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A comparison of transmittance properties between ZnO∶Al films for transparent conductors for solar cells deposited by sputtering of AZO and cosputtering of AZO/ZnO 被引量:8
1
作者 LEE Chongmu YIM Keunbin +1 位作者 CHO Youngjoon Lee J.G. 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2006年第z1期105-109,共5页
Aluminum-doped zinc oxide (AZO) thin films were deposited on sapphire (002) and glass substrates by two different sputtering techniques radio frequency magnetron cosputtering of AZO and ZnO targets and sputtering of a... Aluminum-doped zinc oxide (AZO) thin films were deposited on sapphire (002) and glass substrates by two different sputtering techniques radio frequency magnetron cosputtering of AZO and ZnO targets and sputtering of an AZO target. The dependence of the photoluminescence (PL) and transmittance properties of the AZO films deposited by cosputtering and sputtering on the AZO/ZnO target power ratio, R and the O2/Ar flow ratio, r were investigated, respectively. Only a deep level emission peak appears in the PL spectra of cosputtered AZO films whereas both UV emission and deep level emission peaks are observed in the PL spectra of sputtered AZO films. The absorption edges in the transmittance spectra of the AZO films shift to the lower wavelength region as R and r increase. Effects of crystallinity, surface roughness, PL on the transmittance of the AZO films were also explained using the X-ray diffraction (XRD), atomic force microscopy (AFM), and PL analysis results. 展开更多
关键词 AL-DOPED ZNO (AZO) R.F. magnetron sputtering R.F. power transparent conducting oxide (TCO) TRANSMITTANCE
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Preparation and characteristics of indium tin oxide (ITO) thin films at low temperature by r.f. magnetron sputtering 被引量:4
2
作者 REN Bingyan LIU Xiaoping WANG Minhua XU Ying 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2006年第z1期137-140,共4页
