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SU-8胶在深紫外光源下的光强分布模拟
被引量:
1
1
作者
冯明
黄庆安
+2 位作者
李伟华
周再发
朱真
《传感技术学报》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第05A期1470-1472,1476,共4页
本文根据菲涅尔衍射的原理,在考虑了折射、光刻胶对光的吸收以及硅片对光的反射的情况下,给出了SU-8胶在365nm光源下经过方孔曝光时,光刻胶中光强的二维分布及三维分布的计算模拟.将试验结果与实际情况相比,表现出了一定的适用性,可以...
本文根据菲涅尔衍射的原理,在考虑了折射、光刻胶对光的吸收以及硅片对光的反射的情况下,给出了SU-8胶在365nm光源下经过方孔曝光时,光刻胶中光强的二维分布及三维分布的计算模拟.将试验结果与实际情况相比,表现出了一定的适用性,可以近似作为光刻胶形貌的最后近似.
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关键词
菲涅尔衍射
深紫外光强度分布
su-
8
胶
下载PDF
职称材料
题名
SU-8胶在深紫外光源下的光强分布模拟
被引量:
1
1
作者
冯明
黄庆安
李伟华
周再发
朱真
机构
东南大学MEMS教育部重点实验室
出处
《传感技术学报》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第05A期1470-1472,1476,共4页
基金
国家杰出青年科学基金资助课题(50325519)
文摘
本文根据菲涅尔衍射的原理,在考虑了折射、光刻胶对光的吸收以及硅片对光的反射的情况下,给出了SU-8胶在365nm光源下经过方孔曝光时,光刻胶中光强的二维分布及三维分布的计算模拟.将试验结果与实际情况相比,表现出了一定的适用性,可以近似作为光刻胶形貌的最后近似.
关键词
菲涅尔衍射
深紫外光强度分布
su-
8
胶
Keywords
Fresnel diffraction
the distribution of the deep UV light intensity
su-8 pr
分类号
TN012 [电子电信—物理电子学]
TN05 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
SU-8胶在深紫外光源下的光强分布模拟
冯明
黄庆安
李伟华
周再发
朱真
《传感技术学报》
CAS
CSCD
北大核心
2006
1
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