基底上制备TiN薄膜。研究了溅射沉积过程申溅射气压和Ar/N2气体流量比对TiN薄膜结构及其电学性能的影响,并对试验结果进行了分析。研究发现,在Ar/N2气体流量比为15:1时,TiN薄膜的表面均方根粗糙度和电阻率都为最小。当溅射气压增大时,薄膜厚度减小。当溅射气压为0.3~0.5Pa时,薄膜表面较光滑,电阻率较小。 展开更多
关键词 TIn薄膜 磁控溅射 氩气/氮气流量比 溅射气压 电学性能
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工艺参数对直流溅射沉积CrAlN涂层结构和性能的影响 被引量:11
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作者 郑康培 刘平 +4 位作者 李伟 马凤仓 杨丽红 刘新宽 陈小红 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第5期545-549,共5页
采用直流反应磁控溅射的方式,用AlCr合金靶,在高速钢(M2)上沉积CrAlN涂层。采用扫描电镜、X射线衍射、能谱和纳米压痕仪等分析和测量手段,系统研究了Ar/N2气流比、气压和基片温度等工艺参数对CrAlN涂层结构和性能的影响。研究表明,Ar/N... 采用直流反应磁控溅射的方式,用AlCr合金靶,在高速钢(M2)上沉积CrAlN涂层。采用扫描电镜、X射线衍射、能谱和纳米压痕仪等分析和测量手段,系统研究了Ar/N2气流比、气压和基片温度等工艺参数对CrAlN涂层结构和性能的影响。研究表明,Ar/N2气流比、气压和基片温度对涂层均有较大的影响,当Ar/N2气流比为1、总气压为0.2 Pa、基片温度为300℃时所得涂层性能最好,最高硬度和弹性模量分别为34.8,434.3 GPa。 展开更多
关键词 CrAln涂层 磁控溅射 ar/n2气流比 气压 基片温度
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气体流量对磁控溅射氮化镍薄膜对电极性能的影响
8
作者 何万霞 时方晓 《浙江化工》 CAS 2024年第3期6-11,共6页
目的:开发性能卓越、成本经济的对电极,优化氮化镍薄膜制备工艺。方法:使用直流磁控反应溅射技术探究气体(氮气、氩气)流量对薄膜对电极的性能及组装成染料敏化太阳能电池的光电转化效率的影响。利用X射线衍射仪分析薄膜物相组成、紫外... 目的:开发性能卓越、成本经济的对电极,优化氮化镍薄膜制备工艺。方法:使用直流磁控反应溅射技术探究气体(氮气、氩气)流量对薄膜对电极的性能及组装成染料敏化太阳能电池的光电转化效率的影响。利用X射线衍射仪分析薄膜物相组成、紫外-可见分光光度计对薄膜透光度进行分析、太阳光模拟器和数字源表测定电池的光电转换效率。结果:氮化镍薄膜为四方相Ni2N物质,在通入固定Ar流量(16 mL·min^(-1))的条件下,电池光电转换效率随N2通入量的增加而增加;在通入固定N2流量(10 mL·min^(-1))的条件下,电池光电转换效率随Ar通入量的增加而减小,未通入Ar时为最优(η=2.87%),这与Ar流量为16 mL·min^(-1)、N2流量为10 mL·min^(-1)条件下的电池光电转换效率非常接近,但制备成本更低。此时薄膜透光率接近40%,满足将其作为半透明光伏窗以实现绿色低碳建筑的要求。结论:半透明光伏窗不仅具备窗户的采光功能,还能通过光伏组件发电以降低能耗,为染料敏化太阳能电池和光伏建筑一体化技术相结合提供了可能性,具备较大的节能潜力。 展开更多
关键词 过渡金属氮化物 对电极 磁控溅射 光电转化效率 ar流量 n2流量
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Mechanical and Tribological Properties of CrN Coated Inconel X750 被引量:1
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作者 刘吉良 廖日东 +2 位作者 LIAO Bin LUO Jun BAO Ke 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2019年第4期804-810,共7页
Three CrN coatings were deposited on the Inconel X750 through the metal vapor vacuum arc ion implantation and the magnetic filtered cathodic vacuum arc deposition system(MEVVA-FCVA) with the N2 flow rates of 10,50,and... Three CrN coatings were deposited on the Inconel X750 through the metal vapor vacuum arc ion implantation and the magnetic filtered cathodic vacuum arc deposition system(MEVVA-FCVA) with the N2 flow rates of 10,50,and 100sccm, respectively.The surface morphologies and cross-section morphologies of the CrN coatings were obtained through scanning electron microscopy(SEM) and an optical profilometer.The microstructures of the coatings were characterized through X-ray diffraction(XRD).The hardness and the elastic modulus of the coatings were tested by a nano-hardness tester.The adhesion strength and friction coefficients were investigated through scratch tests and ball-on-disk tests and the wear tracks were tested by the optical profilometer. The experimental results indicate that the CrN coating deposited on the Inconel X750 substrate displays a uniform thickness and a smooth surface. The mechanical properties behaves well as the N2 flow rate varies.The CrN coating significantly reduces the friction coefficient fluctuation and improves the antiadhesion and anti-wear properties of the Inconel X750. 展开更多
