DOI的由来及使用

DOI的由来 DOI（Digital Object Unique Identifier）的含义是数字对象唯一标识符，是一套识别数字资源的机制。 国际数字对象识别号基金会（International DOI Foundation）是成立于1998年的非营利组织，它是DOI系统的行政主体，目的在保障与DOI系统相关的知识产权，推广DOI的运用，并确保DOI系统的一切改进（如创造、维护、注册、解析与相关决策）能为全体注册者使用。

BiOI/BiVO_4异质结光催化剂的合成及其催化活性的研究

采用溶胶-凝胶法合成具有异质结结构BiOI/BiVO_4,以罗丹明B为模型污染物,考察了BiOI/BiVO_4的光催化活性,并采用XRD、SEM、FT-IR等进行了表征。结果表明,BiOI/BiVO_4具有典型的异质结结构,具有抑制电子-空穴再复合、有效促进光生载流子分离的特点,BiOI的引入没有破坏BiVO_4颗粒的晶体结构,仍为单斜相主体物相结构,而是增强了催化剂表面的活性位点,提高光电子的迁移速率。相比于单体钒酸铋,复合后的材料光谱响应范围更宽,同时,复合催化剂比单体钒酸铋的催化活性和稳定性更好,在BiOI的摩尔分数为20%时,复合光催化材料的催化活性最佳,实验条件下罗丹明B降解率为95.7%。

基于Optiwave的脊形SiGe-OI光波导结构设计

利用有效折射率的数值解法,计算出了SiGe-OI脊形光波导的有效折射率.通过对SiGe-OI光波导结构参量的理论分析和计算,得到了SiGe-OI脊形光波导传输单模光波时内外脊高H,h及脊宽W的尺寸.通过Optiwave软件对SiGe-OI脊形光波导进行建模仿真,验证了理论分析和计算的正确性.

刀具磨耗补偿在FANUC Oi系统数车加工螺纹中的应用

螺纹加工是机械零件加工中的难点,在FANUC Oi系统数控车床上加工螺纹时,用G代码编程加工后的螺纹中径合格率很低。如果灵活地利用刀具磨耗补偿,可提高螺纹中径合格率,继而提高整个工件的加工质量和加工效率。

Si/SiGe-OI应变异质结构的高分辨电子显微分析

为了研究失配应变的弛豫机理 ,利用高分辨电子显微镜 (HREM)对超高真空化学气相沉积 (U HVCVD) Si/Si Ge- OI材料横截面的完整形貌和不同层及各层之间界面区的高分辨晶格像进行观察 .发现此多层结构中存在 6 0°位错和堆垛层错 .结合 Matthews和 Blakeslee提出的临界厚度的模型和相关的研究结果对 6 0°位错组态的形成和存在原因进行了分析 .在具有帽层结构的 Si1 - x Gex 应变层靠近基体一侧的界面中仅存在单一位错 ,验证了

利用CRS-OIS实现噪声压制与数据插值

CRS-OIS是一种以输出道成像方式实现的共反射面元叠加成像方法,不仅能够输出一张高质量的叠加剖面,也能够得到高质量的叠前道集.将这一特色用于陆地二维地震数据处理的噪音压制与数据插值计算,理论与实际数据计算证实了该方法的有效性,体现出很好的应用潜力.

非OI群霍乱弧菌血清学分型系统的建立及初步应用

本文报道了非OI群霍乱弧菌血清学分型系统的建立。应用这一分型系统对我国广东、福建及河南三省分离的549株菌进行血清学定型。菌株可分为55型。其中的优势型为VBO2、7及9。菌型的分布与分离地区有关。并发现有19个菌型是日本及美国分型系统所未包括的新菌型。血清的分型率为83.79%。对患者分离的菌株有较高的分型率。

高端装备制造企业OI与TI的匹配度测量模型构建及应用研究

为了解高端装备制造行业中组织创新(OI)与技术创新(TI)的匹配程度以及各自发展水平,引入物理学中的耦合协调理论来构建OI与TI的匹配度测量模型,并对该模型进行实证检验,并通过比较案例分析对该模型进行具体的实际应用。主要结论为:高端装备制造行业TI的平均水平高于OI,且二者匹配度处于较高的匹配层次上,不同企业之间OI与TI的匹配度及各自发展水平存在明显的差异化。

基于GPU计算平台实现三维输出道方式的共反射面元(3D-CRS-OIS)叠加

输出道方式的共反射面元叠加(CRS-OIS)是对传统CRS叠加成像方法的重要改进。本文将3D-CRS-OIS方法应用于GPU计算平台,利用GPU大规模线程级并行计算架构,实现了基于GPU/CPU计算平台的稳健算法。该算法利用GPU存储带宽高、多寄存器和多处理器的结构特点,将3D-CRS-OIS的主要计算负荷——属性搜索转移至GPU端执行,从而大幅度提高了计算效率。理论与实际数据试算表明,基于GPU/CPU平台可以显著提高加速比,进一步拓展了3D-CRS-OIS算法的应用价值。

BiOI负载Fe_3O_4光催化激活过硫酸盐降解金橙Ⅱ

采用溶剂热-沉淀法制备BiOI负载Fe_3O_4的新型可见光催化剂BiOI/Fe_3O_4,并通过X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)对BiOI/Fe_3O_4进行表征分析。实验结果表明:金橙Ⅱ的降解率随着初始过硫酸盐(PS)浓度和催化剂浓度的增大而增大。但当PS浓度、催化剂质量浓度分别增大到0.5 mmol/L、0.5 g/L时,降解率随着两者浓度的增大而降低。随着初始pH的增大,金橙Ⅱ的降解速率逐渐降低。此外,自由基淬灭剂异丙醇和叔丁醇的加入,证明了该体系主要的活性自由基是羟基自由基(·OH)和硫酸根自由基(SO_4^(·-)).。

