取向硅钢生产技术发展

介绍了取向硅钢生产技术发展历程及特点,重点阐述了渗氮法取向硅钢生产技术控制原理,诠释了锋锐的Goss{110}<001>织构选择生成、定向遗传、择优长大的择优环境是抑制剂近恒量,本质是先天抑制剂AlN近恒量、后天渗氮形成的AlN近恒量,结合Goss织构的定向遗传完成了二次再结晶。

高磁感取向硅钢Goss织构形成机制的研究进展

基于Goss织构异常长大可获得良好磁性能和工业生产高磁感取向硅钢产品工艺流程的背景,系统分析了Goss织构异常长大理论研究进展,着重剖析了Goss织构异常长大选择生成、定向遗传、择优长大的机制,阐述了抑制力近恒量取向硅钢生产技术的特征,为取向硅钢生产工艺技术提供理论支撑。

具备近似等压放电过程的近似等温压缩CO_(2)储能系统特性研究

为满足小容量特殊负载对(近似)稳定电能供应的需求,本文遵循(近似)等温压缩空气储能的基本原理,采用液压活塞和压力容器壁内置螺旋盘管换热的方式,基于气/液相变过程,提出了具备近似等压放电过程的近似等压等温压缩CO_(2)储能系统。通过建立系统核心部件的热力学分析模型与性能评价指标,分析了该系统在初次充放电循环中的性能,探究了压力容器初始压力、最大压力和螺旋盘管水温等参数变化时的系统性能,探索了系统有、无螺旋盘管换热对性能的影响规律。结果表明,该系统在初次充放电循环中充放电效率、热效率和能量密度分别为62.67%、53.05%和0.500 3 kW·h·m^(-3)。同时,该系统在放电过程中可以获得近似恒定的电能输出,输出功率在636~840 kW范围内变化。本文的研究工作可丰富压缩气体储能理论体系,具有重要的实用价值和现实意义。

取向硅钢二次再结晶机制的研究

基于Goss织构二次再结晶的本质是抑制{110}<112>、{210}<001>和偏Goss织构{110}<225>的异常长大,使锋锐Goss长大成为唯一选择的认识,在总结前人七十多年理论研究和鞍钢取向硅钢研发的基础上,提出了Goss织构异常长大机制是选择生成、定向遗传、择优长大的结果。机制诠释了Goss织构是最易形成的剪切织构,在定向遗传中需与第二相粒子抑制力近恒量高度契合,通过抑制力近恒量控制为Goss织构异常长大提供择优环境,据此鞍钢成功开发出低温渗氮取向硅钢工艺技术及产品。

近地九芯电缆高空电磁脉冲耦合模拟试验

几个单位联合进行了三轮近地电缆高空电磁脉冲耦合模拟试验。试验得到九芯电缆屏蔽层感应电流(皮电流)、芯线感应电压(芯电压)、芯线感应电流(芯电流)以及环境场之间的关系;分析了皮电流波形随外皮接地状态的变化,芯电压随负载电阻的变化;基于皮电流振荡频率与电磁波传播速度的关系,提出了屏蔽层-大地"传输线"等效相对介电常数概念,给出了等效相对介电常数随电缆高度变化的拟合式;皮电流计算与测量结果在波形、振荡周期、衰减规律等方面有较好的一致性。

PVDF传感器在爆炸近区超压测量中的应用研究

凝聚相炸药爆炸产生强冲击波、电磁脉冲和光热效应,爆炸近区测试环境非常复杂,常规压阻式硅压力传感器难于满足测试要求。为准确测量装药近区爆炸参数给工程防护结构的爆炸毁伤评估提供参考依据,基于PVDF压电薄膜制作压力传感器,采用分离式霍普金森压杆(SHPB)对自制传感器进行标定;进行TNT化爆试验对自制PVDF传感器测试效果进行考核,并提取试验结果与AutoDyn软件计算结果进行比较。对比表明:测量值与计算值偏差小于10%,爆炸近区超压的试验测量可采用防干扰处理后的PVDF压电传感器解决。

挟沙水流卡门常数的理论研究

挟沙水流的流速分布,特别是其中的卡门常数,一直是冲积河流水力学研究的热点问题之一。实测资料表明挟沙水流流速分布仍遵循对数流速分布规律,但在主流区的卡门常数要小于清水时的卡门常数,而在近底区的卡门常数与清水基本一致。在引入颗粒切应力的基础上,从理论上推导了同时适用于主流区和近底区的统一流速分布模型。利用该流速分布模型,得到挟沙水流的卡门常数沿垂线是变化的结论,即从近底区的约0.4渐变到主流区的小于0.4。并给出了主流区卡门常数的理论表达式,认为主流区卡门常数与近底区的泥沙浓度和泥沙粒径有关。该卡门常数的理论公式与实测资料较为吻合。

