期刊文献+
共找到13篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
Dielectric properties of BiFeO_3-PbTiO_3 thin films prepared by PLD
1
作者 陈蕊 俞圣雯 +2 位作者 张冠军 程晋荣 孟中岩 《中国有色金属学会会刊:英文版》 CSCD 2006年第B01期116-118,共3页
BiFeO3-PbTiO3 (BFO-PT) thin films were prepared on Pt/TiO2/SiO2/Si substrates by pulsed-laser deposition (PLD) technique under different oxygen pressures. The structures of the films were characterized by means of XRD... BiFeO3-PbTiO3 (BFO-PT) thin films were prepared on Pt/TiO2/SiO2/Si substrates by pulsed-laser deposition (PLD) technique under different oxygen pressures. The structures of the films were characterized by means of XRD. The current densities were performed to check the conductivity of the films. The dielectric constant and loss factor (tanδ) of the films were measured. The results show that the BFO-PT layers are mainly perovskite structured; the film deposited under 6.665 Pa exhibits low leakage current, low dielectric loss (0.017-0.041) and saturated hysteresis loop with polarization (Pr) value and coercive field (Ec) of 3 μC/cm2 and 109 kV/cm. 展开更多
关键词 BiFeO3-pbtio3薄膜 脉冲激光沉积法 制备 介电性质 铁电性质
下载PDF
PbTiO3薄膜生长的Monte Carlo模拟Ⅰ:模型与算法 被引量:4
2
作者 于光龙 朱建国 +2 位作者 朱基亮 芦苇 肖定全 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第10期1531-1534,共4页
提出了一种基于Monte Carlo方法的模拟多元氧化物薄膜生长的三维模型及模拟算法,并以模拟PbTiO3薄膜的生长为例加以说明.模拟中使用的晶格空间基本单元为立方体,单个的ABO3结构晶胞简化为2×2×2个立方体,并采用周期性边界条件;... 提出了一种基于Monte Carlo方法的模拟多元氧化物薄膜生长的三维模型及模拟算法,并以模拟PbTiO3薄膜的生长为例加以说明.模拟中使用的晶格空间基本单元为立方体,单个的ABO3结构晶胞简化为2×2×2个立方体,并采用周期性边界条件;Monte Carlo事件由沉积事件,扩散事件和脱附事件组成;根据PbTiO3的组成确定沉积原子的种类和比例,即根据Pb∶Ti∶O为1∶1∶3的比例借助一随机数随机选择原子的种类;原子扩散能力与扩散激活能相关,单个原子的扩散步数由沉积速率与实际扩散时间决定;激活能采用库仑势计算,其大小不仅与原子周围的架构相关,而且与架构中原子的种类相关.有关模拟结果将在另文中给出. 展开更多
关键词 MONTE CARLO模拟 薄膜生长 pbtio3薄膜 氧化物
下载PDF
PbTiO3薄膜生长的Monte Carlo模拟Ⅱ:模拟结果与讨论 被引量:1
3
作者 于光龙 朱建国 +2 位作者 朱基亮 芦苇 肖定全 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第10期1535-1537,共3页
