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Preparation and characteristics of indium tin oxide (ITO) thin films at low temperature by r.f. magnetron sputtering 被引量:4
1
作者 REN Bingyan LIU Xiaoping WANG Minhua XU Ying 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2006年第z1期137-140,共4页
Low resistivity and highly transparent ITO conducting films for solar cell applications were fabricated at low temperature by r.f. magnetron sputtering. ITO films were deposited on glass and silicon substrate. Electri... Low resistivity and highly transparent ITO conducting films for solar cell applications were fabricated at low temperature by r.f. magnetron sputtering. ITO films were deposited on glass and silicon substrate. Electrical, optical, structural and morphological properties of the ITO films were investigated in terms of the preparation conditions. The annealing treatment has improved the properties of the ITO films at different degree. The maximum transmittance of the obtained ITO films in the visible range is over 92%, and the low resistivity for the ITO films are about 3.85×10-4 Ω·cm at 80 ℃, 80 W after annealing. 展开更多
关键词 ITO r.f. magnetron sputtering low temperature ANNEALING
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Growth and Microstructure of r.f. Sputtered Fe/Ti Multilayers
2
作者 Wei WANG Shenyang National Laboratory for Materials Science, Institute of Metal Research, Chinese Academy of Sciences, Shenyang 110016, China Lishi WEN Department of Surface Engineering of Materials, Institute of Metal Research, Chinese Academy of Science 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2001年第5期521-524,共4页
Fe/Ti multilayers with different modulation wavelengths (Lambda) prepared by r.f. sputtering has been investigated by using cross sectional transmission electron microscopy (XTEM). It was observed that the columnar st... Fe/Ti multilayers with different modulation wavelengths (Lambda) prepared by r.f. sputtering has been investigated by using cross sectional transmission electron microscopy (XTEM). It was observed that the columnar structure, interface morphology, and metastable phase presented at the interface of the multilayer system strongly depend on the bilayer thickness (Lambda). For high period multilayers, the waviness wavelength of interfaces is about two times broader