考虑互相关干扰的GPS信号捕获门限设定方法

传统GPS卫星信号捕获门限设定方法在互相关干扰情况下存在较大虚警概率,所以无法捕获弱信号.针对该问题进行分析,在此基础上提出一种针对多颗能量不同卫星同时存在情况下的信号检测模型和概率模型.信号检测模型在相关积分非相干累加基础上引入双门限多次检测,由于在考虑噪声的同时也考虑了互相关干扰对弱信号捕获的影响,其概率模型为非中心χ2分布.在原有的恒虚警门限检测方法基础上,提出考虑强信号互相关干扰对微弱信号检测影响情况下的门限计算方法作为新的门限上限,而将原有的门限计算方法作为门限的下限.在此基础上提出强、弱卫星信号共存时的检测思路,即先用门限上限检测强信号并进行互相关干扰消除处理,再用门限下限判断是否有弱信号存在.采用仿真数据和实际数据针对考虑互相关干扰的门限上限进行实验,并和原有门限方法进行比较,证明在强、弱信号共存情况下原有门限无法检测出卫星信号,而新的门限设定方法可以正常工作,并具有较高的检测概率和较低的虚警概率.

磁流体动力学控制二维扩压器流场数值模拟研究

对常规扩压器进行了简介并作机理分析。用小磁雷诺数假设下基于Favre质量平均的全Navier-Stokes方程来求解外加电磁场的超声速扩压器流场。与常规扩压器比较可以发现,选用适当的外加电磁场组合可以使流动在更短的距离内实现减速扩压,并将部分动能转化为电能。研究表明:仅添加一定外磁场时,第一道激波位置、第二道激波位置、激波串长度分别为无外加电磁场情况的62.19%,77.74%和50.18%。

离子束辅助沉积TiO_2薄膜近红外光学特性分析

二氧化钛(TiO2)作为一种常用的薄膜材料,对其近红外波段光学特性的研究很少.利用正交试验法,采用椭圆仪对TiO2薄膜近红外波段的光学特性进行了研究.着重研究了薄膜沉积速率、基片烘烤温度和氧气分压等因素对TiO2薄膜近红外波段的折射率和消光系数的影响.实验结果表明,对TiO2薄膜折射率影响最大的两种因素是薄膜沉积速率和烘烤温度.随着沉积速率的增加,薄膜折射率先增加后减小,最佳沉积速率为0.4 nm/s左右;随着基片温度的增加,薄膜折射率从2.15增加到2.23左右;氧气分压也是影响薄膜折射率的主要因素之一,结果表明氧气流量为4.0 sccm(工作真空度1.4×10-2Pa)时折射率最大.该研究为扩宽TiO2薄膜在近红外波段的应用提供了依据.

恒流源对近红外光谱传感器测量不确定度的影响

近红外光源的稳定性影响近红外技术的可靠程度。提高其电源的稳定性,可提高近红外光源的稳定性,改善实验室近红外技术在气液两相流的应用。使用高精密恒流源为近红外光源供电,进行了实验研究,结果表明:使用高精密恒流源时,近红外光源更稳定,输出电压值也更加稳定可靠,输出电压值的极差在0.12左右,标准差不超过0.00838;而在普通电源所得输出电压的极差在0.16左右,标准差不超过0.02193。

新型光纤探针的研制与应用

采用熔拉与腐蚀相结合的方法 ,制作出了能用于近场探测的新型光纤探针 .该制作方法不需要复杂的仪器设备 ,具有费用低廉、重复性好等优点 .镀金膜的直锥型光纤探针首次用于扫描隧道显微镜 ,由于针尖的曲率半径比铂铱针更小 ,因此可获得更精细的信息 ,并可提高图像的分辨率 .弯曲型光纤探针固定于特别设计的支架后 ,可作为悬臂探针用于原子力显微镜和近场光学显微镜 .

水中气泡运动规律的研究

通过对水下气泡的受力分析,建立气泡在水中运动的微分方程,通过数值方法进行简化求解,得出用水深表示速度的ω(h)解析关系式,用以描述气泡运动包括加速段的整个过程.气泡急剧加速上升阶段很短,与直径有关;上升的最终速度与气泡的直径有关,与水深无关;接近恒速阶段的起始速度与水深有密切关系.

