水稻叶片光氧化敏感性与活性氧清除系统的关系

用低O_2,低CO_2、光强269μE·m^(-2)·s(-1)的人工光氧化条件处理水稻叶片,观察了不同耐光特性品种叶片的光合速率、叶绿素含量及其组份和活性氧清除系统的差异。结果表明,不同光氧化耐性的水稻品种比较,以耐光氧化的品种受影响较小。光氧化条件下叶片活性氧清除系统中的超氧物歧化酶、过氧化物酶活性及类胡萝卜素和抗坏血酸水平降低,而膜脂过氧化作用加强。处理4～8天,不同品种间以耐光氧化品种的保护酶活性、抗光氧化物质水平下降及丙二醛含量上升的幅度较小。