期刊文献+
共找到32篇文章
< 1 2 >
每页显示 20 50 100
SILC Mechanism in Degraded Gate Oxide of Different Thickness
1
作者 王子欧 卫建林 +2 位作者 毛凌锋 许铭真 谭长华 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第4期414-417,共4页
It is shown that traps are generated asymmetrically in the thin gate oxides with different thickness during high field degradation,as well as the multi-mechanism plays role in the Stress Induced Leakage Current ... It is shown that traps are generated asymmetrically in the thin gate oxides with different thickness during high field degradation,as well as the multi-mechanism plays role in the Stress Induced Leakage Current (SILC).These factors perform differently in gate oxide of different thickness.A comparison is drew between several analyzing models.Trap assisted tunneling is preferred for thinner samples,while Pool-Frankel like mechanism or thermal emission mechanism should apply to the thick ones. 展开更多
关键词 silc gate oxide
下载PDF
HfO_2高k栅介质漏电流机制和SILC效应 被引量:7
2
作者 王成刚 韩德栋 +5 位作者 杨红 刘晓彦 王玮 王漪 康晋锋 韩汝琦 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第7期841-846,共6页
利用室温下反应磁控溅射的方法在 p- Si(1 0 0 )衬底上制备了 Hf O2 栅介质层 ,研究了 Hf O2 高 k栅介质的电流传输机制和应力引起泄漏电流 (SIL C)效应 .对 Hf O2 栅介质泄漏电流输运机制的分析表明 ,在电子由衬底注入的情况下 ,泄漏... 利用室温下反应磁控溅射的方法在 p- Si(1 0 0 )衬底上制备了 Hf O2 栅介质层 ,研究了 Hf O2 高 k栅介质的电流传输机制和应力引起泄漏电流 (SIL C)效应 .对 Hf O2 栅介质泄漏电流输运机制的分析表明 ,在电子由衬底注入的情况下 ,泄漏电流主要由 Schottky发射机制引起 ,而在电子由栅注入的情况下 ,泄漏电流由 Schottky发射和 Frenkel-Poole发射两种机制共同引起 .通过对 SIL C的分析 ,在没有加应力前 Hf O2 / Si界面层存在较少的界面陷阱 ,而加上负的栅压应力后在界面处会产生新的界面陷阱 ,随着新产生界面陷阱的增多 ,这时在衬底注入的情况下 ,电流传输机制就不仅仅是由 Schottky发射机制引起 ,而存在 Frenkel- Poole发射机制起作用 .同时研究表明面积对 SIL 展开更多
关键词 HFO2栅介质 泄漏电流输运机制 Schottky发射 Frenkel—Poole发射 silc PACC 7360 7755 EEACC 2550 2530
下载PDF
Experimental Evidence of Interface-Trap-Related SILC in Ultrathin (4nm- and 2.5nm-Thick) n-MOSFET and p-MOSFET Under Hot-Carrier Stress
3
作者 杨国勇 霍宗亮 +4 位作者 王金延 毛凌锋 王子欧 谭长华 许铭真 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第6期579-585,共7页
Stress-induced leakage current (SILC) of ultrathin gate oxide is investigated by observing the generation of interface traps for n-MOSFET and p-MOSFET under hot-carrier stress.It is found experimentally that there is ... Stress-induced leakage current (SILC) of ultrathin gate oxide is investigated by observing the generation of interface traps for n-MOSFET and p-MOSFET under hot-carrier stress.It is found experimentally that there is linear correlation between the generation of interface traps and SILC for both types of MOSFET with different channel lengths (including 1,0.5,0.275,and 0.135μm) and different gate oxide thickness (4nm and 2.5nm).These experimental evidences show that the SILC has a strong dependence on interface traps. 展开更多
