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Applications of Secondary Electron Composition Contrast Imaging Method in Microstructure Studies on Heterojunction Semiconductor Devices and Multilayer Materials
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作者 刘安生 邵贝羚 +2 位作者 安生 王敬 刘铮 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 1999年第2期2-8,共7页
The principle, imaging condition and experimental method for obtaining high resolution composition contrast in secondary electron image were described. A new technique of specimen preparation for secondary electron co... The principle, imaging condition and experimental method for obtaining high resolution composition contrast in secondary electron image were described. A new technique of specimen preparation for secondary electron composition contrast observation was introduced and discussed. By using multilayer P+Si1-xGex/pSi heterojunction internal photoemission infrared detector as an example, the applications of secondary electron composition contrast imaging in microstructure studies on heterojunction semiconducting materials and devices were stated. The characteristics of the image were compared with the ordinary transmission electron diffraction contrast image. The prospects of applications of the imaging method in heterojunction semiconductor devices and multilayer materials are also discussed. 展开更多
关键词 Secondary electron composition contrast image Heterojunction semiconducting devices Multilayer materials Electron microscopy MICROSTRUCTURE
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半导体技术发展趋势探究——以射频功率放大器为例 被引量:1
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作者 胡单辉 林倩 +3 位作者 邬海峰 陈思维 王晓政 贾立宁 《桂林电子科技大学学报》 2023年第4期271-281,共11页
在分析射频功率放大器(RF PA)的半导体材料、芯片研究现状基础上,总结了半导体技术的发展趋势。通过对半导体材料的特性和PA芯片的性能指标进行分析,发现三代半导体材料皆有优缺点,可根据需要将其分别应用在不同场景,实现共同进步、协... 在分析射频功率放大器(RF PA)的半导体材料、芯片研究现状基础上,总结了半导体技术的发展趋势。通过对半导体材料的特性和PA芯片的性能指标进行分析,发现三代半导体材料皆有优缺点,可根据需要将其分别应用在不同场景,实现共同进步、协调发展。随着PA芯片面积逐渐减小、频率不断增大,对第三代半导体材料和硅基合成材料功放的研究将是未来的热点。为了进一步加快PA的研究进程,通过文献调研总结了半导体技术的5个发展趋势,为RF PA的性能提升和技术发展提供了重要参考,可为我国突破国外厂商壁垒,进一步提升在电子信息、芯片研发领域的核心竞争力奠定一定基础。 展开更多