根据本文作者提出的基于Monte Carlo方法模拟多元氧化物薄膜生长的三维模型及模拟算法(详见另文),编制了模拟软件,并以PbTiO3薄膜为例模拟了多元氧化物薄膜生长初期的表面形貌.模拟中选定两个输入参数为沉积速率和沉积温度,并根据相关... 根据本文作者提出的基于Monte Carlo方法模拟多元氧化物薄膜生长的三维模型及模拟算法(详见另文),编制了模拟软件,并以PbTiO3薄膜为例模拟了多元氧化物薄膜生长初期的表面形貌.模拟中选定两个输入参数为沉积速率和沉积温度,并根据相关研究报道的实验条件,分别取沉积速率处于0.1~0.001nm/s之间,沉积温度处于800~1000K之间.模拟结果表明,在薄膜生长的初始阶段,沉积速率和沉积温度对薄膜形貌的影响很大,随着沉积速率的降低和沉积温度的升高,初始凝聚岛的面积增大,总的岛的数目减小;在较低的沉积速率和较高的沉积温度条件下更容易得到薄膜的层状生长. 展开更多
关键词 MONTE CARLO模拟 薄膜生长 pbtio3薄膜 氧化物
下载PDF
溶胶-凝胶法制备的PbTiO_3薄膜的光学性质研究 被引量:5
4
作者 胡志高 王根水 +1 位作者 黄志明 褚君浩 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期175-179,共5页
采用溶胶 凝胶法在石英玻璃衬底上制备出均匀透明的无定形PbTiO3 薄膜 ,并对其光学性质进行了详细的研究 ,发现其折射率的波形符合经典的Cauchy函数 .由半导体理论计算得到无定形PbTiO3 薄膜的光学禁带宽度为 3.84eV .FTIR透射光谱研... 采用溶胶 凝胶法在石英玻璃衬底上制备出均匀透明的无定形PbTiO3 薄膜 ,并对其光学性质进行了详细的研究 ,发现其折射率的波形符合经典的Cauchy函数 .由半导体理论计算得到无定形PbTiO3 薄膜的光学禁带宽度为 3.84eV .FTIR透射光谱研究表明无定形PbTiO3 薄膜在中红外波段没有吸收峰出现 .对于在 5 5 0℃下快速热退火得到的PbTiO3 薄膜 ,通过远红外反射光谱测量 ,观察到了 展开更多
关键词 溶胶-凝胶法 制备 pbtio3薄膜 光学性质 无定形薄膜 折射率 禁带宽度 钛酸铅薄膜 铁电薄膜
下载PDF
组分和应力不均匀分布对薄膜铁电性的影响 被引量:4
5
作者 赵强 汤兆胜 +1 位作者 冯仕猛 范正修 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2000年第4期249-252,共4页
采用组合靶射频溅射的方法、制备后慢速降温的途径在(111)Si基板上制备出了成膜较好的 PbTiO3薄膜。通过测试分析发现在薄膜中形成了一个缓解应力的过渡层,薄膜中的Pb、Ti组分比沿着薄膜生长的方向成非线性增长,并... 采用组合靶射频溅射的方法、制备后慢速降温的途径在(111)Si基板上制备出了成膜较好的 PbTiO3薄膜。通过测试分析发现在薄膜中形成了一个缓解应力的过渡层,薄膜中的Pb、Ti组分比沿着薄膜生长的方向成非线性增长,并在薄膜表面形成一个富Pb层,薄膜的C-V特性曲线中存在负方向的位移和畸变。结合实验结果对薄膜的生长机理进行了探讨,并且对薄膜中的应力和不均匀分布的组分对薄膜铁电特性的影响进行了理论上的分析,而且与实验取得了一致的结果。 展开更多
关键词 pbtio3薄膜 应力 组分 铁电
下载PDF
在(111)Si基底上直接溅射合成PbTiO_3薄膜以及Pb损失的抑制 被引量:1
6
作者 赵强 汤兆胜 +1 位作者 冯士猛 范正修 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第4期412-415,共4页
利用射频磁控溅射系统,采用 Ti、Pb组合靶,以 O2为反应气体,在( 111) Si基板上直接沉积 PbTiO3薄膜,通过对不同基底温度以及沉积后的薄膜在不同的氧气氛中来用不同的降温速率降温制备。通过对所得的薄膜的结构... 利用射频磁控溅射系统,采用 Ti、Pb组合靶,以 O2为反应气体,在( 111) Si基板上直接沉积 PbTiO3薄膜,通过对不同基底温度以及沉积后的薄膜在不同的氧气氛中来用不同的降温速率降温制备。通过对所得的薄膜的结构和组成以及光学和电学特性的测试、分析得出:在535℃时沉积、溅射后直接充入 107Pa的氧气并且以 3℃/min的速率降至室温,制备出了性能较好的具有钙钛矿结构的PbTiO3薄膜。并对薄膜的形成机理进行了探讨。 展开更多
关键词 pbtio3 铁电薄膜 Pb损失 冷却速率
下载PDF
PbTiO_3铁电薄膜晶化工艺研究 被引量:1
7
作者 姜斌 齐增亮 +2 位作者 耿永涛 蒋书文 李言荣 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期354-355,358,共3页
