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热电子诱导穿透对pMOSFET的影响
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作者 任康 丁俊贤 +2 位作者 贡佳伟 王磊 李广 《当代化工研究》 CAS 2024年第13期43-45,共3页
随着晶体管尺寸的不断减小,由于热电子诱导穿透(HEIP)而引起的pMOSFET器件可靠性退化问题,一直是深亚微米器件研究的热点,老化(Burn in)实验作为高温测试中的一个不可避免的环节,用以保证器件的可靠性,HEIP效应会影响老化实验中的累积... 随着晶体管尺寸的不断减小,由于热电子诱导穿透(HEIP)而引起的pMOSFET器件可靠性退化问题,一直是深亚微米器件研究的热点,老化(Burn in)实验作为高温测试中的一个不可避免的环节,用以保证器件的可靠性,HEIP效应会影响老化实验中的累积良率。本文通过改善SiN和STI(浅槽隔离)的侧壁氧化物界面态的实验,研究工艺过程对HEIP寿命时间的影响,得出可以通过优化工艺过程来提高HEIP效应的寿命时间。 展开更多
关键词 热电子诱导穿透 可靠性 寿命时间
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A low power discrete operation mode for punchthrough phototransistor
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作者 周泉 郭树旭 +3 位作者 宋静怡 李兆涵 杜国同 常玉春 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2013年第7期102-105,共4页
This paper proposed a discrete operation mode for a punchthrough(PT) phototransistor,which is suitable for low power application,since the bias current is only necessary during the read-out phase.Moreover,simulation... This paper proposed a discrete operation mode for a punchthrough(PT) phototransistor,which is suitable for low power application,since the bias current is only necessary during the read-out phase.Moreover,simulation results show that with the new operation mode,the photocurrent is much larger than that of continuous operation mode.An ultra-high responsivity of 2×10~7A/W at 10^(-9) W/cm^2 is obtained with a small detector size of 1μm^2.In CMOS image sensor applications,with an integration time of 10 ms,a normalized pixel responsivity of 220 V·m^2/W·s·μm^2 is obtained without any auxiliary amplifier. 展开更多
关键词 punchthrough (PT) phototransistor discrete operation mode low power high responsivity
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高灵敏度穿通型异质结光电晶体管 被引量:4
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作者 李国辉 韩德俊 +4 位作者 韩卫 姬成周 朱恩均 周均铭 黄绮 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1995年第3期214-221,共8页
报导了一种带有独特隔离环结构的宽禁带发射区平面穿通型光电晶体管(GR-PTHPT),在弱光信号下具有高灵敏度。器件工作时基区全部耗尽,基极电流基本为零,输出噪声电流大大下降,使光电增益提高了一个量级以上。已研制成的G... 报导了一种带有独特隔离环结构的宽禁带发射区平面穿通型光电晶体管(GR-PTHPT),在弱光信号下具有高灵敏度。器件工作时基区全部耗尽,基极电流基本为零,输出噪声电流大大下降,使光电增益提高了一个量级以上。已研制成的GaAlAs/GaAs穿通型光电晶体管(发射极直径φ=4μm)。在5V工作电压下,对0.8μm,1.3nw和43nw弱光的光电增益分别为1260和8108。折合到输入端暗电流为0.83nA。 展开更多
关键词 高灵敏度 穿通型 异质结 光电晶体管
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GAT实现高频率与高基区穿通电压兼容特性分析 被引量:1
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作者 庄宝煌 黄美纯 +1 位作者 朱梓忠 李开航 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2000年第2期190-194,共5页
通过作者最近建立的关于 GAT器件集电结耗尽层电位分布和电场分布的二维解析模型 ,定量研究了 GAT的基区穿通电压 VPI,并且解释了该器件实现高频率与高电压兼容的实验结果。
关键词 GAT 基区穿通电压 兼容性 功率晶体管
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功率VDMOSFET的优化设计 被引量:3
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作者 高玉民 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 1991年第10期31-34,6,共5页
本文推导出在外延层穿通击穿情况下均匀掺杂外延层电阻率和厚度的关系式及使外延层理想比电阻达到最小值时电阻率和厚度的精确表达式.文中揭示了VDMOSFET 以往设设中存在的问题.提出了整体优化的方法并考虑了终端的影响.
