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飞秒激光加工参数对RB-SiC表面形貌的影响
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作者 吴东江 刘成 +4 位作者 杨峰 牛方勇 董志刚 马广义 康仁科 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第3期162-169,共8页
目的揭示飞秒激光加工参数对反应烧结碳化硅(Reaction-Bounded Silicon Carbide,RB-SiC)表面形貌的影响规律。方法通过改变激光能量密度和有效脉冲数,研究RB-SiC表面烧蚀槽的形貌变化规律,确定飞秒激光加工RB-SiC的去除机理。采用扫描... 目的揭示飞秒激光加工参数对反应烧结碳化硅(Reaction-Bounded Silicon Carbide,RB-SiC)表面形貌的影响规律。方法通过改变激光能量密度和有效脉冲数,研究RB-SiC表面烧蚀槽的形貌变化规律,确定飞秒激光加工RB-SiC的去除机理。采用扫描电镜、共聚焦显微镜、X射线能谱仪和拉曼光谱仪分析RB-SiC烧蚀前后的表面形貌演变行为。结果激光能量密度在0.62~10.48 J/cm^(2)时,Si富集区域形成凹陷结构,SiC颗粒区域形成周期性结构(Laser-Induced Periodic Surface Structures,LIPSS),周期约为970 nm。随着激光能量密度的增加,凹陷结构扩大加深,表面球形纳米颗粒增多,烧蚀槽宽度呈对数增长。有效脉冲数在69~1379,Si富集区域的去除量高于SiC颗粒区域的去除量。随着有效脉冲数增加,烧蚀槽深度显著加深,凹陷结构扩展成深坑结构,飞溅至烧蚀槽外侧的纳米颗粒聚集成团簇物,由Si、SiC和非晶态SiO_(2)构成的沉积物在烧蚀槽边缘形成堆积层。结论降低激光能量密度能够减少RB-SiC表面凹陷和纳米颗粒,有助于提升烧蚀形貌的一致性。增加有效脉冲数会促进烧蚀槽底部深坑结构的产生,进而扩大Si与SiC去除量之间的差异。 展开更多
关键词 飞秒激光 rb-sic 烧蚀槽 表面形貌 激光能量密度 有效脉冲数
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RB-SiC基底反射镜表面改性工艺的改进 被引量:7
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作者 申振峰 高劲松 +3 位作者 王笑夷 王彤彤 陈红 郑宣鸣 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第5期969-974,共6页
为了满足空间用大口径、复杂轻量化结构RB-SiC基底反射镜对高性能表面质量的需求,针对RB-SiC基底的特性,提出了改进表面改性工艺的方法。采用高能量考夫曼离子源辅助,预先对基底进行碳化和加镀C缓冲层,并制备Si改性涂层的方法对RB-SiC... 为了满足空间用大口径、复杂轻量化结构RB-SiC基底反射镜对高性能表面质量的需求,针对RB-SiC基底的特性,提出了改进表面改性工艺的方法。采用高能量考夫曼离子源辅助,预先对基底进行碳化和加镀C缓冲层,并制备Si改性涂层的方法对RB-SiC基底进行了表面改性。测试结果表明:与单纯霍尔离子源辅助方法相比,该工艺方法制备的Si改性涂层生长得更加致密、均匀,抛光特性良好;改性抛光后表面粗糙度(rms)降低到0.635 nm,达到了S-SiC基底的水平;改性后RB-SiC基底的反射率明显提高,达到了抛光良好的微晶玻璃的水平。结果表明,该工艺方法是提高RB-SiC基底表面改性效果的一种合理有效的方法。 展开更多
关键词 碳化 rb-sic基底 SiC反射镜 表面改性
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2m大口径RB-SiC反射镜的磁控溅射改性 被引量:3
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作者 刘震 高劲松 +2 位作者 刘海 王笑夷 王彤彤 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第7期1557-1563,共7页