关键词 silc hot carrier stress ultra-thin gate oxide MOSFET
下载PDF
SILCO5型数字式励磁调节器PSS功能试验分析
4
作者 康忠焕 李英龙 荀吉辉 《湖南电力》 2004年第1期33-35,共3页
根据推导出的励磁系统传递函数 ,对 AVR及 PSS各主要功能部件进行了分析论述 ,提出了该 PSS参数整定原则 ,给出了现场整定投入试验数据及分析结论。
关键词 电力系统稳定器 PSS silc05型 数字式励磁调节器 功能试验 传递函数
下载PDF
全面研究SILC对E^2PROM可靠性的影响
5
《电子产品可靠性与环境试验》 2003年第6期71-71,共1页
关键词 silc E^2PROM 可靠性 EEPROM 存储器
下载PDF
快闪存储器在编程/擦除循环后SILC的定位
6
《电子产品可靠性与环境试验》 2003年第3期76-76,共1页
关键词 快闪存储器 定位方法 应力 silc 漏电流
下载PDF
快闪阵列中SILC分布快速特性表征的新方法
7
《电子产品可靠性与环境试验》 2002年第6期64-64,共1页
关键词 快闪阵列 silc分布快速特性 快闪存储器
下载PDF
全景复合式数字腹腔镜在单孔胆囊切除术中的应用 被引量:1
8
作者 张诚 张凯 +3 位作者 胡海 赵刚 刘福才 王波 《肝胆胰外科杂志》 CAS 2023年第6期357-360,共4页
目的评价全景复合式数字腹腔镜在单孔胆囊切除术中的可行性和安全性。方法前瞻性选取2022年7月同济大学附属东方医院因胆囊结石并慢性胆囊炎行单孔腹腔镜胆囊切除术的患者84例,随机分成观察组(全景复合式数字腹腔镜)和对照组(普通光学... 目的评价全景复合式数字腹腔镜在单孔胆囊切除术中的可行性和安全性。方法前瞻性选取2022年7月同济大学附属东方医院因胆囊结石并慢性胆囊炎行单孔腹腔镜胆囊切除术的患者84例,随机分成观察组(全景复合式数字腹腔镜)和对照组(普通光学腹腔镜),每组各42例。比较两组手术时间、单孔完成率、术中出血量、镜头擦拭次数、腹腔镜干扰操作满意度评分、视野满意度评分、图像质量评分、排气时间、并发症发生率、住院时间等指标。结果观察组较对照组手术时间更短[(29.48±3.74)min vs(31.52±3.13)min,t=-2.724,P<0.05],镜头擦拭次数更少[1.00(0,1.25)vs 2.00(2.00,3.00),Z=-6.321,P<0.001],术中出血量更少[2.00(2.00,3.25)mL vs 4.00(3.00,5.00)mL,Z=-3.341,P<0.05];且观察组腹腔镜干扰操作满意度评分[(8.93±0.71)vs(8.00±0.83),t=5.517,P<0.001]及视野满意度评分[(8.67±0.69)vs(7.48±0.83),t=7.145,P<0.001]均明显高于对照组。观察组单孔完成率、图像质量评分、排气时间、并发症发生率及住院时间与对照组相比差异无统计学意义(均P>0.05)。结论全景复合式数字腹腔镜用于胆囊切除术安全可行,视野调节范围大,器械干扰性低,更适合单孔胆囊切除手术。 展开更多
关键词 腹腔镜胆囊切除术 经脐单孔腹腔镜胆囊切除术 胆囊结石 慢性胆囊炎
下载PDF
表面预处理对HfO_2栅介质MOS器件漏电特性的影响 被引量:2
9
作者 许胜国 徐静平 +2 位作者 李艳萍 陈卫兵 季峰 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2006年第4期441-445,共5页
采用反应磁控溅射方法,在Si衬底上制备了不同表面预处理和不同后退火处理的HfO2栅介质MOS电容。测量了器件的C-V和I-V特性,并进行了高场应力实验。器件的界面特性和栅极漏电机理分析表明,界面态和氧化物陷阱是引起大的栅极漏电流的主要... 采用反应磁控溅射方法,在Si衬底上制备了不同表面预处理和不同后退火处理的HfO2栅介质MOS电容。测量了器件的C-V和I-V特性,并进行了高场应力实验。器件的界面特性和栅极漏电机理分析表明,界面态和氧化物陷阱是引起大的栅极漏电流的主要因素。采用新颖的O2+CHCl3(TCE)表面预处理工艺,可以显著降低界面态和氧化物陷阱密度,从而大大减小栅极漏电流和SILC效应。 展开更多
关键词 HFO2 MOS器件 栅极漏电流 silc效应 界面态 氧化物陷阱
下载PDF
Effect of Snapback Stress on Gate Oxide Integrity of nMOSFET in 90nm Technology
10
作者 朱志炜 郝跃 马晓华 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期349-354,共6页
By measurement,we investigate the characteristics and location of gate oxide damage induced by snapback stress. The damage incurred during stress causes device degradation that follows an approximate power law with st... By measurement,we investigate the characteristics and location of gate oxide damage induced by snapback stress. The damage incurred during stress causes device degradation that follows an approximate power law with stress time. Oxide traps generated by stress will cause the increase of stress-induced leakage current and the decrease of Qbd (charge to breakdown),and it may also cause the degradation of off-state drain leakage current. Stress-induced gate oxide damage is located not only in the drain side but also in the source side. The tertiary electrons generated by hot holes move toward Si-SiO2 interface under the electrical field toward the substrate,which explains the source side gate oxide damage. 展开更多
