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Ni80 Fe20薄膜的参数对其各向异性电阻率的影响
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作者 王晓路 李佳 陈冷 《信息记录材料》 2009年第1期57-60,共4页
用C6型电子束真空镀膜仪,在不同沉积束流、不同基片温度下制备Ni80 Fe20薄膜,并对室温沉积的薄膜样品在不同温度下进行真空退火处理,用来研究不同束流对薄膜厚度的影响和不同束流对薄膜各向异性电阻率的影响以及不同退火温度对AMR的... 用C6型电子束真空镀膜仪,在不同沉积束流、不同基片温度下制备Ni80 Fe20薄膜,并对室温沉积的薄膜样品在不同温度下进行真空退火处理,用来研究不同束流对薄膜厚度的影响和不同束流对薄膜各向异性电阻率的影响以及不同退火温度对AMR的影响。实验结果表明在高真空,电子束蒸发制备的Ni80 Fe20在恒定温度下薄膜的厚度是随着束流的增大线性增加的,且在60~100mA的区间内束流越大膜的AMR越大。恒温下,沉积速流速率与束流大小是成正比关系的。退火可以有效增加薄膜的各向异性电阻率,平均每提高100℃各向异性电阻率增加12.5%。而在突变退火区,AMR并不是完全随退火温度线形增加的,而是呈现出一定的波动性,目前推测影响薄膜AMR的因素是晶体形状的各向异性、薄膜的内禀力和磁晶各向异性的共同作用结果。 展开更多
关键词 ni80 fe20薄膜 电子束蒸发 各向异性电阻率AMR 束流 退火
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Synchrotron X—Ray Study on Structures of Ni80Fe20/Cu Superlattices
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作者 杨涛 麦振洪 +5 位作者 赖武彦 吴忠华 王德武 XUMing 罗光明 柴春林 《Beijing Synchrotron Radiation Facility》 2001年第2期76-78,共3页
We have shown that,in contrast to the results in the literature,the Bragg peak intensity of Ni80Fe20/Cu superlattices is enhanced at the incident x-ray energy slightly higher than the absorption edge of the heavier el... We have shown that,in contrast to the results in the literature,the Bragg peak intensity of Ni80Fe20/Cu superlattices is enhanced at the incident x-ray energy slightly higher than the absorption edge of the heavier element(Cu).The atomic density at Ni80Fe20/Cu interface was analysed by the diffraction anomalous fine structure technology with the incident angle of x-ray fixed at the first Bragg peak.Our results demonstrate the epitaxy growth of Ni80Fe20/Cu superlattices.Upon annealing,the epitaxity of Ni80Fe20/Cu multilayers becomes poor but the local crystallinity in each layer is improved. 展开更多
关键词 X射线分析 微观结构 原子分布 ni80fe20/Cu超晶格 晶体生长
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Study of Ni80Fe20/Fe50Mn50 superlattice microstructures by transmission electron microscopy and x—ray diffraction
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作者 MingXu TaoYang GuangmingLuo ZhengqiLu CuixiuLiu NingYang Zhenh 《Beijing Synchrotron Radiation Facility》 2001年第2期79-87,共9页
The detailed microstructures of Ni80Fe20/Fe50Mn50 superlattices have been characterized using both x-ray diffraction techniques and transmission electron microscopy.The obrivous layered structure,typical column struct... The detailed microstructures of Ni80Fe20/Fe50Mn50 superlattices have been characterized using both x-ray diffraction techniques and transmission electron microscopy.The obrivous layered