关键词 功率VDMOSFET 优化设计
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π介子在BESⅢ探测器中的穿透效应
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作者 夏宇 曾云 +23 位作者 马秋梅 马想 王大勇 邓子艳 尤郑昀 毛泽普 文硕频 王喆 刘怀民 汤睿 李卫东 张长春 邱进发 何苗 张学尧 张晓梅 张瑶 郑直 冒亚军 俞国威 袁野 黄性涛 蒋林立 臧石磊 《核电子学与探测技术》 CAS CSCD 北大核心 2006年第1期100-104,共5页
用模拟软件GEANT 4对BESⅢ探测器中π介子的穿透效应进行了模拟,给出了不同动量的π介子在μ探测器中穿透效率。对π介子与μ轻子在μ探测器中的行为做了对比研究,从而为BESⅢ中π/μ鉴别提供帮助。
关键词 BESⅢ探测器 GEANT4 穿透效应 粒子鉴别
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用GAT器件实现高电压与高频率、高电流增益兼容的定量分析
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作者 庄宝煌 黄美纯 +3 位作者 朱梓忠 张志鹏 李开航 吴丽清 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 1999年第6期831-836,共6页
通过作者最近建立的关于GAT器件集电结耗尽层电位分布和电场分布的二维解析模型。
关键词 功率器件 基区穿通电压 频率 电流增益 GAT器件
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穿通增强型硅光电晶体管的结构及参数优化 被引量:2
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作者 丁传鹏 周泉 +2 位作者 陆逢阳 王宝续 常玉春 《吉林大学学报(信息科学版)》 CAS 2013年第1期25-30,共6页
为克服各种常用光电探测器件的缺点,对穿通增强型硅光电晶体管进行了结构优化和参数优化。将窄基区穿通晶体管仅在一侧与宽基区光电晶体管复合的传统结构,改进为窄基区穿通晶体管在中间,两侧各复合一个长度减半的宽基区光电晶体管。同时... 为克服各种常用光电探测器件的缺点,对穿通增强型硅光电晶体管进行了结构优化和参数优化。将窄基区穿通晶体管仅在一侧与宽基区光电晶体管复合的传统结构,改进为窄基区穿通晶体管在中间,两侧各复合一个长度减半的宽基区光电晶体管。同时,对不同窄基区宽度下的暗电流、光生电流及光电响应率等随偏压变化的电学性能和光电转换特性进行仿真,得到窄基区宽度最优参数。然后对优化后的器件在不同光强下的光生电流和光电响应率随偏压的变化进行了仿真,分析了器件在不同光强下的响应特性。结果表明,当窄基区宽度为0.6μm时,器件性能折中达到最优,在0.5 V偏压下,器件暗电流仅为1μA;入射光功率密度为10-7W/cm2时,器件响应率高达4×106A/W。 展开更多
关键词 穿通增强型硅光电晶体管 窄基区宽度 暗电流 光生电流 光电响应率
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新结构多晶硅发射极光电晶体管
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作者 王晓慧 李国辉 阎凤章 《北京师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 1997年第4期473-476,共4页
报导了一种以多晶硅作发射极并带有隔离环电极,工作时基区处于穿通状态下的新结构硅光电晶体管.用多晶硅作发射极比同结构单晶硅晶体管的光电增益提高了2倍;隔离环电极极大地提高了器件的灵敏度;穿通型的工作状态提高了器件的增益... 报导了一种以多晶硅作发射极并带有隔离环电极,工作时基区处于穿通状态下的新结构硅光电晶体管.用多晶硅作发射极比同结构单晶硅晶体管的光电增益提高了2倍;隔离环电极极大地提高了器件的灵敏度;穿通型的工作状态提高了器件的增益和响应速度.已研制成的这种新型结构的光电晶体管在10V工作电压下,对0.8μm,0.174μW的光增益达到了3083. 展开更多
关键词 多晶硅发射极 硅光电晶体管 隔离环 穿通型
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漏轻掺杂MOSFET的源漏穿通
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作者 谢连生 陈学良 徐元森 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1989年第3期227-229,共3页
测量和分析了1μm LDD MOSFET的穿通特性,与常规结构的MOSFET加以比较.结果表明,LDD结构能够有效地抑制DIBL效应、大幅度地提高短沟道MOSFET的源漏穿通电压.此外,还给出LDD MOSFET源漏穿通机制的定性解释.