Low resistivity and highly transparent ITO conducting films for solar cell applications were fabricated at low temperature by r.f. magnetron sputtering. ITO films were deposited on glass and silicon substrate. Electri... Low resistivity and highly transparent ITO conducting films for solar cell applications were fabricated at low temperature by r.f. magnetron sputtering. ITO films were deposited on glass and silicon substrate. Electrical, optical, structural and morphological properties of the ITO films were investigated in terms of the preparation conditions. The annealing treatment has improved the properties of the ITO films at different degree. The maximum transmittance of the obtained ITO films in the visible range is over 92%, and the low resistivity for the ITO films are about 3.85×10-4 Ω·cm at 80 ℃, 80 W after annealing. 展开更多
关键词 ITO r.f. MAGNETRON sputtering low temperature ANNEALING
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源气体流量比对F-DLC薄膜结构的影响 被引量:6
3
作者 江美福 宁兆元 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2003年第4期539-541,共3页
以高纯石墨作靶、CHF3/Ar作源气体采用反应磁控溅射法制备出了氟化类金刚石 (F -DLC)薄膜。拉曼光谱表明 ,CHF3相对流量的增加会引起薄膜的D峰与G峰强度之比I(D) /I(G)减小 ,晶粒增大 ,芳香环结构比例下降。红外吸收光谱分析证实了这些... 以高纯石墨作靶、CHF3/Ar作源气体采用反应磁控溅射法制备出了氟化类金刚石 (F -DLC)薄膜。拉曼光谱表明 ,CHF3相对流量的增加会引起薄膜的D峰与G峰强度之比I(D) /I(G)减小 ,晶粒增大 ,芳香环结构比例下降。红外吸收光谱分析证实了这些推论 ,指出这是由于薄膜中氟含量上升的结果。 展开更多
关键词 源气体 流量比 F-DLC薄膜 影响 反应磁控溅射法 氟化类金刚石薄膜 拉曼光谱
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氮化处理对ITO薄膜光电特性影响 被引量:1
4
作者 杨盟 刁训刚 +2 位作者 刘海鹰 武哲 舒远杰 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第9期1518-1521,共4页
利用射频磁控溅射在玻璃衬底上制备了氧化铟锡(ITO)薄膜,分别采用两种方法对薄膜进行氮化处理,即:(1)利用氩气溅射在室温下制备薄膜,随后在氮气和氨气气氛下对薄膜进行热处理;(2)利用氩气/氮气共溅射成膜。利用X射线衍射、霍尔效应、UV-... 利用射频磁控溅射在玻璃衬底上制备了氧化铟锡(ITO)薄膜,分别采用两种方法对薄膜进行氮化处理,即:(1)利用氩气溅射在室温下制备薄膜,随后在氮气和氨气气氛下对薄膜进行热处理;(2)利用氩气/氮气共溅射成膜。利用X射线衍射、霍尔效应、UV-vis-NIR分光光度计等测试手段对薄膜样品进行表征,对比研究了两种氮化处理方法对ITO薄膜光电特性的影响。结果发现对于低温生长的薄膜,两种方法均能明显提高其在可见光区的透过率。氩气/氮气共溅射的方法会降低薄膜的结晶程度,降低载流子浓度,但使得其紫外/可见/近红外光谱发生明显红移;而热处理方法则能增加薄膜的结晶程度,提高其导电能力。 展开更多
关键词 射频磁控溅射 氨气和氮气气氛下热处理 氮气共溅射 ITO薄膜
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C镶嵌SiO2薄膜电致发光谱的数值分析 被引量:1
5
作者 张国恒 马书懿 +4 位作者 陈彦 张汉谋 徐小丽 魏晋军 孙小菁 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期145-147,共3页
采用磁控溅射法制备了含纳米碳粒的氧化硅薄膜,在室温下测量了Au/镶嵌纳米碳粒氧化硅膜/p-Si结构的电致发光谱,电致发光谱显示,随着正向偏压的增加,来自该结构的电致发光峰位于650nm处几乎不移动,发光强度增大。利用位形坐标模型对C镶嵌... 采用磁控溅射法制备了含纳米碳粒的氧化硅薄膜,在室温下测量了Au/镶嵌纳米碳粒氧化硅膜/p-Si结构的电致发光谱,电致发光谱显示,随着正向偏压的增加,来自该结构的电致发光峰位于650nm处几乎不移动,发光强度增大。利用位形坐标模型对C镶嵌SiO2薄膜的电致发光谱进行了分析,结果表明该结构的电致发光谱存在1.8和2.0eV左右的两个发光中心,分别来自SiO2层的非桥氧空位和纳米C团簇。 展开更多