对sol-gel法制备的PbTiO3薄膜采用不同晶化工艺进行晶化,研究了晶化温度和基片对薄膜晶化的影响。研究表明,采用快速晶化工艺时,在550-750℃的较宽温度范围内,薄膜能够结晶形成稳定钙铁矿相结构,在LaAlO3基片上能获得结晶良好、具有(001... 对sol-gel法制备的PbTiO3薄膜采用不同晶化工艺进行晶化,研究了晶化温度和基片对薄膜晶化的影响。研究表明,采用快速晶化工艺时,在550-750℃的较宽温度范围内,薄膜能够结晶形成稳定钙铁矿相结构,在LaAlO3基片上能获得结晶良好、具有(001)择优取向的PbTiO3薄膜。与常规晶化相比,快速晶化处理的薄膜结晶质量好,晶粒较小、分布均匀致密。 展开更多
关键词 铁电薄膜 快速晶化 pbtio3
下载PDF
静电雾化沉积制备PbTiO_3薄膜的研究 被引量:1
8
作者 宫华 黄晖 +1 位作者 汪敏强 刘开平 《中国陶瓷工业》 CAS 2005年第5期17-20,12,共5页
采用静电雾化沉积技术制备了PbTiO3薄膜,探索了沉积温度和沉积时间对所制备薄膜的结构和形貌的影响。通过调节制备工艺,制备了多孔和致密的PbTiO3薄膜。测试了所制备钛酸铅薄膜的介电频率特性,在100kHz的介电常数和介电损耗分别为222和0... 采用静电雾化沉积技术制备了PbTiO3薄膜,探索了沉积温度和沉积时间对所制备薄膜的结构和形貌的影响。通过调节制备工艺,制备了多孔和致密的PbTiO3薄膜。测试了所制备钛酸铅薄膜的介电频率特性,在100kHz的介电常数和介电损耗分别为222和0.0247。 展开更多
关键词 静电雾化沉积 钛酸铅 铁电薄膜
下载PDF
不同退火方式对0.7BiFeO_3-0.3PbTiO_3薄膜的铁电性能及漏电流的影响
9
作者 李海敏 郭红力 +3 位作者 李雪冬 刘果 肖定全 朱建国 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第10期1053-1057,共5页
利用溶胶凝胶法在LaNiO3/SiO2/Si衬底上制备了0.7BiFeO3-0.3PbTiO3(BFPT7030)薄膜,研究了快速退火及常规退火两种不同的后续退火处理方式对薄膜铁电性能及漏电流性能的影响.XRD测试表明,经快速退火处理的BFPT7030薄膜结晶完好,呈现出单... 利用溶胶凝胶法在LaNiO3/SiO2/Si衬底上制备了0.7BiFeO3-0.3PbTiO3(BFPT7030)薄膜,研究了快速退火及常规退火两种不同的后续退火处理方式对薄膜铁电性能及漏电流性能的影响.XRD测试表明,经快速退火处理的BFPT7030薄膜结晶完好,呈现出单一的钙钛矿相.SEM测试结果显示,经快速退火处理的BFPT7030薄膜结晶充分,但经常规退火处理的BFPT7030薄膜表面致密性较好,且在升温速率为2℃/min时薄膜的晶粒更细小.经快速退火处理的BFPT7030薄膜的铁电性能较为优异,在升温速率为20℃/s时,其剩余极化Pr为22μC/cm2,矫顽场Ec为70 kV/cm,并具有较小的漏电流.XPS测试结果表明,经常规退火处理的BFPT7030薄膜其铁离子的价态波动较小. 展开更多
关键词 溶胶凝胶 BiFeO3-pbtio3 薄膜 快速退火 常规退火
下载PDF
c轴取向PbTiO_3外延生长的研究
10
作者 陈先同 罗维根 +3 位作者 丁爱丽 仇萍荪 李晖 平井敏雄 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1995年第2期225-230,共6页
本文研究了MOCVD法淀积过程中工艺条件对PbTiO3膜c轴取向度的影响,探讨了PbTiO3膜的生长过程,通过调节氧气流量首次在MgO(100)单晶衬底上淀积出c轴取向的PbTiO3外延膜.PbTiO3外延膜的介电常... 本文研究了MOCVD法淀积过程中工艺条件对PbTiO3膜c轴取向度的影响,探讨了PbTiO3膜的生长过程,通过调节氧气流量首次在MgO(100)单晶衬底上淀积出c轴取向的PbTiO3外延膜.PbTiO3外延膜的介电常数为90;折射率为2.64;均和单晶性能一致. 展开更多
关键词 外延生长 薄膜 MOCVD 钛酸铅 C轴取向
下载PDF
取向PT薄膜的溶胶-凝胶法制备及其对PST薄膜的取向诱导
11
作者 陈敬峰 杜丕一 +2 位作者 覃莹 韩高荣 翁文剑 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第A02期120-123,共4页