关键词 snapback breakdown tertiary electron silc charge to breakdown oxide trap
下载PDF
超薄Si_3N_4/SiO_2叠层栅介质可靠性研究(英文)
11
作者 钟兴华 徐秋霞 《电子器件》 CAS 2007年第2期361-364,共4页
实验成功地制备出等效氧化层厚度为亚2nm的Nitride/Oxynitride(N/O)叠层栅介质难熔金属栅电极PMOS电容并对其进行了可靠性研究.实验结果表明相对于纯氧栅介质而言,N/O叠层栅介质具有更好的抗击穿特性,应力诱生漏电特性以及TDDB特性.进... 实验成功地制备出等效氧化层厚度为亚2nm的Nitride/Oxynitride(N/O)叠层栅介质难熔金属栅电极PMOS电容并对其进行了可靠性研究.实验结果表明相对于纯氧栅介质而言,N/O叠层栅介质具有更好的抗击穿特性,应力诱生漏电特性以及TDDB特性.进一步研究发现具有更薄EOT的难熔金属栅电极PMOS电容在TDDB特性以及寿命等方面均优于多晶硅栅电极的相应结构. 展开更多
关键词 击穿 Si3N4/SiO2(N/O)叠层 可靠性 应力诱生漏电流(silc) TDDB特性
下载PDF
128层螺旋CT双期增强扫描对胰腺癌诊断价值的分析 被引量:7
12
作者 刘彦平 章伟 +2 位作者 朱应合 王旭华 蒋政焱 《医学影像学杂志》 2011年第12期1856-1858,共3页
目的:探讨胰腺癌的128层螺旋CT表现及对临床手术的指导价值。方法:回顾性分析了29例经病理证实的胰腺癌双期扫描的CT征像,评估手术价值。结果:胰腺癌的CT表现具有一定特征性,并可通过胰周血管受累情况及远处转移情况对胰腺癌手术可切除... 目的:探讨胰腺癌的128层螺旋CT表现及对临床手术的指导价值。方法:回顾性分析了29例经病理证实的胰腺癌双期扫描的CT征像,评估手术价值。结果:胰腺癌的CT表现具有一定特征性,并可通过胰周血管受累情况及远处转移情况对胰腺癌手术可切除性进行评价。结论:128层螺旋CT双期扫描能清楚显示胰腺癌的大小及与周围血管之间的关系,可作为诊断胰腺癌的首选方法,术前评估对胰腺癌的外科治疗具有重要的指导意义。 展开更多
关键词 胰腺癌 体层摄影术.X线计算机 术前评估
下载PDF
高k栅介质SOI nMOSFET正偏压温度不稳定性的实验研究(英文)
13
作者 李哲 吕垠轩 +1 位作者 何燕冬 张钢刚 《北京大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第4期637-641,共5页
对高k栅介质SOI nMOSFET器件的PBTI退化和恢复进行实验研究,并且与pMOSFET器件的NBTI效应进行比较,分析PBTI效应对阈值电压漂移、线性及饱和漏电流、亚阈摆幅和应力诱导漏电流的影响。结果显示,PBTI的退化和恢复与NBTI效应具有相似的趋... 对高k栅介质SOI nMOSFET器件的PBTI退化和恢复进行实验研究,并且与pMOSFET器件的NBTI效应进行比较,分析PBTI效应对阈值电压漂移、线性及饱和漏电流、亚阈摆幅和应力诱导漏电流的影响。结果显示,PBTI的退化和恢复与NBTI效应具有相似的趋势,但是PBTI具有较高的退化速率和较低的恢复比例,这会对器件的寿命预测带来影响。最后给出在PBTI应力条件下,界面陷阱和体陷阱的产生规律及其对器件退化的影响。 展开更多
关键词 正偏置温度不稳定性(PBTI) 高介电常数栅介质 绝缘衬底上的硅型金属氧化层半导体场效应晶体管(soI MOSFET) 退化 应力诱导漏电流(silc)
下载PDF
超薄Si_3N_4/SiO_2(N/O)stack栅介质及器件
14
作者 林钢 徐秋霞 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期115-119,共5页
成功制备了EOT(equivalentoxidethickness)为 2 1nm的Si3 N4/SiO2 (N/O)stack栅介质 ,并对其性质进行了研究 .结果表明 ,同样EOT的Si3 N4/SiO2 stack栅介质和纯SiO2 栅介质比较 ,前者在栅隧穿漏电流、抗SILC性能、栅介质寿命等方面都... 成功制备了EOT(equivalentoxidethickness)为 2 1nm的Si3 N4/SiO2 (N/O)stack栅介质 ,并对其性质进行了研究 .结果表明 ,同样EOT的Si3 N4/SiO2 stack栅介质和纯SiO2 栅介质比较 ,前者在栅隧穿漏电流、抗SILC性能、栅介质寿命等方面都远优于后者 .在此基础上 ,采用Si3 N4/SiO2 stack栅介质制备出性能优良的栅长为 0 12 μm的CMOS器件 ,器件很好地抑制了短沟道效应 .在Vds=Vgs=± 1 5V下 ,nMOSFET和pMOSFET对应的饱和电流Ion分别为5 84 3μA/ μm和 - 2 81 3μA/ μm ,对应Ioff分别是 8 3nA/ μm和 - 1 3nA/ μm . 展开更多
关键词 超薄Si3N4/SiO2(N/O)stack栅介质 栅隧穿漏电流 silc特性 栅介质寿命 CMOS器件
下载PDF
Novel Oxide Trap Behavior in Ultra Thin Gate and Its Study by PDO Method 被引量:1
15
作者 王子欧 毛凌峰 +2 位作者 卫建林 许铭真 谭长华 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第9期857-861,共5页