2000年和2001年52°N地区OI_(5577)气辉强度与原子氧浓度峰值的时间变化特征

分析了2000年和2001年期间52°N地区OI5577气辉强度的夜间变化特征和季节变化特征．利用由 OI5577气辉强度反演原子氧浓度峰值的方法反演出原子氧浓度的峰值,分析了峰值的夜间变化特征和季节变化特征．结果表明, OI5577气辉强度的夜间变化特征随季节变化, 2000年春季的夜间强度最大值出现在0000LT 之后,夏季和秋季的出现在0000LT之前,冬季的出现在0000LT,2001年春季和秋季的夜间强度最大值出现在0000LT之前,夏季和冬季的出现在0000LT;OI5577气辉强度在2000年2月份,8月份和10月份出现最大值,在2001年9月份有最大值．就主要特征而言,反演出的原子氧浓度峰值的夜间变化特征和季节变化特征分别与OI5577气辉强度的一致．

基于FANUC Oi Mate-MD系统I/O单元手轮连接

针对数控铣床增加悬挂手轮如何连接及I/O地址分配与设定的问题,以FANUC Oi Mate-MD系统实验培训平台为例,详细介绍了FANUC Oi Mate-MD系统的I/O单元、输入输出信号的连接、手轮连接以及I/O地址分配与设定。这对数控机床装调维修中I/O单元硬件连接具有一定的参考价值。

Poisson回归模型及Lasso变量选择在研究生成绩影响因素分析中的应用

探究学生成绩的主要影响因素是研究学生成绩评价体系中一个重要方向.依据某大学三年研究生入学信息数据,利用方差分析研究其入学成绩的影响因素;利用Poisson回归模型结合Lasso变量选择方法,探究入学专业课成绩、培养类别等对研究生学业课程成绩是否有显著影响,其结果为研究生院的招生工作提供了数据支持,对大学教学方法改进、教学质量提高和新生录取工作具有十分重要的现实指导意义.

FUNUC Oi数控系统数据的备份与恢复

以常见的FANUC Oi数控系统为例,介绍了用存储卡和外部计算机进行数据的备份和恢复的详细操作方法及完成这些操作的主要技巧。

基于OI130.4nm光谱数据的热层O/N_2反演方法

提出了一种由OI 130.4nm日气辉光谱数据反演热层O/N2的方法。建立了两者在观测天底和太阳天顶方向的数学模型,并利用辐射强度随观测角和太阳天顶角的变化特性,构建了观测角和太阳天顶角归一化系数查找表,提出了一种由OI 130.4nm日气辉辐射反演热层O/N2的方法,并在算法中引入了偏差系数校正。最后,由计算得到的450个气辉辐射为例进行了O/N2的反演,反演误差分别为4.16%和27.05%。结果表明,提出的算法能够重现其大部分结构特征,与以往算法相比具有明显的优越性。

新型光催化剂BiOI的制备及其光催化性能

采用水热法和溶剂热法制备了两种不同结构的光催化剂BiOI,通过X-射线粉末衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)等技术对其晶相结构、微观形貌进行了表征,并模拟太阳光下降解甲基橙(MO)来评价所制备样品的催化性能。光催化实验表明,可见光下溶剂热法所制备的光催化剂明显优于水热法合成的催化剂以及商品光催化剂P25,在80 min内对甲基橙溶液的催化降解率达90%以上,同时在紫外光下依然具有很高的活性。分析其降解机理可知,光催化降解过程是光生电子与空穴同时作用的结果。

PaO_2、RI、OI对肺心病患者肺内气体交换障碍监测的比较

呼吸衰竭(RF)通常以静息状态下呼吸室内空气时测得的动脉氧分压(PaO_2)<8.0kPa(60mmHg)来判断,Ⅱ型RF尚伴有动脉血二氧化碳分压(PaCO_2)>6.7kPa(50mmHg)。PaO_260～75mmHg时。

基于FANUC Oi—MC的MasterCAM9．0后置处理

后置处理是数控加工中自动编程要考虑的一个重要问题。Mast^AM的后置处理器允许用户添加、删除和编辑后置处理文件，使其转变成为特定数控机床和专用数控系统的后置处理文件。

OI^2-WFGD-Ⅱ烟气脱硫技术介绍

针对目前脱硫吸收塔阻力大、能耗高、占地广等的不足,苏源环保工程有限公司开发了U型曲流平流吸收塔,并以此为核心,开发了OI2-WFGD-Ⅱ的湿法烟气脱硫技术,文中简介了该技术的工艺特点、设备布置、技术参数、设备国产化以及技术应用情况等内容。

联合HII和OI的小区间干扰协调方案

针对HII和OI处理的协调性,提出一种联合HII和OI的小区间干扰协调方案。方案根据目标小区接收到的HII和OI,确定目标小区中心需要调整PRB分配的用户和需要调整发射功率的用户。并根据不同的边缘负载情况分配频率资源。MATLAB仿真结果表明,新的小区间干扰协调方案与传统的小区间干扰协调方案相比能够有效抑制小区间干扰,提高用户平均吞吐量。