蓝宝石衬底片的精密加工

对SiO2磨料抛光蓝宝石衬底片进行了研究。结果表明,采用大粒径、高浓度的SiO2磨料抛光,可以获得良好的表面状态和较高的去除速率。抛光的适宜温度及pH值条件为:T=30℃;12.0>pH值≥9.0。并且,在抛光时应加入适量添加剂,方可获得较为理想的表面状态和较高的去除速率。实验同样证明,这种低成本、高质量的抛光除了可以应用于蓝宝石的抛光以外,还可以应用在其它一些硬质材料的抛光工艺中。

蓝宝石衬底片化学机械抛光的研究

为了提高蓝宝石化学机械抛光（CMP）效果，对其抛光工艺进行了研究。采用SiO2磨料对蓝宝石衬底片进行抛光，分析了抛光时的温度、pH条件、磨料粒径及浓度，结果表明，采用80nm大粒径、高浓度的SiO2磨料，既可以保证抛光速率，又能得到良好的表面状；当pH值在10～12时，可加速蓝宝石在碱性条件下的化学反应速率，从而提高抛光速率；在30℃时，能较好地平衡化学作用与机械作用，获得平滑表面；加入适量添加剂，可增大反应产物的体积，易于提高机械作用的效果，以获得较高的去除速率。

蓝宝石衬底的化学机械抛光工艺研究

对蓝宝石衬底片的化学机械抛光进行了研究。系统地分析了蓝宝石抛光工艺过程的性能参数,通过大量实验,总结出了其影响因素并提出了优化方案。结果表明,采用粒径为40nm、低分散度的二氧化硅溶胶磨料并配合以适当参数进行抛光,可以获得良好的表面状态和较高的去除速率。能够有效地提高蓝宝石表面的性能及加工效率。

蓝宝石衬底纳米级超光滑表面加工工艺研究

通过对蓝宝石衬底片的化学机械抛光工艺的研究,系统地分析了蓝宝石抛光工艺过程的性能参数,并经过大量试验,总结出影响因素,提出优化方案。得到的结果是:采用粒径为40nm、低分散度的SiO2溶胶磨料并配以适当参数进行抛光,能够有效地提高加工效率和被加工的蓝宝石表面性能。

蓝宝石衬底的化学机械抛光工艺研究

由于蓝宝石衬底片的精密加工工艺复杂,最优工艺参数尚未明确,是目前国内重点研究的难题。采用X62 81521型抛光机对蓝宝石衬底片的精密加工技术-化学机械抛光工艺进行了研究。通过对蓝宝石抛光工艺性能参数的系统分析,采用了粒径为40 nm、低分散度的碱性SiO2溶胶抛光液;通过大量实验总结,提出了优化方案,在pH值11.7、温度40℃、压力在0.12 MPa至0.15 MPa时,可以获得的去除速率为12.1μm/h,表面粗糙度为0.58 nm,有效地提高了蓝宝石表面的性能及加工效率。

蓝宝石衬底的化学机械抛光工艺研究

系统地分析了蓝宝石抛光工艺过程的性能参数,通过大量实验总结出了其影响因素并提出了优化方案。结果表明,采用粒径为40nm、低分散度的SiO2溶胶磨料并配合以适当参数进行抛光,可以获得良好的表面状态和较高的去除速率,能够有效提高蓝宝石表面的性能及加工效率。

带有多种官能团的纳米SiO_2胶体的制备及其荧光性能

以EDTA、乙二醇、正硅酸四乙酯为原料,采用水热法合成了带有多种官能团的纳米SiO_2胶体,采用TEM、XRD、EDS、FT-IR、XPS等测试手段对其进行了表征,并研究了其荧光性质。结果表明,所制备的纳米SiO_2胶体表面带有Si—O、C—N、C O、C—O、OH等多种官能团,纳米SiO_2为无定形颗粒,其粒径约为20nm,并具有良好的稳定性。多种官能团的存在使纳米SiO_2胶体呈现出良好的荧光性能,在365nm紫外灯光照射下,发射蓝色荧光,当激发波长为370nm时,其荧光强度最佳,发射波长随激发波长增大产生红移现象。由于其优异的荧光性能,使其可作为荧光探针在生物成像等方面具有巨大的应用潜力。