为了消除RB-SiC反射镜直接抛光后表面存在的微观缺陷,降低抛光后表面的粗糙度,提高表面质量,针对大口径SiC的特性,选择Si作为改性材料,利用磁控溅射技术对2m量级RB-SiC基底进行了表面改性。在自主研发的Φ3.2m的磁控溅射镀膜机上进行基... 为了消除RB-SiC反射镜直接抛光后表面存在的微观缺陷,降低抛光后表面的粗糙度,提高表面质量,针对大口径SiC的特性,选择Si作为改性材料,利用磁控溅射技术对2m量级RB-SiC基底进行了表面改性。在自主研发的Φ3.2m的磁控溅射镀膜机上进行基底镀膜,利用计算机控制光学成型法对SiC基底进行了抛光改性。实验结果表明,改性层厚度达到15μm;在直径2.04m范围内,膜层厚度均匀性优于±2.5%;表面粗糙度由直接抛光的5.64nm(RMS)降低到0.78nm。由此说明磁控溅射技术能够用于大口径RB-SiC基底的表面改性,并且改性后大口径RB-SiC的性能可以满足高质量光学系统的要求。 展开更多
关键词 光学加工 磁控溅射 表面改性 rb-sic 大口径
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RB-SiC亚表面损伤检测及其旋转超声磨削亚表面损伤特征 被引量:5
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作者 秦娜 郑亮 +1 位作者 刘亚龙 孔春雷 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第10期2714-2724,共11页
分别采用截面抛光法(包括以硅片作陪衬与以聚酯作陪衬两种形式)和界面黏接法检测了反应烧结碳化硅(Reaction Bonded SiC,RB-SiC)旋转超声磨削加工的亚表面损伤。为确定其中的最佳检测形式,采用表面破碎层深度、最大破碎层深度、平均裂... 分别采用截面抛光法(包括以硅片作陪衬与以聚酯作陪衬两种形式)和界面黏接法检测了反应烧结碳化硅(Reaction Bonded SiC,RB-SiC)旋转超声磨削加工的亚表面损伤。为确定其中的最佳检测形式,采用表面破碎层深度、最大破碎层深度、平均裂纹深度、最大裂纹深度4个亚表面损伤评价指标对两种方法分别检测到的RB-SiC旋转超声磨削亚表面损伤进行对比分析。结果显示:截面抛光法(硅片作陪衬)检测到的4个指标值依次为3.30μm、6.59μm、8.64μm、17.44μm;截面抛光法(聚酯作陪衬)检测到的4个指标值依次为5.71μm、14.33μm、15.36μm、54.82μm;而界面黏接法检测到的4个指标值依次为9.19μm、19.45μm、13.04μm、32.20μm。试验结果表明,截面抛光法(硅片作陪衬)检测的精度更高,检测的亚表面损伤更符合实际情况。最后,基于此方法,对旋转超声磨削RB-SiC材料的亚表面损伤特征进行了总结。 展开更多
关键词 旋转超声磨削 反应烧结碳化硅(rb-sic)材料 亚表面损伤 截面抛光法 界面黏接法
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RB-SiC反射镜的材料制备、表面改性及非球面加工 被引量:6
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作者 闫勇 金光 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第8期1750-1756,共7页
针对RB-SiC反射镜工程实践中暴露的一些问题,对RB-SiC反射镜的材料制备、表面改性及非球面加工等技术进行了研究。首先,依据其改性特殊性,选取了与RB-SiC反射镜材料热胀系数匹配的新型支撑材料进行热匹配设计。接着,依据实际工程情况对... 针对RB-SiC反射镜工程实践中暴露的一些问题,对RB-SiC反射镜的材料制备、表面改性及非球面加工等技术进行了研究。首先,依据其改性特殊性,选取了与RB-SiC反射镜材料热胀系数匹配的新型支撑材料进行热匹配设计。接着,依据实际工程情况对非球面加工工艺及流程进行技术改进,以提高加工的可靠性。最后,采用试验的方法对RB-SiC反射镜的相关加工方法进行了试验验证。试验结果表明,改性后RB-SiC反射镜完好,改性前后镜面面形精度RMS值变化量仅为0.017λ(λ=623.8 nm),变化率为13%,非球面加工周期缩短了1~2月。该技术确保了RB-SiC反射镜10μm的改性膜层在后续加工中的加工余量,使其不易被磨漏,提高了加工的安全性,缩短了非球面加工周期,该技术亦适用于其它SiC反射镜的制备及非球面加工。 展开更多
