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Electrochemical characterization of ion selectivity in electrodeposited nickel hexacyanoferrate thin films 被引量:6
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作者 Jinxia Guo Xiaogang Hao Xuli Ma Zhonglin Zhang Shibin Liu 《Journal of University of Science and Technology Beijing》 EI CSCD 2008年第1期79-83,共5页
The ion selectivity of electrodeposited nickel hexacyanoferrate (NiHCF) thin films was investigated using electrochemical impedance spectroscopy (EIS) and cyclic voltammetry (CV). NiHCF thin films were prepared ... The ion selectivity of electrodeposited nickel hexacyanoferrate (NiHCF) thin films was investigated using electrochemical impedance spectroscopy (EIS) and cyclic voltammetry (CV). NiHCF thin films were prepared by cathodic deposition on Pt and Al substrates. EIS and CV curves were determined in 1 mol/L (KNO3+C5NO3) and 1 mol/L (NaNO3+CsNO3) mixture solutions, which were sensitive to the concentration of Cs^+ in the electrolytes. Experimental results show that all Nyquist impedance plots show depressed semicircles in the high-frequency range changing over into straight lines at lower frequencies. With increasing amounts of Cs^+, the redox potentials in CV curves shift toward more positive values and the redox peaks broaden; the semicircle radius in corresponding EIS curves and the charge transfer resistance also increase. EIS combining CV is able to provide valuable insights into the ion selectivity of NiHCF thin films. 2008 University of Science and Technology Beijing. All rights reserved. 展开更多
关键词 nihcf thin films ion selectivity electrochemical deposition cyclic voltammetry electrochemical impedance spectra
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脉冲电沉积制备电控离子分离NiHCF膜电极 被引量:2
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作者 马旭莉 郝晓刚 +2 位作者 李永国 刘世斌 孙彦平 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第7期1294-1299,共6页
采用脉冲电沉积法在石墨基体上制备了铁氰化镍膜(NiHCF膜)。通过循环伏安法考察了不同脉冲参数(脉冲电压、脉冲周期、占空比、沉积次数)条件下制备的石墨基NiHCF膜电极的离子交换容量,并通过SEM和XPS分析了膜的表面形貌与组成。结果表明... 采用脉冲电沉积法在石墨基体上制备了铁氰化镍膜(NiHCF膜)。通过循环伏安法考察了不同脉冲参数(脉冲电压、脉冲周期、占空比、沉积次数)条件下制备的石墨基NiHCF膜电极的离子交换容量,并通过SEM和XPS分析了膜的表面形貌与组成。结果表明:脉冲电压0.3V(vsSCE)、脉冲周期0.6s、占空比为50%时沉积得到的NiHCF膜均匀致密,且具有较大的离子交换容量和良好的稳定性。脉冲电沉积法可用于制备性能优良的电化学控制离子分离膜电极。 展开更多
关键词 脉冲电沉积 nihcf 电化学控制离子分离 循环伏安
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镍网基NiHCF膜电极电控离子分离性能 被引量:2
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作者 李永国 郝晓刚 +2 位作者 杨言言 张忠林 马旭莉 《水处理技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第11期27-31,共5页
在镍网基体上通过阳极氧化、循环伏安电沉积、化学沉积与脉冲电沉积分别制备出具有电化学控制离子分离(ECIS)性能的铁氰化镍(Nickel hexacyanoferrate,NiHCF)薄膜电极。在1mol·L-1KNO3溶液中采用电势循环可逆地置入与释放碱金属离... 在镍网基体上通过阳极氧化、循环伏安电沉积、化学沉积与脉冲电沉积分别制备出具有电化学控制离子分离(ECIS)性能的铁氰化镍(Nickel hexacyanoferrate,NiHCF)薄膜电极。在1mol·L-1KNO3溶液中采用电势循环可逆地置入与释放碱金属离子,考察不同制备方法膜电极的离子交换容量、循环寿命与再生能力,并通过SEM、IR、IC分析了膜电极表面形貌、组成与ECIS过程性能。研究结果表明,镍网基NiHCF膜电极制备工艺简单,具有较大的离子分离能力、良好的循环稳定性与再生能力,其中脉冲电沉积膜电极的离子交换容量和循环稳定性优于其它方法制得的膜电极。 展开更多
关键词 电控离子分离 nihcf薄膜 镍网 制备
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电沉积NiHCF薄膜的离子选择性研究
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作者 郭金霞 郝晓刚 +2 位作者 张玫 张忠林 马旭丽 《太原理工大学学报》 CAS 北大核心 2006年第3期334-337,341,共5页
采用电沉积方法在铂、铝基体上制备出具有电化学控制离子交换(ESIX)性能的电活性NiHCF(Nickel Hexacyanoferrate)薄膜,在1 mol/L(NaNO3+CsNO3)和1 mol/L(KNO3+Cs-NO3)混合溶液中分别测定了不同Cs+浓度下薄膜的伏安特性曲线和电化学交流... 采用电沉积方法在铂、铝基体上制备出具有电化学控制离子交换(ESIX)性能的电活性NiHCF(Nickel Hexacyanoferrate)薄膜,在1 mol/L(NaNO3+CsNO3)和1 mol/L(KNO3+Cs-NO3)混合溶液中分别测定了不同Cs+浓度下薄膜的伏安特性曲线和电化学交流阻抗谱,并根据CV曲线和EIS曲线的变化特征分析了薄膜对Cs+/K+和Cs+/Na+离子的选择性。结果表明,交流阻抗技术与循环伏安法相结合可较好地用来表征混合溶液中离子膜的选择性。 展开更多
关键词 电化学控制离子交换 铁氰化镍薄膜 电化学阻抗图谱 离子选择性
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