than the column diameter. For a sample with Lambda =30 nm, its column width and waviness wavelength was about 80, and 190 nm, respectively. Both of them decreased with the reduction of Lambda, so as to nearly equal values of column diameter and waviness wavelength were obtained. The Fe and Ti grains of both 30 nm and 6 nm multilayers are polycrystalline, and have a textured structure. In short bilayer thickness (Lambda =6 nm), the intermetallic compound Fe2Ti was presented at the interfaces due to solid state reaction; for Lambda =2 nm, amorphous phase Ti-rich layer was formed at the interfaces, resulting in a sharp interface multilayer structure. 展开更多
关键词 TI Growth and Microstructure of r.f sputtered Fe/Ti Multilayers FE
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A comparison of transmittance properties between ZnO∶Al films for transparent conductors for solar cells deposited by sputtering of AZO and cosputtering of AZO/ZnO 被引量:8
3
作者 LEE Chongmu YIM Keunbin +1 位作者 CHO Youngjoon Lee J.G. 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2006年第z1期105-109,共5页
Aluminum-doped zinc oxide (AZO) thin films were deposited on sapphire (002) and glass substrates by two different sputtering techniques radio frequency magnetron cosputtering of AZO and ZnO targets and sputtering of a... Aluminum-doped zinc oxide (AZO) thin films were deposited on sapphire (002) and glass substrates by two different sputtering techniques radio frequency magnetron cosputtering of AZO and ZnO targets and sputtering of an AZO target. The dependence of the photoluminescence (PL) and transmittance properties of the AZO films deposited by cosputtering and sputtering on the AZO/ZnO target power ratio, R and the O2/Ar flow ratio, r were investigated, respectively. Only a deep level emission peak appears in the PL spectra of cosputtered AZO films whereas both UV emission and deep level emission peaks are observed in the PL spectra of sputtered AZO films. The absorption edges in the transmittance spectra of the AZO films shift to the lower wavelength region as R and r increase. Effects of crystallinity, surface roughness, PL on the transmittance of the AZO films were also explained using the X-ray diffraction (XRD), atomic force microscopy (AFM), and PL analysis results. 展开更多