The degradation of MOSFETs under high field stress has been investigated for a l ong time. The degradation is due to the newly generated traps. As the gate thick ness scaled down rapidly, a conventional method for det... The degradation of MOSFETs under high field stress has been investigated for a l ong time. The degradation is due to the newly generated traps. As the gate thick ness scaled down rapidly, a conventional method for detecting oxide traps, such as C-V or subthreshold swing, is no longer effective. Some new phenome na a lso appear, such as Stress Induced Leakage Current (SILC) and soft-breakdown. T he oxide traps’ behavior and their characteristics are the key problems in the s tudy of degradation. By extracting the change of transition coefficients from th e I-V curve and using the PDO (Proportional Differential Operator) meth od, various oxide traps can be distinguished and as would be helpful in the dete rmination of trap behavior changes during the degradation process. 展开更多
关键词 Thim GATE silc NOVEL OXIDE PDO
下载PDF
基于CT图像3D特征的肺结节检测 被引量:2
16
作者 王彬 赵海 +1 位作者 朱宏博 朴春赫 《东北大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第2期181-185,共5页
为了提高肺结节检测的性能,提出一种基于中心点连续性的肺结节检测算法.该算法使用基于简单线性迭代聚类超像素方法分割CT图像,并根据相似度合并超像素,进而得到肺部区域及疑似肺结节区域,降低了疑似肺结节的漏检率.根据各帧CT图像中疑... 为了提高肺结节检测的性能,提出一种基于中心点连续性的肺结节检测算法.该算法使用基于简单线性迭代聚类超像素方法分割CT图像,并根据相似度合并超像素,进而得到肺部区域及疑似肺结节区域,降低了疑似肺结节的漏检率.根据各帧CT图像中疑似肺结节区域的中心点偏移程度评价其中心点连续性,最终判断出阳性肺结节.文中的实验数据来自于上海市胸科医院和LIDC数据库.实验结果表明,改进后算法的敏感度达到86.36%,假阳性率为1.76. 展开更多
关键词 肺结节 肺结节检测 肺结节分割 超像素 silc 中心点连续性
下载PDF
中澳英语教学项目比较——以悉尼科技大学INSEARCH学院访问为例
17
作者 丁妍 《山西师大学报(社会科学版)》 北大核心 2014年第S3期135-136,共2页
笔者于2012年7月在悉尼科技大学INSEARCH学院进行了学术访问,以此参与了上海大学悉尼工商学院和悉尼科技大学INSEARCH学院的英语教学项目进行,分别从学费、住宿和生活费,教学设施和师资,学习效果等方面进行了比较,分析了中国学生在国内... 笔者于2012年7月在悉尼科技大学INSEARCH学院进行了学术访问,以此参与了上海大学悉尼工商学院和悉尼科技大学INSEARCH学院的英语教学项目进行,分别从学费、住宿和生活费,教学设施和师资,学习效果等方面进行了比较,分析了中国学生在国内和在澳大利亚学习的利弊。 展开更多
关键词 悉尼科技大学INSEARCH学院 上海大学悉尼工商学院(silc) 比较
下载PDF
SHH应力下超薄栅氧PMOS器件退化研究
18
作者 胡仕刚 吴笑峰 席在芳 《中南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第9期2741-2745,共5页
对超薄栅氧PMOS器件衬底热空穴(SHH)应力下SILC(应力感应泄漏电流)特性和机理进行研究。研究结果表明:在SHH应力下,栅电流在开始阶段减小,这是正电荷在氧化层中积累的结果;随后栅电流慢慢地增加,最后,当在氧化层中积累的正电荷密度达到... 对超薄栅氧PMOS器件衬底热空穴(SHH)应力下SILC(应力感应泄漏电流)特性和机理进行研究。研究结果表明:在SHH应力下,栅电流在开始阶段减小,这是正电荷在氧化层中积累的结果;随后栅电流慢慢地增加,最后,当在氧化层中积累的正电荷密度达到一个临界值时,栅上漏电流迅速跳变到较大数量级上,说明器件被击穿;当注入空穴通过Si—O网络时,随着注入空穴流的增加,化学键断裂的概率增加;当1个Si原子的2个Si—O键同时断裂时,将会导致Si—O网络不可恢复;Si—O键断裂导致氧化层网络结构发生改变和损伤积累,最终导致氧化层破坏性被击穿。 展开更多
关键词 衬底热空穴 阈值电压 栅氧化层 应力感应泄漏电流 MOS器件
下载PDF
What Is the Role of Work-Related Factors in Self-Reported Health Inequalities among Employed Individuals? A Longitudinal Study in Luxembourg
19