关键词 rb-sic反射镜 表面改性 非球面加工 加工周期
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RB-SiC表面改性Si涂层的制备与性能 被引量:4
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作者 苑永涛 刘红 +2 位作者 邵传兵 陈益超 方敬忠 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第5期1281-1284,共4页
为了获得高质量光学表面的碳化硅反射镜,利用射频磁控溅射方法,在直径70 mm的RB-SiC基片上沉积了厚约100μm的Si改性涂层,对改性层进行超光滑加工,并对改性层的表面形貌及性能进行了测试。ZYGO表面粗糙度仪测试结果表明,抛光后Si改性涂... 为了获得高质量光学表面的碳化硅反射镜,利用射频磁控溅射方法,在直径70 mm的RB-SiC基片上沉积了厚约100μm的Si改性涂层,对改性层进行超光滑加工,并对改性层的表面形貌及性能进行了测试。ZYGO表面粗糙度仪测试结果表明,抛光后Si改性涂层表面粗糙度均方根值达到了0.496 nm;X射线衍射仪测试显示,制备Si改性涂层为多晶结构;使用拉力机做附着力测试,结果表明膜基附着力大于10.7 MPa。证明采用磁控溅射技术制备的Si改性涂层均匀、致密、附着力好,能够满足RB-SiC材料表面改性要求。 展开更多
关键词 rb-sic 射频磁控溅射 表面改性 表面粗糙度
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反应连接230mm口径RB-SiC反射镜 被引量:2
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作者 张斌智 张舸 董德义 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第11期2360-2364,共5页
针对传统工艺难以制备口径大于1.2m的整块反射镜的问题,提出了反应连接制备大口径RB-SiC反射镜的工艺。该工艺在素坯阶段实现连接,一次反应烧结完成坯体的致密化和镜体的连接。采用该工艺制备了230mm口径的RB-SiC反射镜,并使用FSGJ-2光... 针对传统工艺难以制备口径大于1.2m的整块反射镜的问题,提出了反应连接制备大口径RB-SiC反射镜的工艺。该工艺在素坯阶段实现连接,一次反应烧结完成坯体的致密化和镜体的连接。采用该工艺制备了230mm口径的RB-SiC反射镜,并使用FSGJ-2光学数控机床对反射镜进行了研磨、粗抛光和精抛光加工,其镜面面形精度RMS值达到了λ/50(λ=632.8nm)。在环境温度(20±3)℃检测了连接反射镜,其面形变化RMS值小于λ/300,热循环试验前后连接反射镜面形没有明显变化;连接镜体表面在焊缝处粗糙度Ra<3.3nm,连接层与基体的显微结构基本相似,热性能相匹配。研究结果表明,用新型反应连接技术制成的RB-SiC反射镜可以满足空间光学应用要求。 展开更多
关键词 反应连接 碳化硅 rb-sic反射镜 表面轮廓
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基于磁控溅射和ICP刻蚀的RB-SiC表面平坦化工艺 被引量:1
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作者 赵杨勇 刘卫国 惠迎雪 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第3期1-7,共7页
采用射频磁控溅射技术在RB-SiC表面沉积Si平坦化层,通过正交试验研究了射频功率、Ar流量和工作气压三个因素对薄膜表面质量和形貌的影响规律,以获取最佳的薄膜沉积参数.射频功率120 W、工作气压1.2Pa和Ar流量40sccm条件下获得了最佳质... 采用射频磁控溅射技术在RB-SiC表面沉积Si平坦化层,通过正交试验研究了射频功率、Ar流量和工作气压三个因素对薄膜表面质量和形貌的影响规律,以获取最佳的薄膜沉积参数.射频功率120 W、工作气压1.2Pa和Ar流量40sccm条件下获得了最佳质量的平坦化样品,利用电感耦合等离子体对平坦化膜层进行刻蚀抛光,通过Lambda950分光光度计测试不同工艺阶段样品表面的反射率.结果表明,相比于未处理的RB-SiC初始样品,经过平坦化和等离子体刻蚀的样品表面粗糙度标准差值由1.819nm减小至0.919nm,样品表面反射率相应地提高了2%.由此说明射频磁控溅射平坦化沉积与电感耦合等离子体刻蚀的组合工艺可实现RB-SiC表面的高质量加工. 展开更多