采用溶胶-凝胶工艺,以TbCl3作为掺杂剂,在无规取向的ITO透明导电玻璃基板上成功地制备了高度择优取向的PbTiO3(PT)铁电薄膜。通过对不同前驱溶液浓度、热处理工艺、热处理时间和温度制备的PT薄膜样品的XRD图谱进行分析,得出了较为优化... 采用溶胶-凝胶工艺,以TbCl3作为掺杂剂,在无规取向的ITO透明导电玻璃基板上成功地制备了高度择优取向的PbTiO3(PT)铁电薄膜。通过对不同前驱溶液浓度、热处理工艺、热处理时间和温度制备的PT薄膜样品的XRD图谱进行分析,得出了较为优化的制备工艺,并在此基础上溅射沉积出具有明显择优取向特征的PST薄膜。很明显,以取向PT作为诱导层,可以得到择优取向的PST薄膜材料。 展开更多
关键词 钛酸铅 薄膜 取向生长 诱导层
下载PDF
铁电全闭合畴结构的稳定性研究 被引量:1
12
作者 陈雨亭 朱银莲 +3 位作者 宫风辉 邹敏杰 唐云龙 马秀良 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2020年第6期635-641,共7页
铁电薄膜中的全闭合畴结构由于在高密度存储器中的潜在应用而受到广泛关注。本文在GdScO3、DyScO3两种衬底上生长了不同中间层的PbTiO3多层膜,利用透射电子显微镜对同一衬底不同中间层、同一中间层不同衬底的PbTiO3多层膜畴组态进行了... 铁电薄膜中的全闭合畴结构由于在高密度存储器中的潜在应用而受到广泛关注。本文在GdScO3、DyScO3两种衬底上生长了不同中间层的PbTiO3多层膜,利用透射电子显微镜对同一衬底不同中间层、同一中间层不同衬底的PbTiO3多层膜畴组态进行了系统的研究。结果表明,在GdScO3衬底上生长的PbTiO3多层膜,当中间层由SrTiO3更换为GdScO3或DyScO3时,PbTiO3中由“V”型全闭合畴结构变为a1/a2畴。在DyScO3衬底上生长的PbTiO3多层膜,当中间层选用DyScO3时为“H”型全闭合畴、c畴、“V”型全闭合畴共存的状态。本研究完善了对全闭合畴结构稳定条件的认识,有利于其在铁电存储器等方面应用的进一步发展。 展开更多
关键词 铁电薄膜 全闭合畴结构 透射电子显微镜 pbtio3
下载PDF
Raman studies on the crystallization of sol-gel processed PbTiO_3 thin films
13
作者 ZHU Tao, HAN Gaorong, HAN Zhengfu and DING Zishang1 . Department of Materials Science and Engineering, Zhejiang University, Hangzhou 310027, China 2 State Key Synchrotron Radiation Laboratory, University of Science and Technology of China, Hefei 230026, China 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 1997年第12期1052-1055,共4页
PbTiO<sub>3</sub> thin films are of interest to a number of device applications as IR detectors, ultrasonictransducers, etc. Early work on the fabrication of PbTiO<sub>3</sub> thin film was mai... PbTiO<sub>3</sub> thin films are of interest to a number of device applications as IR detectors, ultrasonictransducers, etc. Early work on the fabrication of PbTiO<sub>3</sub> thin film was mainly based on rfsputtering. Recently, sol-gel processing has been gaining interest in the production 展开更多
关键词 RAMAN SPECTRA pbtio3 thin films SOL-GEL process.
原文传递
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部