关键词 磁控溅射 纳米碳粒 电致发光 位形坐标
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热处理工艺对(111)取向Pt薄膜物相与结构的影响 被引量:1
6
作者 江民红 顾正飞 +2 位作者 陈国华 成钢 申罡 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第B08期142-145,共4页
采用射频磁控溅射法成功制备了(111)取向的Pt薄膜。在研究退火工艺对Pt薄膜(111)取向生长的影响基础上,着重研究了退火工艺对Pt薄膜与缓冲层Pr薄膜间的互扩散及薄膜物相、结构的影响规律。结果表明:250℃保温5至25小时,Pt薄膜沿(111)择... 采用射频磁控溅射法成功制备了(111)取向的Pt薄膜。在研究退火工艺对Pt薄膜(111)取向生长的影响基础上,着重研究了退火工艺对Pt薄膜与缓冲层Pr薄膜间的互扩散及薄膜物相、结构的影响规律。结果表明:250℃保温5至25小时,Pt薄膜沿(111)择优取向生长,但保温时间对取向生长的影响不大,此时薄膜为立方结构;当500℃再分别保温2h和4h时,最初沿(111)取向生长的Pt薄膜与Pr薄膜发生互扩散现象,生成BFe结构的PrPt相,保温2h时,除生成PrPt相外,还可能存在一定量的取向Pt,保温4h时,薄膜中只存在PrPt相。本实验为制备(111)强烈取向Pt薄膜开拓了一条新的工艺及方法,同时为控制Pt薄膜的结构与性能、进行开发应用提供了实验依据。 展开更多
关键词 Pt薄膜 (111)取向 射频磁控溅射 热处理工艺 PrPt相
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负偏压功率对溅射沉积钛、铜薄膜电阻的影响 被引量:3
7
作者 付学成 王英 +2 位作者 沈赟靓 李进喜 权雪玲 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第11期980-984,共5页
为了研究负偏压功率对直流溅射沉积铜、钛两种金属薄膜电阻率的影响,在采用相同的工艺条件溅射沉积两种金属薄膜的同时分别加上0、50、150 W的负偏压功率,发现随着偏压功率由0增加到150 W,制备的钛薄膜厚度下降了25%,电阻率下降到原来的... 为了研究负偏压功率对直流溅射沉积铜、钛两种金属薄膜电阻率的影响,在采用相同的工艺条件溅射沉积两种金属薄膜的同时分别加上0、50、150 W的负偏压功率,发现随着偏压功率由0增加到150 W,制备的钛薄膜厚度下降了25%,电阻率下降到原来的18%,而对于铜薄膜随着偏压功率由0增加150 W,厚度下降了5%,电阻率却增加到原来的4倍。用原子力显微镜和X射线衍射仪器分析了不同负偏压功率下制备的两种金属薄膜的表面粗糙度和两种金属薄膜的结晶情况,并用Fuchs-Sondheimer理论和Mayadas-Shatzkes理论解释偏压功率引起两种金属电阻变化的原因。这为教学实验、真空镀膜工艺和集成电路生产领域沉积不同结构及电阻的金属薄膜提供参考。 展开更多
关键词 负偏压功率 磁控溅射 钛薄膜 铜薄膜 电阻率 F-S&M-S理论
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SnO_2气敏薄膜的制作与性能研究 被引量:1
8
作者 于国萍 易涛 +1 位作者 魏正和 曾志峰 《武汉大学学报(理学版)》 CAS CSCD 北大核心 2003年第5期613-616,共4页
采用射频溅射法制备了SnO2气敏薄膜,并在薄膜中掺杂Sb2O3和Pt用于气敏薄膜的增敏.使用XRD对制备的薄膜进行了结构分析,测量了薄膜的吸收光谱和电阻,并研究了薄膜工艺条件的改变对薄膜结构和性能的影响.结果表明,不同退火温度下处理的氧... 采用射频溅射法制备了SnO2气敏薄膜,并在薄膜中掺杂Sb2O3和Pt用于气敏薄膜的增敏.使用XRD对制备的薄膜进行了结构分析,测量了薄膜的吸收光谱和电阻,并研究了薄膜工艺条件的改变对薄膜结构和性能的影响.结果表明,不同退火温度下处理的氧化锡薄膜均为金红石结构,退火温度对薄膜的晶粒尺寸和电阻有较大影响:退火温度愈高,薄膜中形成的晶粒越完整,晶化程度愈高;电阻率随着退火温度的升高而降低,考虑到气敏薄膜的敏感性能,本文选取1100℃为最佳退火温度.由于掺杂的影响,在氧化锡的禁带中产生了杂质能级,使薄膜对2722nm附近的红外光波产生了强烈吸收. 展开更多
关键词 SnO2气敏薄膜 制作方法 射频溅射法 氧化锡薄膜 薄膜结构 退火温度 敏感性能 金属氧化物半导体
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ITO薄膜射频磁控溅射法制备及性能研究 被引量:4
9
作者 夏冬林 杨晟 +1 位作者 王树林 赵修建 《玻璃与搪瓷》 CAS 2006年第4期13-16,共4页