关键词 光学制造 超光滑表面 射频磁控溅射 rb-sic Si平坦化层 正交试验 ICP刻蚀 表面粗糙度
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空间RB-SiC反射镜的表面离子辅助镀硅改性技术 被引量:8
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作者 徐领娣 郑立功 +2 位作者 范镝 张学军 王加朋 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第12期2497-2502,共6页
针对空间相机用反射镜RB-SiC材料由Si\SiC两相结构引起的光学表面缺陷问题,提出了表面离子辅助沉积(IAD)硅膜的改性新方案以优化RB-SiC光学表面反射率。对厚度为10±0.5μm的IAD-Si改性层的主要性能研究显示:IAD-Si膜层为非结晶结构... 针对空间相机用反射镜RB-SiC材料由Si\SiC两相结构引起的光学表面缺陷问题,提出了表面离子辅助沉积(IAD)硅膜的改性新方案以优化RB-SiC光学表面反射率。对厚度为10±0.5μm的IAD-Si改性层的主要性能研究显示:IAD-Si膜层为非结晶结构,能够提供较好的抛光表面,在77~673K的热冲击下膜层稳定性良好。以Si膜的抛光机理为依据,对IAD-Si改性层进行了大量抛光工艺实验和表面质量测试,给出了关键的抛光工艺参数和实验结果。通过表面IAD-Si改性及本文提出的改性层超精加工技术能够在反射镜表面得到面形精度RMS值优于1/20λ(λ=632.8nm)且表面粗糙度RMS值<0.5nm的超光滑表面;与改性前相比,反射镜改性层抛光表面在360~1100nm波段的反射率提高了4.5%以上。 展开更多
关键词 反应烧结碳化硅 表面改性 离子辅助沉积硅 表面反射率
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RB-SiC高致密、超光滑SiC表面改性涂层的制备 被引量:1
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作者 苑永涛 刘红 +3 位作者 陈益超 敬畏 宋宁 方敬忠 《航天返回与遥感》 2011年第6期74-77,共4页
为了获得高质量光学表面的碳化硅反射镜,利用射频磁控溅射方法,在直径80mm的RB-SiC基片上沉积了厚约60μm的SiC致密改性涂层,使用传统机械抛光方法对改性层进行超光滑加工,并测试了改性前后的表面粗糙度。结果表明,抛光后SiC表面改性RB-... 为了获得高质量光学表面的碳化硅反射镜,利用射频磁控溅射方法,在直径80mm的RB-SiC基片上沉积了厚约60μm的SiC致密改性涂层,使用传统机械抛光方法对改性层进行超光滑加工,并测试了改性前后的表面粗糙度。结果表明,抛光后SiC表面改性RB-SiC反射镜表面粗糙度均方根(rms)值达到了0.316nm,获得了具有较高光学表面质量的超光滑RB-SiC材料。 展开更多
关键词 反应烧结碳化硅 射频磁控溅射 表面改性 材料制备 光学反射镜
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PVD改性RB-SiC表面缺陷研究
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作者 康健 宣斌 谢京江 《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2013年第6期933-937,共5页
为获得高表面质量的PVD改性RB-SiC反射镜,解决实际加工中出现的表面缺陷问题,对缺陷的形成机理及处理方法进行了研究。根据Preston假设设计相关试验,推测表面缺陷是由于PVD改性层中的大颗粒结晶受到较大冲击,从而使大颗粒结晶剥落而非... 为获得高表面质量的PVD改性RB-SiC反射镜,解决实际加工中出现的表面缺陷问题,对缺陷的形成机理及处理方法进行了研究。根据Preston假设设计相关试验,推测表面缺陷是由于PVD改性层中的大颗粒结晶受到较大冲击,从而使大颗粒结晶剥落而非对其产生磨削作用而产生的。试验表明:过高的抛光速度或过高的抛光压力会造成改性层表面缺陷的产生,调整抛光的相对速度及抛光压力等关键工艺参数,可在保持抛光效率的同时有效减少和避免表面缺陷问题的产生。经试验验证,当表面缺陷产生后,通过选择适当的相对速度和抛光压强,改性层去除0.7μm^1μm后,可有效修复缺陷,并且无新的表面缺陷产生。 展开更多