作者 Anastase Tchicaya Nathalie Lorentz Kristell Leduc 《Health》 2018年第9期1141-1158,共18页
Objectives: We measured health inequalities among employed Luxembourg residents over time and the socio-economic and work-related determinants. Design and Setting: Longitudinal data were obtained from the Socio-econom... Objectives: We measured health inequalities among employed Luxembourg residents over time and the socio-economic and work-related determinants. Design and Setting: Longitudinal data were obtained from the Socio-economic Liewen zu L&#235;tzebuerg/European Union Survey on Income and Living Conditions, which has been conducted each year since 2003 in Luxembourg. Participants: Participants comprised 727 Luxembourg residents (58% men), aged between 21 and 55 years in 2003, who were employed between 2003 and 2012. Primary and Secondary Outcomes Measured: The variable of interest was self-reported health. We used transition indicators on work-related factors to consider changes that individuals may have experienced in their job over this period. Results: People who moved from a part-time to a full-time contract (odds ratio (OR): 5.52, confidence interval (CI): 1.55 - 19.73), and those who moved from the 3rd or 4th quartile of earnings to the 1st or 2nd quartile (OR: 2.48, CI: 1.02 - 6.05) between 2003 and 2012, had a higher risk of being in poor health in 2012. The risk of deterioration in self-reported health in 2012 among people who were healthy in 2003 was associated with the type of contract, economic activity, and occupation. Conclusion: Health inequalities occur among employed people in Luxembourg. Their importance varies according to work-related characteristics and economic activity. Our findings showed that declined health status was associated with contract type, profession, and economic activity. This suggests that measures should be taken to maintain good health for people working in these specific occupations or economic sectors (e.g. preventive action, reduction of risk exposure, change of occupation in the same company, and so on). 展开更多
关键词 Employment HEALTH Inequalities Working Conditions EU-silc WORK-RELATED Factors SELF-REPORTED HEALTH
下载PDF
16层螺旋CT冠状动脉成像与DSA冠状动脉造影的对比研究
20
作者 孟庆民 《社区医学杂志》 2008年第9期5-6,共2页
目的通过对16层螺旋CT与DSA冠状动脉造影的对比研究,探讨16层螺旋CT在冠状动脉成像中的临床应用价值。方法42例患者同时行16层螺旋CT冠状动脉成像和DSA冠状动脉造影,对获得的图像进行对比分析。结果以DSA冠状动脉造影为金标准,患者... 目的通过对16层螺旋CT与DSA冠状动脉造影的对比研究,探讨16层螺旋CT在冠状动脉成像中的临床应用价值。方法42例患者同时行16层螺旋CT冠状动脉成像和DSA冠状动脉造影,对获得的图像进行对比分析。结果以DSA冠状动脉造影为金标准,患者心率在55~70次/min时,16层螺旋CT冠状动脉成像对血管狭窄≥50%的准确度为94%,冠状动脉主干及分支显示达到诊断要求,并且可显示动脉壁的改变。结论16层螺旋CT冠状动脉成像可作为冠心病的一种筛选手段,对血管搭桥和内支架放置术后的评价有较高临床价值。 展开更多
关键词 16层螺旋CT DSA 冠状动脉造影 冠心病
下载PDF
上一页 1 2 下一页 到第
使用帮助 返回顶部