新型分析方法在汽油辛烷值测定中的应用进展

主要介绍了几种新型分析方法在汽油辛烷值测定中的应用,包括介电常数法、近红外光谱法、核磁共振法、气相色谱法以及其他方法,着重介绍了这几种方法的原理、优缺点及其应用前景。

引力常数随时间变化对双星(密近食双星)轨道演变的影响(圆形轨道情形)

研究了引力常数随时间变化对食双星轨道演变的影响。理论结果表明:轨道半径和轨道周期以线性形式随时间缩减,但无周期变化、圆形轨道的形状只有周期和混合长期项(Poisson项)。对5颗密近食双星的轨道半径和轨道周期的长期演变的上下限做了数值估计,并具体讨论了理论结果和其他效应的对比。

CO^+分子离子彗尾带系在近红外区域的光谱研究

CO+分子离子是一种重要的瞬态自由基分子,许多研究者对该带系进行了大量的研究。文章采用光外差-磁旋转-速度调制光谱技术测量了12C16O+分子离子彗尾带系(A2Πi-X2Σ+)在近红外区域的3个支带(0,3),(1,4)和(3,6)的振转吸收光谱。利用最小二乘法拟合,得到了上态A2Πi(ν′=0,1,3)的精确的分子常数。进一步验证了光外差-磁旋转-速度调制光谱技术在吸收光谱测量中的优越性。

探地雷达天线近地效应研究

微带天线应用于探地雷达技术领域时 ,实验测得的各种电参数与自由空间相应的电参数总有一定的偏差 ,这种偏差称之为近地效应。文中对天线贴地后有效介电常数的计算公式进行了修正 ,并应用该修正式对探地雷达天线回波频率进行了模拟计算 ,将计算结果与实验结果进行了对比 ,研究表明 ,有效介电常数的变化是产生近地效应的一个重要原因。

可见近红外波段碲镉汞材料光学常数测定与宽谱增透设计

将碲镉汞(Hg_(1-x)Cd_xTe)红外焦平面器件衬底去除后,其响应波段可拓展到可见光波段,在高光谱成像应用中可显著减小系统的尺寸和重量,对光电探测系统的小型化和微型化具有重要实用价值.而明确碲镉汞材料在可见近红外波段的光学常数,对碲镉汞器件在这一响应波段的性能研究具有重要意义.分别测量了不同组分碲镉汞材料的椭圆偏振光谱,拟合得到了其在400~1 600 nm波段范围内的光学常数值,并利用反射光谱对获得的光学常数进行了验证.采用这些碲镉汞外延材料光学常数测量值,并选用Zn S和YF3分别作为高低折射率的增透膜材料,针对不同响应波段的背入射可见近红外碲镉汞焦平面器件,设计了不同的宽谱增透膜系,响应波段范围内的平均透过率高于90%.

薄膜光学常数的原位测定

薄膜的光学常数(折射率和消光系数)精度直接影响设计和制造的光学器件的性能。大多数光学常数的测定方法较为复杂,不能直接应用在镀膜过程中。提出了一种薄膜光学常数原位实时测量的方法,通过监测沉积材料的透射率可以快速准确地测量光学常数。测量了高吸收材料Si、低吸收材料Ta_(2)O_(5)和超低吸收材料SiO_(2)的近红外光学常数,用这种方法测得光学常数分别为n=3.22,k=4.6×10^(-3),n=2.06,k=1.3×10^(-3)和n=1.46,k=6.6×10^(-5)。该方法适用于强吸收材料和弱吸收材料光学常数的测定,为在线精确测量薄膜的光学常数提供了一种有效的方法,对设计和制造高质量的光学器件具有重要意义。

近场微波显微镜软接触模式测量介电常数的研究

近场微波显微镜测试样品介电常数依赖于针尖与样品的距离,准确控制针尖与样品距离是准确测试介电常数的基础.基于谐振腔谐振频率随针尖-样品距离接近曲线的探究,本文提出了一种准确实现探针与样品软接触的方法,采用软接触模式测量了一系列已知介电常数样品的谐振频率,并对所得的谐振频率-介电常数曲线进行拟合.结果表明,实验结果与理论非常吻合,拟合所得空载谐振频率也与实验一致.本文建立的软接触方法可准确控制针尖与样品的距离,实现介电常数的定量化准确测试.