关键词 InCOnEL X750 n2 flow rate CRn coating MECHAnICAL PROPERTIES TRIBOLOGICAL PROPERTIES
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多弧离子镀TiN涂层的N_2/Ar流量参数研究 被引量:1
10
作者 陈昌浩 金永中 +3 位作者 陈建 蔡瑜 余学金 龙国俊 《粉末冶金工业》 CAS 北大核心 2016年第3期44-48,共5页
利用多弧离子镀在硬质合金基体上制备TiN涂层,研究了N_2/Ar流量比对TiN涂层表面大颗粒分布与力学性能的影响。通过扫描电镜观察TiN涂层的表面形貌,并利用Image J图像处理软件对大颗粒的数量和尺寸进行了分析,通过自动划痕仪和纳米压痕... 利用多弧离子镀在硬质合金基体上制备TiN涂层,研究了N_2/Ar流量比对TiN涂层表面大颗粒分布与力学性能的影响。通过扫描电镜观察TiN涂层的表面形貌,并利用Image J图像处理软件对大颗粒的数量和尺寸进行了分析,通过自动划痕仪和纳米压痕仪对涂层的力学性能进行表征。结果表明:随着N2流量的增加,涂层表面沉积颗粒的最大直径和平均直径逐渐减小,涂层的附着力整体呈现增加趋势,显微硬度则先增大后减小。 展开更多
关键词 多弧离子镀 TIn涂层 n2/ar流量比 大颗粒 力学性能
原文传递
氮流量对孪生靶磁控溅射沉积氮化铬薄膜性能的影响 被引量:2
11
作者 袁燕 李花 +3 位作者 张海宝 杨丽珍 刘忠伟 陈强 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第12期1381-1386,共6页
采用中频孪生靶反应磁控溅射在金属镍基底上制备氮化铬薄膜。利用X射线衍射仪、显微硬度计、扫描电子显微镜、原子力显微镜、磨擦磨损试验仪和电化学工作站等系统研究了氮气流量(即氮/氩流量比)对薄膜的相结构、显微硬度、表面形貌、附... 采用中频孪生靶反应磁控溅射在金属镍基底上制备氮化铬薄膜。利用X射线衍射仪、显微硬度计、扫描电子显微镜、原子力显微镜、磨擦磨损试验仪和电化学工作站等系统研究了氮气流量(即氮/氩流量比)对薄膜的相结构、显微硬度、表面形貌、附着力、耐磨性和耐腐蚀性的影响。结果得到随氮/氩流量比的增加,CrN_x薄膜成分经历了一个由Cr→Cr+Cr N→Cr+Cr_2N+Cr N的演化过程,薄膜形貌由致密、球状颗粒向类长方体规则形状的面心结构转化;而薄膜的表面粗糙度则呈现出在低氮时稍微下降,高氮含量时又快速增加的趋势,在N_2/Ar流量比为23/53时,粗糙度达到最小;耐磨性、硬度都呈现随着氮流量的增加先上升后下降;薄膜耐腐蚀性能随氮的加入明显得到改善。综合性能分析认为,制备2.5μm厚的氮化铬薄膜时在N_2/Ar(流量比)为23/53较为合适。 展开更多
关键词 磁控溅射 氮化铬薄膜 氮流量比 孪生靶
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一测多评法同时测定保肾乙丸中5种蒽醌类成分的含量 被引量:8
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作者 常志惠 胡军华 +2 位作者 万亚菲 孙雷雷 王铀生 《中国药房》 CAS 北大核心 2016年第36期5156-5159,共4页
目的:建立同时测定保肾乙丸中芦荟大黄素、大黄酸、大黄素、大黄酚、大黄素甲醚5种蒽醌类成分含量的方法。方法:采用高效液相色谱法,以大黄素为基准峰,分别计算其与芦荟大黄素、大黄酸、大黄酚、大黄素甲醚的相对校正因子(RCF),通过... 目的:建立同时测定保肾乙丸中芦荟大黄素、大黄酸、大黄素、大黄酚、大黄素甲醚5种蒽醌类成分含量的方法。方法:采用高效液相色谱法,以大黄素为基准峰,分别计算其与芦荟大黄素、大黄酸、大黄酚、大黄素甲醚的相对校正因子(RCF),通过RCF计算保肾乙丸中上述5种蒽醌类成分的含量。色谱柱为Waters Symmetry C18,流动相为甲醇-0.1%磷酸溶液(70∶30,V/V),流速为1.0 ml/min,检测波长为254 nm,柱温为30℃,进样量为10μl。结果:芦荟大黄素、大黄酸、大黄素、大黄酚、大黄素甲醚检测质量浓度线性范围分别为5.83186.6μg/ml(r=0.999 7)、9.39300.5μg/ml(r=0.999 5)、9.55305.6μg/ml(r=0.999 9)、10.23327.4μg/ml(r=0.999 9)、4.01128.4μg/ml(r=0.999 4);定量限分别为364.4、880.2、596.9、319.7、501.3 ng,检测限分别为109.3、293.4、179.1、95.91、150.4 ng;精密度、稳定性、重复性试验的RSD〈2.0%;加样回收率分别为96.38%100.90%(RSD=1.62%,n=6)、97.72%101.75%(RSD=1.44%,n=6)、97.66%102.34%(RSD=1.63%,n=6)、97.33%101.91%(RSD=1.75%,n=6)、97.78%100.74%(RSD=1.19%,n=6)。大黄素与芦荟大黄素、大黄酸、大黄酚、大黄素甲醚间的RCF分别为1.217 7、1.153 4、1.424 2、1.034 5。结论:该方法准确可靠、操作简便快捷,可用于同时测定保肾乙丸中芦荟大黄素、大黄酸、大黄素、大黄酚、大黄素甲醚5种蒽醌类成分的含量。 展开更多
关键词 保肾乙丸 一测多评法 蒽醌类成分 高效液相色谱法
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