以10%SnO2和90%In2O3(以质量计)烧结成的ITO氧化物陶瓷为靶材,采用射频磁控溅射法在玻璃基片成功地制备出光电性能优异的ITO透明导电薄膜。研究了基片温度和氧分压溅射工艺参数对ITO薄膜的结构和光电性能的影响。实验结果表明,采用氧化... 以10%SnO2和90%In2O3(以质量计)烧结成的ITO氧化物陶瓷为靶材,采用射频磁控溅射法在玻璃基片成功地制备出光电性能优异的ITO透明导电薄膜。研究了基片温度和氧分压溅射工艺参数对ITO薄膜的结构和光电性能的影响。实验结果表明,采用氧化铟锡陶瓷靶射频磁控溅射制备的ITO薄膜沿(222)晶面生长,薄膜紫外透射光谱的吸收截止边带随着衬底温度和氧分压的升高向短波长方向漂移。 展开更多
关键词 射频磁控溅射法 ITO 导电薄膜 光电性能 玻璃基片
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退火气氛对Al-F共掺杂ZnO薄膜结构和光电性能的影响 被引量:1
10
作者 马瑞新 王海峰 +2 位作者 王目孔 康勃 吴中亮 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第1期49-53,共5页
用射频磁控溅射法制备了Al-F共掺杂ZnO(ZnO(Al,F))透明导电薄膜,研究了不同退火气氛对ZnO(Al,F)薄膜的结构、电学和光学特性的影响。结果表明:在真空和还原性气氛中退火后的薄膜透光率呈现'蓝移'趋势,在空气中退火处理后的薄膜... 用射频磁控溅射法制备了Al-F共掺杂ZnO(ZnO(Al,F))透明导电薄膜,研究了不同退火气氛对ZnO(Al,F)薄膜的结构、电学和光学特性的影响。结果表明:在真空和还原性气氛中退火后的薄膜透光率呈现'蓝移'趋势,在空气中退火处理后的薄膜透光率则表现为'红移';在真空中,400℃×60min的退火处理,使ZnO(Al,F)薄膜的电阻率降低至1.41×10^(-3)Ω·cm,透光率则上升到93%以上,有效提高了薄膜的光电特性;所有退火气氛下,薄膜均具有(002)单一择优取向的多晶六方纤锌矿结构;薄膜的晶粒尺寸为25~30nm。 展开更多
关键词 ZnO(Al F) 透明导电薄膜 退火 射频磁控溅射
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SnO_2导电薄膜的制备与研究 被引量:1
11
作者 王磊 杜军 +2 位作者 毛昌辉 杨志明 熊玉华 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 2006年第2期6-8,共3页
采用R.F反应溅射法制备SnO2导电薄膜,用XRD、AFM、XPS研究了薄膜的结构和组成对导电性能的影响。XRD和AFM研究表明,随着衬底温度的增加,SnO2薄膜从非晶向多晶结构转变,表面粗糙度减弱,薄膜的表面电阻大幅增加。采用XPS对薄膜表面成分进... 采用R.F反应溅射法制备SnO2导电薄膜,用XRD、AFM、XPS研究了薄膜的结构和组成对导电性能的影响。XRD和AFM研究表明,随着衬底温度的增加,SnO2薄膜从非晶向多晶结构转变,表面粗糙度减弱,薄膜的表面电阻大幅增加。采用XPS对薄膜表面成分进行分析,对不同衬底温度下Sn3d5/2拟合发现,薄膜表面存在Sn2+和Sn4+两种混合价态。随着衬底温度的增加,Sn3d5/2能谱位置与峰宽并没有变化。对O1s能谱进行Gaussian拟合后发现,薄膜表面的氧以晶格氧(Ol2at-)和化学吸附氧(Oab-s)两种方式存在。实验证明,Oa-bs含量与SnO2表面电阻成正比关系。 展开更多
关键词 导电性能 SNO2薄膜 溅射 村底温度
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掺Ag离子的纳米CdTe薄膜的结构和电性能研究 被引量:1
12
作者 陈惠敏 郭福强 张保花 《河南大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2009年第5期465-469,共5页
采用射频(R.F.)磁控溅射在陶瓷(Al2O3)衬底上制备出了纳米晶CdTe薄膜,常温下将薄膜样品浸泡到AgNO3水溶液后,在真空380℃下退火60 min获得Ag离子掺杂的样品.利用X射线衍射(XRD)和场发射扫描电镜(FESEM)对掺杂前后薄膜的晶体结构、外貌... 采用射频(R.F.)磁控溅射在陶瓷(Al2O3)衬底上制备出了纳米晶CdTe薄膜,常温下将薄膜样品浸泡到AgNO3水溶液后,在真空380℃下退火60 min获得Ag离子掺杂的样品.利用X射线衍射(XRD)和场发射扫描电镜(FESEM)对掺杂前后薄膜的晶体结构、外貌形态进行了表征.利用扫描电镜配备的能量色散谱仪(EDS)对薄膜化合物元素组成进行定量分析,并使用HMS-3000型霍耳效应测试测定薄膜电导等电学参数. 展开更多
关键词 CDTE 薄膜 R.F.磁控溅射 掺杂
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低真空射频反应溅射 Ta_2O_5 减反射薄膜及其光伏应用 被引量:1
13
作者 魏晋云 刘滔 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第3期332-334,共3页