关键词 光学加工 PVD改性(物理气相沉积法改性) RB_SiC(反应烧结碳化硅) 表面缺陷
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RB-SiC金刚石磨粒柔性刻划材料去除及表面损伤行为 被引量:5
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作者 王亚茹 李英杰 +2 位作者 邹莱 韩聪聪 李昱潼 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第14期1704-1715,共12页
反应烧结碳化硅(Reaction Bonded SiC,RB-SiC)因具有密度小、导热系数大、热稳定性好等优异性能,被公认为是理想的空间大型反射镜制造材料。然其成形后在表面精密加工过程中易引入加工损伤,故本文开展柔性刻划实验,探究砂带柔性磨削工... 反应烧结碳化硅(Reaction Bonded SiC,RB-SiC)因具有密度小、导热系数大、热稳定性好等优异性能,被公认为是理想的空间大型反射镜制造材料。然其成形后在表面精密加工过程中易引入加工损伤,故本文开展柔性刻划实验,探究砂带柔性磨削工艺对该材料加工性能的影响。通过刚性/柔性两种接触状态下单颗金刚石磨粒刻划RB-SiC材料的对比实验研究,获得柔性刻划下平均亚表面损伤率为0.677,而刚性刻划下为0.823。基于此,开展不同法向压力、磨粒角度、刻划速度等条件下的正交刻划实验研究,结果表明,法向压力与磨粒角度对材料损伤的影响更为重要;同时,随着法向压力的增大、磨粒角度的减小以及刻划速度的增大,材料损伤程度增加。最后,通过多颗金刚石磨粒刻划实验研究,得出结论:与单颗金刚石磨粒刻划相比,材料表面无严重破碎及损伤,且亚表面损伤层深度小于10μm。该研究将为砂带柔性磨削加工反应烧结碳化硅材料提供基础指导。 展开更多
关键词 反应烧结碳化硅 金刚石磨粒 损伤 刻划力
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Laser-assisted grinding of RB-SiC composites:Laser ablation behavior and mechanism
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作者 Zhigang DONG Wenchao SUN +6 位作者 Xintong CAI Feng YANG Yan BAO Renke KANG Dongjiang WU Guangyi MA Fangyong NIU 《Chinese Journal of Aeronautics》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第1期362-376,共15页
Laser ablation is an important process during Laser-Assisted Grinding(LAG)of hard and brittle materials.To realize controllable material removal during laser ablation of RB-SiC composites,ablation experiments under di... Laser ablation is an important process during Laser-Assisted Grinding(LAG)of hard and brittle materials.To realize controllable material removal during laser ablation of RB-SiC composites,ablation experiments under different Laser Energy Density(LAED)and LAG experiments are conducted.Evolution rules and mechanism of physical