关键词 半导体技术 射频功率放大器 半导体材料 半导体芯片
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气敏传感器的近期进展 被引量:25
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作者 李平 余萍 肖定全 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第2期126-128,132,共4页
综合介绍了气敏传感器材料及元件的最新进展,侧重于气敏材料研究工作的概述。
关键词 气敏传感器 半导体陶瓷 敏感材料 传感器
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纳米晶Ge颗料镶嵌SiO_2复合膜的多峰光致发光及其机理 被引量:4
4
作者 许怀哲 朱美芳 +3 位作者 侯伯元 陈光华 马智训 陈培毅 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第6期417-423,共7页
用射频(RF)共溅射和热退火处理的方法制备了纳米锗颗粒镶嵌SiO2复合薄膜(nc-Ge/SiO2),观察到了多峰的光致发光现象,发现随着激发光波长的增长,多峰发光谱的最强峰向低能方向移动,但是各子峰的位置不发生改变,而且不同样品的... 用射频(RF)共溅射和热退火处理的方法制备了纳米锗颗粒镶嵌SiO2复合薄膜(nc-Ge/SiO2),观察到了多峰的光致发光现象,发现随着激发光波长的增长,多峰发光谱的最强峰向低能方向移动,但是各子峰的位置不发生改变,而且不同样品的发光谱子峰位置非常一致.X射线光电子能谱(XPS)分析显示膜中不存在纳米晶硅成分,表明多峰光致发光与镶嵌在SiO2复合中的纳米锗颗粒有关。 展开更多
关键词 纳米锗颗粒 二氧化硅 复合薄膜 多峰光致发光
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SrTiO_3光催化材料的研究进展 被引量:13
5
作者 贾德伟 卢艳丽 胡婷婷 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期8-11,19,共5页
简要介绍了近十几年SrTiO3作为光催化材料在制备技术和光催化性能改性方面的进展,并对其未来发展动向进行了简要分析。概述了不同改性方式提高SrTiO3光催化活性的机理,列举了部分SrTiO3光催化材料改性成果和计算学理论工作对提高SrTiO3... 简要介绍了近十几年SrTiO3作为光催化材料在制备技术和光催化性能改性方面的进展,并对其未来发展动向进行了简要分析。概述了不同改性方式提高SrTiO3光催化活性的机理,列举了部分SrTiO3光催化材料改性成果和计算学理论工作对提高SrTiO3光催化活性的机理的分析解释,指出随着SrTiO3光催化材料改性体系的完善,不断引进新的实验处理手段结合复合改性方式是SrTiO3光催化材料改性的发展方向,且计算材料学将为其提供有力指导。 展开更多
关键词 SRTIO3 半导体光催化材料 改性
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EVA/CB-MWNTs半导电屏蔽材料的制备与电性能研究 被引量:10
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作者 方也 查俊伟 +3 位作者 赵航 白晓飞 侯毅 党智敏 《绝缘材料》 CAS 北大核心 2012年第6期20-23,共4页
采用熔融共混及热压交联的方法制备了乙烯醋酸乙烯酯(EVA)/碳黑(CB)-多壁碳纳米管(MWNTs)新型半导电屏蔽复合材料。研究了不同MWNTs含量对半导电屏蔽复合材料电性能及力学性能的影响。结果表明:MWNTs的引入使复合材料变温下的电阻率稳... 采用熔融共混及热压交联的方法制备了乙烯醋酸乙烯酯(EVA)/碳黑(CB)-多壁碳纳米管(MWNTs)新型半导电屏蔽复合材料。研究了不同MWNTs含量对半导电屏蔽复合材料电性能及力学性能的影响。结果表明:MWNTs的引入使复合材料变温下的电阻率稳定性提高,且MWNTs含量越大,效果越明显;MWNTs的引入使复合材料的断裂伸长率和拉伸强度上升,随着MWNTs用量的增加,力学性能增强效果下降;MWNTs的引入使复合材料在拉伸时的电阻上升,且MWNTs用量越大,电阻上升幅度越明显。 展开更多
关键词 复合材料 碳黑 碳纳米管 半导电屏蔽料
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大面积染料敏化纳米薄膜太阳电池的研制 被引量:14