关键词 MOSFET 源漏穿通 掺杂 LDD
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穿通型高增益AlGaAs/GaAs光电晶体管
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作者 魏东平 李国辉 +2 位作者 韩卫 朱恩均 周均铭 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 1992年第10期9-11,共3页
关键词 光电晶体管 电流增益 光电探测器
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有源电压箝位串联HV IGBT的适用性和优化(二)
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作者 F.Bauer 黄慧(译) 柯思勤(校) 《变流技术与电力牵引》 2007年第2期30-33,51,共5页
介绍了5.2kV高压绝缘栅双极型晶体管(HVIGBTs)的成功串联应用。穿通型HVIGBT串联应用时要完全控制感应过电压,最大的障碍是拖尾电流的关断问题。可以证明,采用先进的电压箝位技术能够限制因关断拖尾电流而引起的第二个电压尖峰。阳极采... 介绍了5.2kV高压绝缘栅双极型晶体管(HVIGBTs)的成功串联应用。穿通型HVIGBT串联应用时要完全控制感应过电压,最大的障碍是拖尾电流的关断问题。可以证明,采用先进的电压箝位技术能够限制因关断拖尾电流而引起的第二个电压尖峰。阳极采用载流子寿命局部分布的IGBT很适合这种应用;拖尾电流间隔时间越短,关断损耗越小。文中集中讨论了穿通型HVIGBT器件串联时的最佳通态等离子体分布,HVIGBT的最新发展趋势似乎与讨论结论相一致。未来先进的HVIGBT技术可完全减轻第一代HVIGBT串联时的困难。 展开更多
关键词 高压绝缘栅双极型晶体管(HV IGBTs) 非穿通(NPT) 穿通(PT) 反偏安全工作区(RBSOA)
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有源电压箝位串联HV IGBT的适用性和优化(一)
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作者 F.Bauer 黄慧(译者) 柯思勤(校者) 《变流技术与电力牵引》 2007年第1期28-32,51,共6页
介绍了5.2kV高压绝缘栅双极型晶体管(HV IGBTs)的成功串联应用。穿通型HV IGBT串联应用时要完全控制感应过电压,最大的障碍是拖尾电流的关断问题。可以证明,采用先进的电压箝位技术能够限制因关断拖尾电流而引起的第二个电压尖峰。阳极... 介绍了5.2kV高压绝缘栅双极型晶体管(HV IGBTs)的成功串联应用。穿通型HV IGBT串联应用时要完全控制感应过电压,最大的障碍是拖尾电流的关断问题。可以证明,采用先进的电压箝位技术能够限制因关断拖尾电流而引起的第二个电压尖峰。阳极采用载流子寿命局部分布的IGBT很适合这种应用;拖尾电流间隔时间越短,关断损耗越小。文中集中讨论了穿通型HV IGBT器件串联时的最佳通态等离子体分布,HV IGBT的最新发展趋势似乎与讨论结论相一致。未来先进的HV IGBT技术可完全减轻第一代HV IGBT串联时的困难。 展开更多
关键词 高压绝缘栅双极型晶体管(HV IGBTs) 非穿通(NPT) 穿通(PT) 反偏安全工作区(RBSOA)
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