structure,typical column structure and twins which exist in Ni80Fe20/Fe50Mn50 superlattices were observed through performing transmission microscopy.By combining the technique of lowangle x-ray reflectivity(specular and off-specular scans)with the anomalous scattering effect and high-angle x-ray diffraction(using conventional x-ray),wequantitatively analysed the microstructural variation as a function of annealing temperature.It is found that the lateral correlation length,the(111)peak intensity of the superlattices and the average multilayer coherence length all increase with a rise in annealing temperature annealing can decrease the rootmean-square roughness at the interfaces of Ni80Fe20/Fe50Mn50 superlattices.the obtained microstructural knowledge will be helpful in understanding the magnetic properties of the ni80Fe20/Fe50Mn50 exchange bias system. 展开更多
关键词 ni80fe20/Fe50Mn50超晶格 X射线衍射分析 微观结构 电子输运
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Effect of annealing on the microstructure of Ni80Fe20/Cu multilayers
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作者 MingXu ZhonghuaWu 等 《同步辐射装置用户科技论文集》 2000年第1期171-178,共8页
关键词 ni80fe20/Cu多层涂层 微结构 X射线衍射
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磁场退火温度对Ni_(80)Fe_(20)薄膜磁畴结构的影响研究 被引量:5
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作者 陈森 张师平 +2 位作者 吴平 徐建 向勇 《实验技术与管理》 CAS 北大核心 2013年第3期56-59,共4页
利用电子束真空蒸发方法制备了厚度100nm的Ni80Fe20薄膜,研究了磁场退火温度对薄膜磁畴结构的影响。利用振动样品磁强计测量了磁滞回线,利用磁力显微镜观察了薄膜的表面形貌和磁畴结构。结果表明:磁畴结构为明显的条状畴,磁畴宽度最大... 利用电子束真空蒸发方法制备了厚度100nm的Ni80Fe20薄膜,研究了磁场退火温度对薄膜磁畴结构的影响。利用振动样品磁强计测量了磁滞回线,利用磁力显微镜观察了薄膜的表面形貌和磁畴结构。结果表明:磁畴结构为明显的条状畴,磁畴宽度最大值约为860nm;随着磁场退火温度的升高,磁畴取向趋于沿垂直膜面方向,退火温度为600℃时,沿着主畴的畴壁形成了细小的横向细畴结构。 展开更多
关键词 ni80fe20薄膜 磁畴 磁场退火
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基片温度对Ni_(80)Fe_(20)薄膜结构和各向异性磁电阻的影响 被引量:4
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作者 王合英 沙文杰 +1 位作者 陈欢 孙文博 《金属功能材料》 CAS 2007年第2期1-4,共4页
本文用磁控溅射方法制备出一系列Ni80Fe20磁性薄膜,研究不同基片温度对薄膜结构和各向异性磁电阻的影响。基片温度在150~180℃时制备的Ni80Fe20薄膜具有较大的各向异性磁电阻效应和较低的磁化饱和场。X射线衍射仪和扫描电子显微镜测... 本文用磁控溅射方法制备出一系列Ni80Fe20磁性薄膜,研究不同基片温度对薄膜结构和各向异性磁电阻的影响。基片温度在150~180℃时制备的Ni80Fe20薄膜具有较大的各向异性磁电阻效应和较低的磁化饱和场。X射线衍射仪和扫描电子显微镜测量结果表明,基片温度通过改变薄膜的晶体结构、晶粒大小和均匀性等微观结构改变薄膜的零场电阻率和各向异性磁电阻,文章对实验结果做出了详细分析。 展开更多
关键词 ni80fe20薄膜 基片温度 结构 各向异性磁电阻
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工艺参量对Ni_(80)Fe_(20)薄膜结构与磁电阻特性的影响 被引量:3
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作者 吴平 李希 +4 位作者 高艳清 邱宏 王凤平 潘礼庆 田跃 《物理实验》 2006年第6期8-11,共4页
NiFe薄膜在室温下具有较高的各向异性磁电阻率.可广泛应用于磁记录和磁传感器,本文研究了工艺条件对电子束蒸发方法制备的Ni80Fe20薄膜磁电阻特性及微结构的影响,获得了制备各向异性磁电阻率达3%~4%的Ni80Fe20薄膜的工艺条件.
