1
|
高质量二维光子晶体结构刻蚀掩膜版的制作方法 |
杜伟
许兴胜
韩伟华
王春霞
张杨
杨富华
陈弘达
|
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
|
2006 |
4
|
|
2
|
应用X射线光刻的微针阵列及掩模板补偿 |
陈少军
李以贵
杉山进
|
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
|
2010 |
5
|
|
3
|
LIGA掩模板的制备与同步辐射X射线深度光刻的研究 |
朱军
赵小林
丁桂甫
陈迪
倪智萍
李昌明
郭晓云
毛海平
|
《微细加工技术》
EI
|
2000 |
2
|
|
4
|
基于准分子激光工艺制作X射线光掩膜 |
陈少军
李以贵
|
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
|
2010 |
0 |
|