关键词 Al-doped ZnO (AZO) r.f. magnetron sputtering r.f. power transparent conducting oxide (TCO) TRANSMITTANCE
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R.F.溅射Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3薄膜及其光学特性研究
4
作者 张柏顺 章天金 +1 位作者 江娟 何军 《湖北大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2005年第3期242-245,共4页
用R.F.磁控溅射法在石英衬底上沉积Ba0.65Sr0.35TiO3薄膜,应用XRD与SEM表征了BST薄膜的晶化行为及其表面形貌.在550 ℃衬底温度下沉积的薄膜,其表面光滑、晶粒大小分布均匀.应用双光束分光光度计,在200~900 nm的波长范围测量了薄膜的... 用R.F.磁控溅射法在石英衬底上沉积Ba0.65Sr0.35TiO3薄膜,应用XRD与SEM表征了BST薄膜的晶化行为及其表面形貌.在550 ℃衬底温度下沉积的薄膜,其表面光滑、晶粒大小分布均匀.应用双光束分光光度计,在200~900 nm的波长范围测量了薄膜的透射光谱,并根据'包络法'理论计算薄膜的折射指数.结果表明,随着辐射波长从650 nm减小到480 nm,薄膜的折射率从2.04增加到2.15;随着波长进一步降低,折射率急速上升,到420 nm时,折射率升至2.40,显示出典型的电子带间跃迁的色散曲线.由'包络法'和Tauc关系确定BST薄膜的光学能隙约为3.66 eV. 展开更多
关键词 BST薄膜 射频溅射 光学特性 极值包络法
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磁控反应溅射SiN_x薄膜的研究 被引量:15
5
作者 朱勇 沈伟东 +1 位作者 叶辉 顾培夫 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期154-157,共4页
用磁控反应溅射 (RF)的方法制备了SiNx 薄膜 分析了以硅为靶材 ,用N2 /Ar做溅射气体条件下不同的气流比率、总气压以及沉积速率对薄膜光学常数和表面结构形态的影响 ,得出较低总气压下气流比率对薄膜光学常数的影响是最关键的 ,而总气... 用磁控反应溅射 (RF)的方法制备了SiNx 薄膜 分析了以硅为靶材 ,用N2 /Ar做溅射气体条件下不同的气流比率、总气压以及沉积速率对薄膜光学常数和表面结构形态的影响 ,得出较低总气压下气流比率对薄膜光学常数的影响是最关键的 ,而总气压较大的时候 ,水汽影响增大 ,气流比率的影响反而不明显 最后提出了合适的工艺条件来制备符合要求的SiNx 展开更多
关键词 SiNx薄膜 磁控反应溅射 光学常数
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氨气和氮气气氛下热处理对ITO薄膜光电性能的影响 被引量:9
6
作者 杨盟 刁训刚 +1 位作者 刘海鹰 王天民 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第10期1637-1641,共5页
利用射频磁控溅射在室温玻璃衬底上制备了氧化铟锡(ITO)薄膜,并分别在氨气、氮气和空气气氛下对薄膜进行了热处理。利用X射线衍射、霍尔效应、UV-VIS-NIR分光光度计等测试手段对薄膜样品进行表征,研究了不同热处理气氛及温度对ITO薄膜... 利用射频磁控溅射在室温玻璃衬底上制备了氧化铟锡(ITO)薄膜,并分别在氨气、氮气和空气气氛下对薄膜进行了热处理。利用X射线衍射、霍尔效应、UV-VIS-NIR分光光度计等测试手段对薄膜样品进行表征,研究了不同热处理气氛及温度对ITO薄膜光电特性的影响。结果发现在不同气氛下热处理均能明显提高ITO薄膜在可见光区的透过率,氨气气氛下更有利于薄膜导电特性的改善。 展开更多
关键词 射频磁控溅射 氨气和氮气气氛 热处理 ITO薄膜
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射频磁控溅射CN_x薄膜的结构与衬底温度关系的研究 被引量:4
7
作者 曹培江 姜志刚 +4 位作者 李俊杰 金曾孙 王欣 郑伟涛 李哲奎 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期275-278,共4页
使用射频磁控溅射方法在不同衬底温度下 ( ts=室温 ,35 0 ,5 0 0℃ )于 Si( 0 0 1 )衬底上沉积了 CNx 膜 ,并利用拉曼 ( Raman)光谱、傅里叶变换红外光谱 ( FTIR)及 X射线衍射光电子能谱 ( XPS)对 CNx 膜的化学结合状态与温度的关系进... 使用射频磁控溅射方法在不同衬底温度下 ( ts=室温 ,35 0 ,5 0 0℃ )于 Si( 0 0 1 )衬底上沉积了 CNx 膜 ,并利用拉曼 ( Raman)光谱、傅里叶变换红外光谱 ( FTIR)及 X射线衍射光电子能谱 ( XPS)对 CNx 膜的化学结合状态与温度的关系进行了研究 .Raman光谱结果表明 ,随衬底温度 ( ts)增加 ,D带向低频方向移动 ,G带向高频方向移动 ;它们的半高宽分别由 375和 1 5 0 cm- 1减小至 32 8和 1 4 2 cm- 1 ;ID/IG 由 3.76减小至 2 .88.FTIR谱中除无序 D带 ( 1 4 0 0 cm- 1 )和石墨 G带 ( 1 5 70 cm- 1 )外 ,还有~ 70 0 cm- 1 ,~ 2 2 1 0 cm- 1 ( C≡ N) ,2 330 cm- 1 ( C—O)及 3 2 5 5~ 335 1 cm- 1 ( N—H)等峰 .XPS测试结果表明 :随衬底温度增加 ,N与 C的物质的量比由 0 .4 9下降至 0 .38,sp2 ( C—N)组分与 sp3( C—N)组分强度比呈增大趋势 .低温 ( 35 0℃ )退火并未对CNx 膜的化学结合状态产生较大影响 ;高温 ( 90 0℃ ) 展开更多