在低真空下,用射频反应溅射法在硅片和硅太阳电池上制备理想配比的非晶Ta2O5减反射薄膜。测定表明,其减反射性能良好。
关键词 射频反应溅射 减反射薄膜 五氧化二钽
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氮化ZnO/Ga_2O_3薄膜合成GaN纳米管
14
作者 庄惠照 高海永 +3 位作者 薛成山 王书运 何建廷 董志华 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第1期121-123,共3页
利用射频磁控溅射法在Si(111)衬底上先溅射ZnO中间层,接着溅射Ga2O3薄膜,然后ZnO/Ga2O3薄膜在管式炉中常压下通氨气进行氮化,高温下ZnO层在氨气的气氛中挥发,而Ga2O3薄膜和氨气反应合成出GaN纳米管.X射线衍射(XRD)测量结果表明利用该方... 利用射频磁控溅射法在Si(111)衬底上先溅射ZnO中间层,接着溅射Ga2O3薄膜,然后ZnO/Ga2O3薄膜在管式炉中常压下通氨气进行氮化,高温下ZnO层在氨气的气氛中挥发,而Ga2O3薄膜和氨气反应合成出GaN纳米管.X射线衍射(XRD)测量结果表明利用该方法制备的GaN具有沿c轴方向择优生长的六角纤锌矿结构.利用傅里叶红外光谱(FTIR)研究了所制备样品的光学性质.利用透射电子显微镜(TEM)和选区电子衍射(SAED)观测了样品的形貌和晶格结构. 展开更多
关键词 GaN纳米管 ZnO/Ga2O3薄膜 射频磁控溅射 氮化
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FC/ZnO杂化材料的制备及结构与性能
15
作者 张浴晖 齐宏进 《高分子材料科学与工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第10期83-86,共4页
采用射频磁控溅射法,分别以聚四氟乙烯(PTFE)和锌为靶,在聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)基底上沉积氟碳(FC)膜以及FC/ZnO的有机-无机纳米杂化材料。用SEM、UV、XPS对氟碳膜和杂化材料进行了表征。结果表明,氟碳膜形成了一种由纳米粒子-纳米... 采用射频磁控溅射法,分别以聚四氟乙烯(PTFE)和锌为靶,在聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)基底上沉积氟碳(FC)膜以及FC/ZnO的有机-无机纳米杂化材料。用SEM、UV、XPS对氟碳膜和杂化材料进行了表征。结果表明,氟碳膜形成了一种由纳米粒子-纳米孔洞组成的双纳米结构,随着ZnO沉积时间的不同,FC/ZnO杂化膜呈现出不同的表面形貌,杂化膜的生长模式是一种依附于有机核的沉积-扩张生长模式;杂化材料的F/C较低,随着氧化锌沉积时间的增加,F/C出现逐渐增大的趋势;杂化膜是一种多重抗紫外线辐射的功能膜。 展开更多
关键词 磁控溅射法 杂化材料 氟碳 氧化锌
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A Thermoelectric Transducer Based on Bismuth Telluride Thin Films for H_2 Gas Sensing
16
作者 K.Kalantar-Zadeh W.Wlodarski +1 位作者 S.Kandasamy G.Rosengarten 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第A03期190-193,共4页
We have developed a novel thermoelectric gas sensors based on bismuth telluride thin films.These sensors were employed for sensing different concentrations of H_2 gas.Radio frequency (R.F.) magnetron sputtering was em... We have developed a novel thermoelectric gas sensors based on bismuth telluride thin films.These sensors were employed for sensing different concentrations of H_2 gas.Radio frequency (R.F.) magnetron sputtering was employed to deposit the bismuth telluride (Bi_2Te_3) thin films.The morphology of such thin films was investigated and responses of the thermoelectric devices to H_2 were studied. 展开更多