phase,ablation morphology and crack characteristics caused by laser irradiation are investigated.The forces of LAG and Conventional Grinding(CG)are compared.The results show that ablation surface changes from slight oxidation to obvious material removal with LAED increasing,and ablation depth increases gradually.The ablation products change from submicron SiO_(2)particles to nanoscale particles and floccule.High LAED promotes SiC decomposition and sublimation,which leads to the increase of C element.The SiC phase forms corrugated shape in recast layer and columnar shape in Heat Affected Zone(HAZ)at 56 J/mm^(2).The cold and heat cycle leads to formation of fishbone crack.For ablation specimen under 30 J/mm^(2),the grinding force can be reduced by a maximum of 39%and brittle damage region is reduced.The material removal and microcrack generated will significantly reduce the hardness and improve machinability,which can promote grinding efficiency. 展开更多
关键词 rb-sic LASER CERAMIC COMPOSITES GRINDING
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RB-SiC表面飞秒激光烧蚀与抛光工艺研究 被引量:1
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作者 陈欢 魏朝阳 +2 位作者 曹珍 彭小聪 邵建达 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第24期80-88,共9页
首先基于一维双温模型阐明了飞秒激光与RB-SiC表面的相互作用过程,并在此基础上,开展了RB-SiC表面飞秒激光烧蚀规律与抛光工艺研究。结果表明,通过改变脉冲能量、扫描速度、扫描间距等参数,可实现对烧蚀深度和烧蚀表面质量的有效调控。... 首先基于一维双温模型阐明了飞秒激光与RB-SiC表面的相互作用过程,并在此基础上,开展了RB-SiC表面飞秒激光烧蚀规律与抛光工艺研究。结果表明,通过改变脉冲能量、扫描速度、扫描间距等参数,可实现对烧蚀深度和烧蚀表面质量的有效调控。但是通过飞秒激光抛光难以在RB-SiC切割表面上获得较高的表面质量,而对于RBSiC预抛光表面,通过工艺参数调控,可将其表面粗糙度从36.9 nm抛光至11.56 nm,验证了飞秒激光抛光RB-SiC的可行性。 展开更多
关键词 激光技术 粗糙度 反应烧结碳化硅 飞秒激光抛光 双温模型
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超声振动对单颗金刚石工具划擦RB-SiC材料去除行为的影响 被引量:11
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作者 郑非非 董志刚 +2 位作者 张嘉桐 刘津廷 康仁科 《机械工程学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第1期225-232,共8页