关键词 ni80fe20薄膜 电子束蒸发 磁电阻 薄膜结构
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(Fe_(0.5)Ni_(0.5))_(80-x)Mo_xB_(20)非晶态合金的玻璃形成能力与热稳定性 被引量:2
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作者 贺自强 王新林 +2 位作者 全白云 赵振业 李志 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第9期14-17,29,共5页
采用XRD,TEM,DSC研究了(Fe0.5Ni0.5)80-xMoxB20(x=0,2,4,6,8)非晶态合金的玻璃形成能力和热稳定性,讨论了非晶态合金玻璃形成能力的表征,探讨了Mo对玻璃形成能力和热稳定性的作用机理。结果表明:Mo的加入可提高(Fe0.5Ni0.5)80B20合金的... 采用XRD,TEM,DSC研究了(Fe0.5Ni0.5)80-xMoxB20(x=0,2,4,6,8)非晶态合金的玻璃形成能力和热稳定性,讨论了非晶态合金玻璃形成能力的表征,探讨了Mo对玻璃形成能力和热稳定性的作用机理。结果表明:Mo的加入可提高(Fe0.5Ni0.5)80B20合金的玻璃形成能力和热稳定性;Tx/Tm可用于表征(Fe0.5Ni0.5)80-xMoxB20非晶态合金的玻璃形成能力;合金组元数目增多、原子尺寸比增大及负混合热是Mo提高玻璃形成能力的主要原因。 展开更多
关键词 (Fe0.5Ni0.5)80-xMoxB20非晶态合金 玻璃形成能力 热稳定性
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溅射条件对Ni_(80)Fe_(20)薄膜各向异性磁电阻的影响
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作者 王合英 孙文博 茅卫红 《物理实验》 2007年第8期3-5,9,共4页
研究了基片温度和溅射气压对磁控溅射方法制备的Ni80Fe20磁性薄膜各向异性磁电阻的影响.实验发现基片温度是影响Ni80Fe20薄膜各向异性磁电阻最重要的因素.在较高的基片温度下,溅射气压对Ni80Fe20薄膜各向异性磁电阻也有较大的影响.基片... 研究了基片温度和溅射气压对磁控溅射方法制备的Ni80Fe20磁性薄膜各向异性磁电阻的影响.实验发现基片温度是影响Ni80Fe20薄膜各向异性磁电阻最重要的因素.在较高的基片温度下,溅射气压对Ni80Fe20薄膜各向异性磁电阻也有较大的影响.基片温度在150~180℃,溅射气压在0.3~0.5 Pa范围内制备的Ni80Fe20薄膜有较大的各向异性磁电阻(3.7%~4.3%). 展开更多
关键词 ni80fe20薄膜 各向异性磁电阻 基片温度 溅射气压
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软磁Ni_(80)Fe_(20)薄膜单元中磁涡旋结构的高分辨磁力显微观察 被引量:3
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作者 钟海 黄磊 +3 位作者 王素梅 韦丹 袁俊 朱溢眉 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第4期309-312,共4页
本文利用高分辨磁力显微技术对Ni80Fe20薄膜单元进行了直接观察,发现在双圆盘"花生形"单元中存在磁涡旋结构,并能够清晰地看到单元中心附近或亮或暗的涡旋核。实验结果表明,在包括针尖卷积效应的情况下,磁涡旋核中心轮廓线的... 本文利用高分辨磁力显微技术对Ni80Fe20薄膜单元进行了直接观察,发现在双圆盘"花生形"单元中存在磁涡旋结构,并能够清晰地看到单元中心附近或亮或暗的涡旋核。实验结果表明,在包括针尖卷积效应的情况下,磁涡旋核中心轮廓线的直接测量宽度约为40 nm,这个分辨率远高于迄今为止报道的关于磁涡旋结构的MFM测量结果。 展开更多
关键词 磁涡旋 磁力显微镜 ni80fe20
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Ni_(80)Fe_(20)复合结构多层膜的巨磁阻抗效应研究
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作者 宋子成 袁望治 +2 位作者 赵振杰 阮建中 杨燮龙 《华东师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2007年第1期127-134,共8页
用磁控溅射法在载玻片上制备了(Ni_(80)Fe_(20)/SiO_2)_n/Cu/(SiO_2/Ni_(80)Fe_(20))_n复合结构多层膜,并对其巨磁阻抗效应进行了研究.研究结果表明,采用多组双层结构(n>1)后,样品的巨磁阻抗效应明显增大;当n=3时,观测到最大的纵向巨... 用磁控溅射法在载玻片上制备了(Ni_(80)Fe_(20)/SiO_2)_n/Cu/(SiO_2/Ni_(80)Fe_(20))_n复合结构多层膜,并对其巨磁阻抗效应进行了研究.研究结果表明,采用多组双层结构(n>1)后,样品的巨磁阻抗效应明显增大;当n=3时,观测到最大的纵向巨磁阻抗(LMI)效应为10.81%,最大的横向巨磁阻抗(TMI)效应为17.08%.当n=4,5时,巨磁阻抗效应比n=3时略有减小.由XRD谱和磁滞回线等,研究了双层结构(Ni_(80)Fe_(20)/SiO_2)循环次数n引起的样品材料晶体结构和磁性能等变化,以及对样品巨磁阻抗效应的影响. 展开更多
关键词 X射线衍射谱 磁滞回线 巨磁阻抗效应 ni80fe20复合结构多层膜
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基片表面粗糙度对坡莫合金AMR以及磁性能的影响
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作者 余涛 彭斌 +1 位作者 王秋入 王鹏 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第14期14067-14070,共4页