关键词 射频磁控溅射 化学结合状态 结构 氮化碳薄膜 衬底温度 退火温度 FTIR XPS 拉曼光谱
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有机衬底和玻璃衬底ZnO:Al透明导电膜的结构及光电特性对比研究 被引量:5
8
作者 杨田林 韩圣浩 +1 位作者 张鹏 王爱芳 《液晶与显示》 CAS CSCD 2004年第5期329-333,共5页
讨论了在低温条件下制备的ZnO∶Al薄膜的结构、表面形貌和光电特性,对聚酰亚胺(Polyimide,PI)和玻璃两种不同衬底的薄膜进行了比较研究。两种不同衬底的薄膜均为多晶膜,具有六角纤锌矿结构,最佳取向均为(002)方向,衬底温度从室温到210℃... 讨论了在低温条件下制备的ZnO∶Al薄膜的结构、表面形貌和光电特性,对聚酰亚胺(Polyimide,PI)和玻璃两种不同衬底的薄膜进行了比较研究。两种不同衬底的薄膜均为多晶膜,具有六角纤锌矿结构,最佳取向均为(002)方向,衬底温度从室温到210℃时,制备的薄膜密度变化范围为4.6~5.16g/cm3。在柔性衬底和玻璃衬底上制备的薄膜最低电阻率分别为5.3×10-4Ω·cm和5.1×10-4Ω·cm,薄膜在可见光区的平均透过率分别达到了72%和85%,讨论了两种衬底薄膜电学特性的稳定性。 展开更多
关键词 氧化锌薄膜 铝掺杂 薄膜结构 光电性能 射频磁控溅射法
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同质缓冲层厚度对磁控溅射法制备玻璃基AZO薄膜的结构与光电性能影响 被引量:3
9
作者 王鹏 赵青南 +1 位作者 周祥 赵修建 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A03期589-593,共5页
室温下在玻璃基片上用射频磁控溅射法制备了不同厚度的ZnO:Al(AZO)缓冲层,并在该同质缓冲层上溅射生长了AZO薄膜。用XRD测试了薄膜结构,用四探针法测量了薄膜方块电阻,用紫外-可见光谱仪测试了薄膜透过率,用双光束红外分光光度计测试了... 室温下在玻璃基片上用射频磁控溅射法制备了不同厚度的ZnO:Al(AZO)缓冲层,并在该同质缓冲层上溅射生长了AZO薄膜。用XRD测试了薄膜结构,用四探针法测量了薄膜方块电阻,用紫外-可见光谱仪测试了薄膜透过率,用双光束红外分光光度计测试了薄膜在中红外范围内的红外反射率。并比较并分析了引入同质缓冲层前后薄膜结构与性能的变化。结果表明,与没有缓冲层的样品相比较,适当厚度的同质缓冲层能降低AZO薄膜中的残余应力,使薄膜晶粒尺寸变大,降低AZO薄膜的方块电阻,使薄膜的紫外截止边发生蓝移,增加薄膜的红外反射率,并不明显影响薄膜的可见光透过率。 展开更多
关键词 同质缓冲层 ZNO:AL薄膜 射频磁控溅射法 方块电阻 玻璃基片
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射频磁控溅射法制备SnO_2∶Sb透明导电薄膜的光电性能研究 被引量:9
10
作者 陈甲林 赵青南 张君 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2005年第5期406-411,共6页
采用射频磁控溅射法在载波片玻璃衬底上制备了锑掺杂二氧化锡(SnO2∶Sb)透明导电薄膜。利用霍耳效应实验、紫外可见光光谱仪、n(折射率)k(消光系数)d(薄膜厚度)光谱仪对该导电薄膜的光电性能进行了测试。讨论了氧气分压对样品光电性能... 采用射频磁控溅射法在载波片玻璃衬底上制备了锑掺杂二氧化锡(SnO2∶Sb)透明导电薄膜。利用霍耳效应实验、紫外可见光光谱仪、n(折射率)k(消光系数)d(薄膜厚度)光谱仪对该导电薄膜的光电性能进行了测试。讨论了氧气分压对样品光电性能的影响,增加氧气分压,薄膜的厚度减小、吸收边和截止波长蓝移,光学带隙增大,并且氧气分压对薄膜电阻率、载流子浓度和霍耳迁移率的影响不是线性的,而是存在一个最佳值。当氧气分压为0.10 Pa时,薄膜的光电性能最佳,此时膜厚为399 nm,可见光平均透过率为70%,电阻率为2.5×10-3Ω.cm,载流子浓度为1.2×1021cm-3,载流子霍耳迁移率为2.04 cm2.V-1.s-1,其光电特性已达到了TFT-LCD透明电极的要求。 展开更多
关键词 射频磁控溅射 透明导电薄膜 光电性能 氧气分压
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光纤ZnO薄膜的制备及光催化性能研究 被引量:2
11
作者 王英连 刘玉华 +1 位作者 任思雨 孙汪典 《环境污染治理技术与设备》 CAS CSCD 北大核心 2005年第3期33-36,共4页