超声辅助磨削在硬脆材料加工领域的诸多优势已被广泛认可,研究超声辅助磨削机理对于促进超声辅助磨削工艺技术的应用有重要价值。通过单颗金刚石压头模拟砂轮磨粒,在反应烧结碳化硅(Reaction bonded silicon carbide, RB-SiC)上进行超... 超声辅助磨削在硬脆材料加工领域的诸多优势已被广泛认可,研究超声辅助磨削机理对于促进超声辅助磨削工艺技术的应用有重要价值。通过单颗金刚石压头模拟砂轮磨粒,在反应烧结碳化硅(Reaction bonded silicon carbide, RB-SiC)上进行超声振动辅助的划擦试验,研究超声辅助磨削的材料去除行为。对比分析了划擦过程中不同超声振幅下的法向划擦力和切向划擦力的变化规律,通过对划痕宽度、划痕深度和划痕截面积的统计分析研究了不同振幅下划痕的三维形貌特征。在综合分析划擦力、划痕微观形貌和金刚石压头磨损的基础上,讨论了超声振动对硬脆材料加工的去除行为的影响。相比于常规的划擦试验,引入超声振动作用后,划擦力显著下降,而划擦导致的材料去除体积显著增加。超声振动划擦中金刚石压头对工件表面独特的高频冲击作用及断续的能量输入方式被认为是导致上述现象的根本原因。 展开更多
关键词 超声辅助划擦 单颗金刚石磨粒 划擦力 划痕形貌 反应烧结碳化硅
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难加工材料超高速磨削亚表面损伤研究
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作者 郭塞 江庆红 +2 位作者 刘昊 卢守相 张璧 《航空制造技术》 CSCD 北大核心 2023年第14期59-71,共13页
航空航天领域关键零部件往往采用高性能难加工材料制成,极差的可磨削性使得材料的高质高效加工成为难以突破的瓶颈。本文提出采用超高速磨削方法解决上述问题,并针对多种具有代表性的航空航天领域工程材料,包括钛合金、镍基高温合金、... 航空航天领域关键零部件往往采用高性能难加工材料制成,极差的可磨削性使得材料的高质高效加工成为难以突破的瓶颈。本文提出采用超高速磨削方法解决上述问题,并针对多种具有代表性的航空航天领域工程材料,包括钛合金、镍基高温合金、反应烧结碳化硅及铝基碳化硅开展超高速磨削试验,对材料表面完整性进行了表征和分析讨论。结果表明,超高速磨削可提高工件表层材料的应变梯度和温度梯度,改善难加工金属、陶瓷、复合材料的可磨削性,降低亚表面损伤深度,提高材料去除效率。本文的探索性研究为航空航天难加工材料零部件的高质高效加工提供了一条可行的技术路线,具有广阔的应用前景。 展开更多
关键词 超高速磨削 钛合金 镍基高温合金 反应烧结碳化硅(RB–SiC) SICP/AL 亚表面损伤
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长条形扫描反射镜的柔性支撑 被引量:5
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作者 张雷 丁亚林 +3 位作者 徐正平 张洪文 张健 郭万存 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2015年第12期3678-3683,共6页
为适应复杂的工作环境,提高反射镜的面形精度,设计了基于柔性支撑的RB-Si C材料长条形扫描反射镜。采用三角形单元和四边形单元相结合的背部开放式结构,对扫描反射镜进行了轻量化设计;通过分析支撑点跨距对反射镜变形的影响,对支撑点位... 为适应复杂的工作环境,提高反射镜的面形精度,设计了基于柔性支撑的RB-Si C材料长条形扫描反射镜。采用三角形单元和四边形单元相结合的背部开放式结构,对扫描反射镜进行了轻量化设计;通过分析支撑点跨距对反射镜变形的影响,对支撑点位置进行了优化设计;设计了万向柔性支撑的结构形式,消除装调和环境变化产生的残余应力;利用有限单元法建立了扫描反射镜组件的模型,计算后面形精度可达到0.023λ;采用自准值法,利用Zy Go干涉仪对反射镜的面形精度进行了测量,测量结果显示扫描反射镜的面形RMS值达到0.029λ。通过模拟无穷远处动静态目标进行了静动态成像试验,成像质量一致,通过飞行试验对地面目标进行了拍摄,扫描反射镜动态成像稳定,所获得的图像质量良好。 展开更多
关键词 扫描反射镜 轻量化 柔性支撑 rb-sic 面形精度
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反应烧结SiC陶瓷脆性去除特征及刻划力波动行为 被引量:3