利用霍尔离子源轰击Si基片获得了不同表面粗糙度的基片,然后利用磁控溅射方法制备了一系列Ta(5nm)/Ni 80Fe 20(12nm)/Ta(2nm)薄膜样品,重点研究了基片表面粗糙度对薄膜结构和各向异性磁阻效应的影响。采用AFM测量基片的表面粗糙度,采用... 利用霍尔离子源轰击Si基片获得了不同表面粗糙度的基片,然后利用磁控溅射方法制备了一系列Ta(5nm)/Ni 80Fe 20(12nm)/Ta(2nm)薄膜样品,重点研究了基片表面粗糙度对薄膜结构和各向异性磁阻效应的影响。采用AFM测量基片的表面粗糙度,采用四探针法测量薄膜的各向异性磁阻效应。研究结果表明,随着基片表面粗糙度的增加,坡莫合金的AMR值显著降低,且ΔH显著增加。 展开更多
关键词 ni80fe20薄膜 表面粗糙度 各向异性磁阻效应
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Synthesis of industrial diamonds using FeNi alloy powder as catalyst 被引量:3
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作者 周林 贾晓鹏 +2 位作者 马红安 郑友进 李彦涛 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2008年第12期4665-4668,共4页
Synthesis of diamond single crystals in Fe80Ni20 C system was carried out in a cubic anvil high-pressure and high-temperature apparatus. This paper reports that the surface morphology and inclusion distribution of the... Synthesis of diamond single crystals in Fe80Ni20 C system was carried out in a cubic anvil high-pressure and high-temperature apparatus. This paper reports that the surface morphology and inclusion distribution of the grown diamonds had been observed. It finds that the inclusions in cubic and octahedral diamonds radiated along certain crystal orientation, while the inclusion distribution in cubo-octahedral diamond seemed independent of crystal orientation. By using scanning electron microscope, the surface morphology of the three shapes of diamonds was observed. The results of Mossbauer spectrum indicated that there were iron-inclusions FeaC and Fe-Ni alloy in the diamonds. According to the Fe-C phase diagram, FeaC should have formed during the quenching process. Nickel might have an inhibitory effect on the formation of Fe3C. 展开更多
关键词 Fe80Ni20 DIAMOND INCLUSION MORPHOLOGY
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Magnetic properties and structure of Ni_80Fe_20/Ni_48Fe_12Cr_40 bilayer films deposited on SiO_2/Si(100) by electron beam evaporation 被引量:1
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作者 WU Ping GAO Yanqing QIU Hong PAN Liqing TIAN Yue Wang Fengping 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2007年第2期176-181,共6页
Ni80Fe20/Ni48Fe12Cr40 bilayer films and Ni80Fe20 monolayer films were deposited at room temperature on SiO2/Si(100) substrates by electron beam evaporation. The influence of the thickness of the Ni48Fe12Cr40 underla... Ni80Fe20/Ni48Fe12Cr40 bilayer films and Ni80Fe20 monolayer films were deposited at room temperature on SiO2/Si(100) substrates by electron beam evaporation. The influence of the thickness of the Ni48Fe12Cr40 underlayer on the structure, magnetization, and magnetoresistance of the Ni80Fe20/Ni48Fe12Cr40 bilayer film was investigated. The thickness of the Ni48Fe12Cr40 layer varied from about 1 nm to 18 nm while the Ni80Fe20 layer thickness was fixed at 45 nm. For the as-deposited bilayer films the introducing of the Ni48Fe12Cr40 underlayer promotes both the (111) texture and grain growth in the Ni80Fe20 