关键词 bismuth teiluride(Bi2Te3) thermoelectric materials gas sensor H2 r.f.magnetron sputtering
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R.F.溅射Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3薄膜及其光学特性研究
17
作者 张柏顺 章天金 +1 位作者 江娟 何军 《湖北大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2005年第3期242-245,共4页
用R.F.磁控溅射法在石英衬底上沉积Ba0.65Sr0.35TiO3薄膜,应用XRD与SEM表征了BST薄膜的晶化行为及其表面形貌.在550 ℃衬底温度下沉积的薄膜,其表面光滑、晶粒大小分布均匀.应用双光束分光光度计,在200~900 nm的波长范围测量了薄膜的... 用R.F.磁控溅射法在石英衬底上沉积Ba0.65Sr0.35TiO3薄膜,应用XRD与SEM表征了BST薄膜的晶化行为及其表面形貌.在550 ℃衬底温度下沉积的薄膜,其表面光滑、晶粒大小分布均匀.应用双光束分光光度计,在200~900 nm的波长范围测量了薄膜的透射光谱,并根据'包络法'理论计算薄膜的折射指数.结果表明,随着辐射波长从650 nm减小到480 nm,薄膜的折射率从2.04增加到2.15;随着波长进一步降低,折射率急速上升,到420 nm时,折射率升至2.40,显示出典型的电子带间跃迁的色散曲线.由'包络法'和Tauc关系确定BST薄膜的光学能隙约为3.66 eV. 展开更多
关键词 BST薄膜 射频溅射 光学特性 极值包络法
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Ge量子点材料的制备工艺研究
18
作者 陈静 吴雪梅 +1 位作者 金宗明 诸葛兰剑 《苏州大学学报(自然科学版)》 CAS 1998年第3期39-43,共5页
采用射频磁控技术,用Ge、SiO_2的复合靶制备锗纳米晶镶嵌在二氧化硅中的复合薄膜.作为量子点的Ge纳米晶粒的尺寸是决定这类材料物性的关键,因而研究对镶嵌在SiO_2中的Ge晶粒尺寸调制的工艺十分重要.本文研究了制备过程中各种工艺参数与... 采用射频磁控技术,用Ge、SiO_2的复合靶制备锗纳米晶镶嵌在二氧化硅中的复合薄膜.作为量子点的Ge纳米晶粒的尺寸是决定这类材料物性的关键,因而研究对镶嵌在SiO_2中的Ge晶粒尺寸调制的工艺十分重要.本文研究了制备过程中各种工艺参数与薄膜中Ge晶粒尺寸的关系.结果表明通过溅射时控制基片温度能有效地对锗晶粒尺寸进行调制. 展开更多
关键词 量子点 射频磁控溅射 制备 半导体
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射频溅射法研制YBa_2Cu_3O_y高T_c超导薄膜
19
作者 姚凯伦 吴荣金 刘祖黎 《华中理工大学学报》 CSCD 北大核心 1991年第4期23-27,共5页
本文采用射频溅射法研制YBa_2Cu_3O_7高T_c超导薄膜,研究了溅射电压、气流、气压、基片及热处理工艺对超导膜成分、相结构及超导性能的影响,所得到的超导薄膜T_c(R=0)=89K,临界电流密度10~4~10~5A·cm^(-2).
关键词 射频溅射 YBACUO 高TC 超导 薄膜
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溅射功率对磁控溅射法制备MgF2薄膜组织和性能的影响 被引量:3
20
作者 赵长江 马超 +2 位作者 刘俊成 刘治钢 陈燕 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2020年第9期1064-1070,共7页
为了减少磁控溅射法沉积MgF2薄膜的F贫乏缺陷,在工作气体Ar2中加入SF6作为反应气体,在石英玻璃衬底上用射频磁控溅射法制备了MgF2薄膜,研究了溅射功率对MgF2薄膜化学成分、微观结构和光学性能的影响。结果表明,随着溅射功率从115 W增加... 为了减少磁控溅射法沉积MgF2薄膜的F贫乏缺陷,在工作气体Ar2中加入SF6作为反应气体,在石英玻璃衬底上用射频磁控溅射法制备了MgF2薄膜,研究了溅射功率对MgF2薄膜化学成分、微观结构和光学性能的影响。结果表明,随着溅射功率从115 W增加到220 W,F:Mg的原子比不断增加,185 W时达到2.02,最接近理想化学计量比2:1;薄膜的结晶度先提高后降低,最后转变为非晶态;MgF2薄膜的颗粒尺寸先是有所增加,轮廓也变得更加清晰,最后又变得模糊。MgF2薄膜的折射率先减小后增大,在185 W时获得最低值,550 nm波长的折射率1.384非常接近MgF2块体晶体;镀膜玻璃在300~1100 nm范围内的透光率(以下简称薄膜透光率)先增大后减小,185 W时达到94.99%,比玻璃基底的透光率高出1.79%。 展开更多
关键词 MgF2薄膜 F贫乏 透光率 减反射 溅射功率 磁控溅射
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