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SU-8胶在深紫外光源下的光强分布模拟 被引量：1
1
作者 冯明 黄庆安 +2 位作者 李伟华 周再发 朱真 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第05A期1470-1472,1476,共4页
本文根据菲涅尔衍射的原理,在考虑了折射、光刻胶对光的吸收以及硅片对光的反射的情况下,给出了SU-8胶在365nm光源下经过方孔曝光时,光刻胶中光强的二维分布及三维分布的计算模拟.将试验结果与实际情况相比,表现出了一定的适用性,可以... 本文根据菲涅尔衍射的原理,在考虑了折射、光刻胶对光的吸收以及硅片对光的反射的情况下,给出了SU-8胶在365nm光源下经过方孔曝光时,光刻胶中光强的二维分布及三维分布的计算模拟.将试验结果与实际情况相比,表现出了一定的适用性,可以近似作为光刻胶形貌的最后近似. 展开更多
关键词 菲涅尔衍射 深紫外光强度分布 su-8胶
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