layer. The Ni48Fe12Cr40 underlayer has no significant influence on the magnetic moment of the Ni80Fe20/Ni48Fe12Cr40 bilayer film. However, the coercivity of the bilayer film changes with the thickness of the Ni48Fe12Cr40 undedayer. The optimum thickness of the Ni48Fe12Cr40 underlayer for improving the anisotropic magnetoresistance effect of the Ni80Fe20/Ni48Fe12Cr40 bilayer film is about 5 nm. With a decrease in temperature from 300 K to 81 K, the anisotropic magnetoresistance ratio of the Ni80Fe20 (45 nm)/Ni48Fe12Cr40 (5 nm) bilayer film increases linearly from 2.1% to 4.8% compared with that of the Ni80Fe20 monolayer film from 1.7% to 4.0%. 展开更多
关键词 ni80fe20 films Ni48Fe12Cr4o seed layer STRUCTURE magnetic properties
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纳米晶Fe_(0.13)[Co_(20)Ni_(80)]_(0.87)合金微细纤维的制备及磁性能
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作者 陈云 沈湘黔 +1 位作者 孟献丰 景琴 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第3期505-510,共6页
以柠檬酸和金属盐为原料,采用有机凝胶-热还原法制备了Fe0.13[Co20Ni80]0.87三元合金微细纤维。采用FTIR、XRD、TG/DSC、SEM和EDS等对纤维前驱体和热还原产物的结构、物相、形貌和组成进行了分析。采用振动样品磁强计(VSM)对纤维的磁性... 以柠檬酸和金属盐为原料,采用有机凝胶-热还原法制备了Fe0.13[Co20Ni80]0.87三元合金微细纤维。采用FTIR、XRD、TG/DSC、SEM和EDS等对纤维前驱体和热还原产物的结构、物相、形貌和组成进行了分析。采用振动样品磁强计(VSM)对纤维的磁性能进行了测试。结果表明:Fe0.13[Co20Ni80]0.87合金纤维的直径为0.3~2.0μm,表面光滑、长径比大;组成合金纤维的晶粒大小与还原温度密切相关,当温度为300~700℃时,晶粒尺寸由约20nm增加到约50nm;该合金纤维显铁磁性,其矫顽力主要受合金中C含量及晶粒大小的影响,随制备温度的升高而降低;饱和磁化强度则主要与合金的组分相关,随还原温度的升高和合金纯度的提高而增大;经700℃热还原后,合金纤维的饱和磁化强度ms为120A.m2/kg,矫顽力Hc为10.4kA/m。 展开更多
关键词 有机凝胶-热还原法 纳米晶Fe0.13[Co20ni80]0.87合金纤维 铁磁性
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溅射气压对Ni_(80)Fe_(20)薄膜微结构和各向异性磁电阻的影响 被引量:6
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作者 王合英 陈欢 +2 位作者 梁栋 张智巍 孙文博 《清华大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第12期2180-2183,共4页
为改善Ni80Fe20薄膜的性能,研究不同溅射气压对薄膜微结构和各向异性磁电阻的影响。用磁控溅射方法制备Ni80Fe20薄膜,用X射线衍射和扫描电子显微镜分析其结构,用四探针方法测量其各向异性磁电阻。实验研究发现,较高的溅射气压下制备的Ni... 为改善Ni80Fe20薄膜的性能,研究不同溅射气压对薄膜微结构和各向异性磁电阻的影响。用磁控溅射方法制备Ni80Fe20薄膜,用X射线衍射和扫描电子显微镜分析其结构,用四探针方法测量其各向异性磁电阻。实验研究发现,较高的溅射气压下制备的Ni80Fe20薄膜各向异性磁电阻比较低,薄膜磁化到饱和需要的磁场也比较大。在较低的溅射气压(0.2、0.5 Pa)下制备的Ni80Fe20薄膜具有较高的各向异性磁电阻3.7%和4.2%,而且饱和磁化场低(低于1kA/m)。分析结果表明随着溅射气压的变化,Ni80Fe20薄膜的晶格常数、颗粒大小和均匀性等微结构发生变化,导致薄膜的各向异性磁电阻效应差别很大。 展开更多
关键词 ni80fe20薄膜 结构 各向异性磁电阻 溅射气压
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Ni_(80)Fe_(20)/Mo纳米多层膜的互扩散
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作者 王文雍 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2001年第1期63-68,共6页
针对 Ni80Fe20/Mo纳米多层膜在实际应用中经常面临的热稳定性问题 ,研究了多层膜在 343~683K温度范围内的互扩散行为,测定了其有效互扩散系数 Dλ。小的激活焓来源于多层膜中存在的共格应变。当温度低于 483K时 , NiFe/Mo多层膜具有较... 针对 Ni80Fe20/Mo纳米多层膜在实际应用中经常面临的热稳定性问题 ,研究了多层膜在 343~683K温度范围内的互扩散行为,测定了其有效互扩散系数 Dλ。小的激活焓来源于多层膜中存在的共格应变。当温度低于 483K时 , NiFe/Mo多层膜具有较强的抵制 NiFe和 Mo亚层间互扩散能力 , 这对 NiFe/Mo多层膜今后的实际应用有重要意义。 展开更多
关键词 ni80fe20/Mo 亚层 激活焓 互扩散关系 多层膜
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