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作者 戴松元 王孔嘉 +10 位作者 隋毅峰 翁坚 黄阳 胡林华 孔凡太 陈双宏 肖尚锋 王卫国 潘旭 史成武 郭力 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期807-810,共4页
介绍我所在大面积染料敏化纳米薄膜太阳电池的详细设计思路和制作方法,并比较内部串联DSCs和内部并联DSCs在实用化制作和测试中的性能差异。介绍我所在大面积染料敏化纳米薄膜太阳电池的最新研究成果。
关键词 染料敏化 太阳电池 纳米 效率
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微波辅助制备均分散PbS纳米棒 被引量:5
8
作者 李庆海 吴正翠 +3 位作者 邵名望 倪友保 宇海银 高峰 《合成化学》 CAS CSCD 2005年第3期295-297,i004,共4页
在十二烷基苯磺酸钠存在下,以0. 5℃·h-1的速度均匀降温48h,微波辅助成核合成均分散PbS纳米棒。实验结果表明微波辐照促进一次成核,抑制二次成核,是形成PbS纳米棒的关键。PbS纳米棒的结构经X-射线粉末衍射,透射电子显微镜和荧光光... 在十二烷基苯磺酸钠存在下,以0. 5℃·h-1的速度均匀降温48h,微波辅助成核合成均分散PbS纳米棒。实验结果表明微波辐照促进一次成核,抑制二次成核,是形成PbS纳米棒的关键。PbS纳米棒的结构经X-射线粉末衍射,透射电子显微镜和荧光光谱表征。 展开更多
关键词 PBS 晶体形态 纳米材料 Ⅳ-Ⅵ半导体材料
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CIS光伏材料的发展 被引量:8
9
作者 李文漪 蔡珣 陈秋龙 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2003年第6期1-3,7,共4页
CuInSe2(CIS)是一种光伏特性仅次于单晶硅的材料。CIS薄膜太阳能电池多年来保持着薄膜太阳能电池的世界记录,受到世界各国科学家的关注。综述了近年来对CIS材料的理论与试验研究,系统总结了CIS材料制备方法、材料微观结构对光伏特性的... CuInSe2(CIS)是一种光伏特性仅次于单晶硅的材料。CIS薄膜太阳能电池多年来保持着薄膜太阳能电池的世界记录,受到世界各国科学家的关注。综述了近年来对CIS材料的理论与试验研究,系统总结了CIS材料制备方法、材料微观结构对光伏特性的影响以及今后的发展方向。 展开更多
关键词 太阳能电池 光电材料 化合物半导体 CIS
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染料敏化太阳电池中电子传输性能 被引量:7
10
作者 范乐庆 吴季怀 +1 位作者 黄昀昉 林建明 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期34-38,共5页
通过检测染料敏化TiO_2纳米晶太阳电池中TiO_2膜厚度和入射光的强度对电池光电转换性能的影响来研究电池中电子的传输性能。结果表明:TiO_2膜厚度和入射光强度对电池性能有很大的影响。当TiO_2膜厚度增大时,电池的短路电流(I_(sc))加大... 通过检测染料敏化TiO_2纳米晶太阳电池中TiO_2膜厚度和入射光的强度对电池光电转换性能的影响来研究电池中电子的传输性能。结果表明:TiO_2膜厚度和入射光强度对电池性能有很大的影响。当TiO_2膜厚度增大时,电池的短路电流(I_(sc))加大,而填充因子(ff)下降,开路电压(V_(oc))先上升后下降,电池的单色光光电转化效率(IPCE)增大;当光强度加大时,电池的短路电流和开路电压均增加,但是电池的填充因子降低。并用UV-Vis 等手段表征了染料RuL_2(SCN)_2。 展开更多
关键词 TiO2膜厚度 光强度 太阳电池 单色光光电转化效率
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MS(M=Pb,Cd)/聚丙烯酸酯有机-无机纳米复合材料的制备及表征 被引量:4
11
作者 柯昌美 汪厚植 +3 位作者 金义凤 胡云 赵惠忠 李轩科 《石油化工》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期273-277,共5页