实验利用射频磁控溅射镀膜工艺,分别在光纤和石英玻璃上成功制备了ZnO薄膜。采用X射线衍射仪、原子力显微镜和荧光分光光度计对薄膜进行了测试分析,并对其光催化降解苯酚的性能进行了对比测试。结果表明,该薄膜具有良好的C轴取向性,光... 实验利用射频磁控溅射镀膜工艺,分别在光纤和石英玻璃上成功制备了ZnO薄膜。采用X射线衍射仪、原子力显微镜和荧光分光光度计对薄膜进行了测试分析,并对其光催化降解苯酚的性能进行了对比测试。结果表明,该薄膜具有良好的C轴取向性,光致发光峰分别位于362nm、421nm和486nm附近,且随着薄膜样品晶粒的减小而出现蓝移,光纤上ZnO薄膜的光催化能力是以石英玻璃为基底的ZnO薄膜的193倍,光催化效果显著。 展开更多
关键词 石英玻璃 制备 光催化性能 镀膜工艺 ZNO薄膜 苯酚 C轴取向 光致发光 蓝移 射频磁控溅射
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磁控溅射法在玻璃基片制备VO_2薄膜的结构与性能 被引量:7
12
作者 黄维刚 王燕 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期797-799,共3页
采用射频磁控溅射法在玻璃基片上制备了VO2薄膜。采用XRD、AFM和红外光谱仪研究了不同基片温度所得薄膜的结构、光学性能和相变特性。实验结果表明,薄膜的结晶程度随基片温度的增加而增加,并且VO2具有(011)择优取向。基片温度在400℃以... 采用射频磁控溅射法在玻璃基片上制备了VO2薄膜。采用XRD、AFM和红外光谱仪研究了不同基片温度所得薄膜的结构、光学性能和相变特性。实验结果表明,薄膜的结晶程度随基片温度的增加而增加,并且VO2具有(011)择优取向。基片温度在400℃以上的VO2薄膜均出现较好的相变特性,500℃时的薄膜相变特性最佳。薄膜的红外透过率随着沉积温度的增加而逐渐增加。 展开更多
关键词 VO2薄膜 射频磁控溅射法 相变特性
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Zn-Sn-O透明导电膜的制备和光电性质 被引量:1
13
作者 马瑾 黄树来 +3 位作者 计峰 余旭浒 王玉恒 马洪磊 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期519-521,共3页
采用射频磁控溅射法在 70 5 9玻璃衬底上低温制备出Zn Sn O透明导电薄膜。制备薄膜为非晶结构 ,并且具有很好的稳定性 ,与玻璃衬底具有良好的附着性。薄膜主要是依靠膜中的氧空位导电 ,薄膜的电阻率强烈地依赖溅射气体中的氧分压。制备... 采用射频磁控溅射法在 70 5 9玻璃衬底上低温制备出Zn Sn O透明导电薄膜。制备薄膜为非晶结构 ,并且具有很好的稳定性 ,与玻璃衬底具有良好的附着性。薄膜主要是依靠膜中的氧空位导电 ,薄膜的电阻率强烈地依赖溅射气体中的氧分压。制备薄膜的最低电阻率为 2 2 7×10 - 3Ω·cm ,在可见光范围内的平均透过率达超过 90 %。 展开更多
关键词 透明导电膜 Zn-Sn-O 射频磁控溅射
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SnO_2的含量对ITO透明导电薄膜结构和光电特性的影响 被引量:4
14
作者 杨田林 王爱芳 韩圣浩 《光电子技术》 CAS 2004年第2期89-92,共4页
阐述了射频磁控溅射方法制备的柔性衬底 ITO透明导电膜的结构和光电特性与靶材中 Sn O2 含量的关系。ITO靶材中 In2 O3 掺杂 Sn O2 最佳比例 (质量比 )为 7.5 % ,制备薄膜的霍耳迁移率为 89.3cm2 /( V· s) ,电阻率为 6.3× 1 0... 阐述了射频磁控溅射方法制备的柔性衬底 ITO透明导电膜的结构和光电特性与靶材中 Sn O2 含量的关系。ITO靶材中 In2 O3 掺杂 Sn O2 最佳比例 (质量比 )为 7.5 % ,制备薄膜的霍耳迁移率为 89.3cm2 /( V· s) ,电阻率为 6.3× 1 0 -4Ω· cm,在可见光范围内相对透过率为85 %左右 ,随着靶材中 Sn O2 含量增大 ,薄膜的光学带隙展宽。用不同掺杂比例的靶材制备的薄膜均为多晶纤锌矿结构 ,掺杂比例增大 ,样品的晶格常数变大 。 展开更多
关键词 ITO薄膜 掺杂比例 光电特性 射频溅射
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Au/(Si/SiO_2)/p-Si结构中电流输运机制的研究 被引量:3
15
作者 张开彪 马书懿 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2005年第7期56-57,60,共3页
用射频磁控溅射法制备了Si/SiO2薄膜,利用Au/(Si/SiO2)/p-Si结构的I-V特性曲线对其输运机制进行了分析。结果表明,在较高的正向电场下,载流子主要是以电场协助隧穿(Fowler-Nordheim隧穿)方式通过氧化层,而在低场范围内和反向电场下,电... 用射频磁控溅射法制备了Si/SiO2薄膜,利用Au/(Si/SiO2)/p-Si结构的I-V特性曲线对其输运机制进行了分析。结果表明,在较高的正向电场下,载流子主要是以电场协助隧穿(Fowler-Nordheim隧穿)方式通过氧化层,而在低场范围内和反向电场下,电流的产生则以热电子发射的方式为主。 展开更多
