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纳米金刚石表面准原子层沉积硅镀层
被引量:
2
1
作者
陆静
王艳辉
臧建兵
《超硬材料工程》
CAS
2007年第6期1-5,共5页
采用准原子层沉积(Quasi Atomic Layer Deposition-QALD)技术在纳米金刚石表面沉积硅镀层。通过硅烷气体在纳米金刚石颗粒表面饱和吸附,然后原位热解的分步反应实现了硅镀层对纳米金刚石的完整包覆。实验使用TEM、XRD、FTIR和TGA-DSC等...
采用准原子层沉积(Quasi Atomic Layer Deposition-QALD)技术在纳米金刚石表面沉积硅镀层。通过硅烷气体在纳米金刚石颗粒表面饱和吸附,然后原位热解的分步反应实现了硅镀层对纳米金刚石的完整包覆。实验使用TEM、XRD、FTIR和TGA-DSC等分析方法研究了镀硅纳米金刚石的形貌、结构、表面吸附状态和热稳定性。结果表明,SiH4气体循环吸附-热解的QALD方法可在纳米金刚石颗粒表面形成均匀连续、厚度可控的硅镀层。热解反应温度为600℃时,硅镀层为立方相。纳米金刚石镀硅后,热稳定性显著提高,温度升高到1000℃也没有明显的氧化反应发生。
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关键词
纳米金刚石
硅镀层
准原子层沉积
热稳定性
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职称材料
题名
纳米金刚石表面准原子层沉积硅镀层
被引量:
2
1
作者
陆静
王艳辉
臧建兵
机构
燕山大学亚稳材料制备技术与科学国家重点实验室
出处
《超硬材料工程》
CAS
2007年第6期1-5,共5页
文摘
采用准原子层沉积(Quasi Atomic Layer Deposition-QALD)技术在纳米金刚石表面沉积硅镀层。通过硅烷气体在纳米金刚石颗粒表面饱和吸附,然后原位热解的分步反应实现了硅镀层对纳米金刚石的完整包覆。实验使用TEM、XRD、FTIR和TGA-DSC等分析方法研究了镀硅纳米金刚石的形貌、结构、表面吸附状态和热稳定性。结果表明,SiH4气体循环吸附-热解的QALD方法可在纳米金刚石颗粒表面形成均匀连续、厚度可控的硅镀层。热解反应温度为600℃时,硅镀层为立方相。纳米金刚石镀硅后,热稳定性显著提高,温度升高到1000℃也没有明显的氧化反应发生。
关键词
纳米金刚石
硅镀层
准原子层沉积
热稳定性
Keywords
nanodiamond
silicon film
qald
thermal stability
分类号
TB383.1 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
纳米金刚石表面准原子层沉积硅镀层
陆静
王艳辉
臧建兵
《超硬材料工程》
CAS
2007
2
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职称材料
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