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作者 李志鹏 张飞虎 孟彬彬 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第3期632-639,共8页
主要研究不同加工深度及压头形状刻划条件下反应烧结碳化硅(RB-SiC)陶瓷脆性去除特征和刻划力波动行为之间的关系。采用半径分别为400nm的金刚石玻氏压头以及8.7μm的圆锥压头进行恒切深刻划,并利用扫描电子显微镜对刻划后的SiC陶瓷表... 主要研究不同加工深度及压头形状刻划条件下反应烧结碳化硅(RB-SiC)陶瓷脆性去除特征和刻划力波动行为之间的关系。采用半径分别为400nm的金刚石玻氏压头以及8.7μm的圆锥压头进行恒切深刻划,并利用扫描电子显微镜对刻划后的SiC陶瓷表面进行测量。最后,通过Daubechies小波进行横向力和切向力信号分解,并结合划痕表面损伤形式,给出不同细节信号及近似信号与加工损伤的联系。实验结果表明:对于圆锥压头,随着加工深度的增大,表面形貌为塑性挤出、微破碎和大面积表面破碎共存的形式。此外,在脆性断裂去除情况下,随着压头尖端半径的减小,破碎程度增加且刻划力信号能量由低频段逐渐扩散到整个频域。同时低频段的能量逐渐占据主要地位。不同程度的表面微破碎及边缘微破碎对刻划力细节信号分量贡献较大。反应烧结碳化硅结构本身差异以及缺陷引起的大面积断裂是刻划力波动能量的主要来源,而且随着加工深度的增大而增大。 展开更多
关键词 rb-sic 脆性断裂 小波分析 刻划力 玻氏压头 圆锥压头
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轻型碳化硅质反射镜坯体的制造工艺 被引量:21
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作者 赵文兴 张舸 +1 位作者 赵汝成 包建勋 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第11期2609-2617,共9页
研究了轻型碳化硅质反射镜坯体制造技术,讨论了制备工艺中的关键环节。提出了一种先进的消失模技术用于制备性能更加优异的背部半封闭式轻量化结构。针对制备大尺寸复杂形状陶瓷的难点,研究了SiC陶瓷素坯凝胶注模成型及成型过程中高固... 研究了轻型碳化硅质反射镜坯体制造技术,讨论了制备工艺中的关键环节。提出了一种先进的消失模技术用于制备性能更加优异的背部半封闭式轻量化结构。针对制备大尺寸复杂形状陶瓷的难点,研究了SiC陶瓷素坯凝胶注模成型及成型过程中高固相含量低黏度SiC浆料的配置、浆料固化时间控制及大尺寸复杂形状SiC湿坯的液体干燥工艺等。测试分析了坯体烧结过程中素坯的热失重与差热曲线,制定了最佳的烧结工艺。通过对以上关键技术的研究,制备得到了不同形状与轻量化结构形式的单块轻型SiC坯体,最大尺寸为1 100mm×820mm。 展开更多
关键词 凝胶注浆成型 反应烧结碳化硅 反射镜
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离子辅助制备碳化硅改性薄膜 被引量:21
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作者 陈红 高劲松 +5 位作者 宋琦 王彤彤 申振峰 王笑夷 郑宣鸣 范镝 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期381-385,共5页
介绍了一种利用霍尔型离子源辅助电子束蒸发,在反应烧结碳化硅(RB-SiC)材料上制备硅改性薄膜的方法,研究了不同沉积速率下薄膜改性后的抛光效果。对样品进行了表面散射及反射的测量。通过样品的显微照片可知,硅膜层在沉积速率增大的条... 介绍了一种利用霍尔型离子源辅助电子束蒸发,在反应烧结碳化硅(RB-SiC)材料上制备硅改性薄膜的方法,研究了不同沉积速率下薄膜改性后的抛光效果。对样品进行了表面散射及反射的测量。通过样品的显微照片可知,硅膜层在沉积速率增大的条件下结构趋于疏松。在精细抛光镀制有硅改性薄膜的反应烧结碳化硅样品后,表面散射系数减小到1.46%,反射率接近抛光良好的微晶玻璃。温度冲击实验和表面拉力实验表明:硅膜无龟裂和脱落,性质稳定,与碳化硅基底结合良好。 展开更多
关键词 反应烧结碳化硅 表面改性 离子辅助沉积 霍尔源 表面散射系数
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