关键词 半导体技术 射频磁控溅射 I-V特性 电场协助隧穿
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溶胶-凝胶法与射频磁控溅射法制备ZnO薄膜及其表征对比 被引量:1
16
作者 任思雨 王英连 +1 位作者 孙汪典 刘玉华 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第11期50-52,56,共4页
分别对溶胶-凝胶法和磁控溅射法制备ZnO进行了详细的介绍,并借助X射线衍射、原子力显微镜、拉曼光谱分析、紫外吸收等检测手段对这两种方法生长的薄膜进行了分析比较。分析显示:相同石英基底,相同退火温度下生长ZnO薄膜,磁控溅射法生长... 分别对溶胶-凝胶法和磁控溅射法制备ZnO进行了详细的介绍,并借助X射线衍射、原子力显微镜、拉曼光谱分析、紫外吸收等检测手段对这两种方法生长的薄膜进行了分析比较。分析显示:相同石英基底,相同退火温度下生长ZnO薄膜,磁控溅射法生长的ZnO薄膜要比溶胶-凝胶法生长的ZnO薄膜有更优异的c轴取向特性,生长的薄膜结晶更加均匀、致密。 展开更多
关键词 ZNO薄膜 溶胶-凝胶 磁控溅射
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退火温度和ZnO缓冲层对氨化Ga_2O_3/ZnO薄膜合成GaN纳米结构的影响 被引量:1
17
作者 王书运 庄惠照 高海永 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第4期568-570,591,共4页
利用射频磁控溅射法在Si(111)衬底上先溅射ZnO缓冲层,再溅射Ga2O3薄膜,然后在开管炉中不同温度下通氨气进行氨化反应生长GaN薄膜。分析结果表明,利用该方法制备的GaN薄膜是六角纤锌矿多晶结构,并且随着氨化温度的升高,GaN薄膜向棒状和... 利用射频磁控溅射法在Si(111)衬底上先溅射ZnO缓冲层,再溅射Ga2O3薄膜,然后在开管炉中不同温度下通氨气进行氨化反应生长GaN薄膜。分析结果表明,利用该方法制备的GaN薄膜是六角纤锌矿多晶结构,并且随着氨化温度的升高,GaN薄膜向棒状和线状形态转变。同时分析了ZnO缓冲层对形成GaN纳米结构的影响。 展开更多
关键词 射频磁控溅射 GAN薄膜 ZnO缓冲层 氨化反应
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微型传感器中氮化硅薄膜的微加工技术 被引量:2
18
作者 金鹏 谭久彬 刘岩 《传感器技术》 CSCD 北大核心 2001年第3期51-53,共3页
简要介绍了基于磁控射频溅射技术的Si3 N4 薄膜沉积技术及Si3 N4 薄膜基于剥离 (lift-off)技术的微加工技术。
关键词 微型传感器 氮化硅薄膜 微加工技术
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扩镓硅基GaN晶体膜质量的电镜分析 被引量:2
19
作者 王书运 孙振翠 +1 位作者 曹文田 薛成山 《分析测试技术与仪器》 CAS 2004年第2期75-79,共5页
采用射频磁控溅射工艺在扩镓硅基上溅射Ga2O3薄膜,氮化反应组装GaN晶体膜,并对其生长条件进行研究.用扫描电镜(SEM)和X射线衍射(XRD)对样品进行结构、形貌分析.观测结果表明:采用此方法得到的在预沉积扩镓硅基上生长的GaN晶体膜,随着扩... 采用射频磁控溅射工艺在扩镓硅基上溅射Ga2O3薄膜,氮化反应组装GaN晶体膜,并对其生长条件进行研究.用扫描电镜(SEM)和X射线衍射(XRD)对样品进行结构、形貌分析.观测结果表明:采用此方法得到的在预沉积扩镓硅基上生长的GaN晶体膜,随着扩镓时间的增加,薄膜的晶化程度得到明显提高,而氮化时间对构成GaN薄膜的颗粒形态影响不大. 展开更多
关键词 Ga2O3薄膜 GaN晶体膜 射频磁控溅射 扩镓时间 氮化时间
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源气体流量比对F-DLC薄膜结构的影响 被引量:6
20
作者 江美福 宁兆元 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2003年第4期539-541,共3页
以高纯石墨作靶、CHF3/Ar作源气体采用反应磁控溅射法制备出了氟化类金刚石 (F -DLC)薄膜。拉曼光谱表明 ,CHF3相对流量的增加会引起薄膜的D峰与G峰强度之比I(D) /I(G)减小 ,晶粒增大 ,芳香环结构比例下降。红外吸收光谱分析证实了这些... 以高纯石墨作靶、CHF3/Ar作源气体采用反应磁控溅射法制备出了氟化类金刚石 (F -DLC)薄膜。拉曼光谱表明 ,CHF3相对流量的增加会引起薄膜的D峰与G峰强度之比I(D) /I(G)减小 ,晶粒增大 ,芳香环结构比例下降。红外吸收光谱分析证实了这些推论 ,指出这是由于薄膜中氟含量上升的结果。 展开更多
关键词 源气体 流量比 F-DLC薄膜 影响 反应磁控溅射法 氟化类金刚石薄膜 拉曼光谱
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