以自制的高固含量的热固性聚丙烯酸酯为基质,以醋酸镉、醋酸铅、硫代乙酰胺等为原料,在丙酮甲醇溶液中,原位一步法合成MS(M=Pb,Cd)/聚丙烯酸酯有机-无机纳米复合材料。用X射线粉末衍射(XRD)、透射电镜(TEM)、紫外-可见光谱(UV-Vis)和荧... 以自制的高固含量的热固性聚丙烯酸酯为基质,以醋酸镉、醋酸铅、硫代乙酰胺等为原料,在丙酮甲醇溶液中,原位一步法合成MS(M=Pb,Cd)/聚丙烯酸酯有机-无机纳米复合材料。用X射线粉末衍射(XRD)、透射电镜(TEM)、紫外-可见光谱(UV-Vis)和荧光光谱(PL)对MS/聚丙烯酸酯纳米复合材料进行表征。研究结果表明,金属离子首先与聚合物的羧基络合,生成硫化物纳米微粒,聚合物又包覆在纳米微粒的表面形成保护层。 展开更多
关键词 聚丙烯酸酯 硫化镉 硫化铅 有机-无机纳米复合材料 半导体材料
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新型半导电电缆屏蔽料的工作原理 被引量:5
12
作者 屠德民 仇斌 +1 位作者 刘越 刘烨 《电工技术学报》 EI CSCD 北大核心 1993年第4期46-51,共6页
过去提高塑料电缆绝缘的介电强度,主要手段之一是改善聚合物的形态结构,本文报道另一种新途径,改善电极与介质界面的电荷陷阱特性。根据我们的聚合物击穿的陷阱理论,为了改善聚乙烯的介电强度,必须减少电荷陷讲过程中非辐射能量转移形... 过去提高塑料电缆绝缘的介电强度,主要手段之一是改善聚合物的形态结构,本文报道另一种新途径,改善电极与介质界面的电荷陷阱特性。根据我们的聚合物击穿的陷阱理论,为了改善聚乙烯的介电强度,必须减少电荷陷讲过程中非辐射能量转移形成的热电子。作者在半导电屏蔽料中添加特殊成分,在试样和电极的热加工过程中,扩散到聚乙烯表面的薄层中,减少薄层中的深陷阱密度,破坏了树枝击穿的条件,大大提高了试样的介电强度和树枝起始电压。 展开更多
关键词 电缆 屏蔽层 电气强度
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高选择和自终止多孔氧化硅SOI技术研究 被引量:2
13
作者 黄宜平 李爱珍 +2 位作者 邹斯洵 李金华 竺士炀 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第12期921-925,共5页
本文研究了n型硅阳极化的高选择和自终止工艺,并将该工艺用于形成多孔氧化硅全隔离SOI结构.采用这种FIPOS(FullIsolationbyPorousOxidizedSilicon)技术在n-/n+/n-衬底上形成的SOI(SiliconOnInsulator)结构,其顶层硅岛厚度可... 本文研究了n型硅阳极化的高选择和自终止工艺,并将该工艺用于形成多孔氧化硅全隔离SOI结构.采用这种FIPOS(FullIsolationbyPorousOxidizedSilicon)技术在n-/n+/n-衬底上形成的SOI(SiliconOnInsulator)结构,其顶层硅岛厚度可控制在较广范围(从100nm到数μm),且硅岛宽度可大于100μm.XTEM结果显示顶层硅/氧化层界面非常平整和均匀.在硅膜厚300nm的FIPOS衬底上采用2μm硅栅工艺制备了N沟和P沟MOS晶体管和21级环形振荡器,环振的门延迟为396ps. 展开更多
关键词 SOI技术 多孔氧化硅 CMOS 自终止工艺
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辅助水热法制备不同形貌的柱状ZnO微晶(英文) 被引量:4
14
作者 裴广庆 夏长泰 +2 位作者 张俊刚 吴锋 徐军 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期943-948,共6页
本文采用乙醇辅助水热法制备得到了柱状ZnO微晶。得到的微晶形貌多样,有单脚、三脚、四脚、五脚、六脚以及多脚状,并以“骨架+支架”模型进行解释。X射线衍射分析结果表明产物为纯的六方相纤锌矿结构,扫描电子显微镜(SEM)观察表明产物... 本文采用乙醇辅助水热法制备得到了柱状ZnO微晶。得到的微晶形貌多样,有单脚、三脚、四脚、五脚、六脚以及多脚状,并以“骨架+支架”模型进行解释。X射线衍射分析结果表明产物为纯的六方相纤锌矿结构,扫描电子显微镜(SEM)观察表明产物具有单晶属性。本文还研究了ZnO的室温光谱性能。 展开更多
关键词 水热法晶体生长 ZNO Ⅱ-Ⅵ半导体材料
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透明导电GZO薄膜电学和光学性能的研究进展 被引量:4
15
作者 王丽 方亮 +2 位作者 吴芳 谌夏 阮海波 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2012年第7期522-527,543,共7页
ZnO因其价格便宜、无毒等优点,最有希望替代昂贵的掺锡氧化铟ITO,但未掺杂ZnO是高阻材料,如何提高其光电性能,制备出高质量的ZnO薄膜是实现其应用的关键。其中,Ga掺杂是提高ZnO性能的一种有效手段。从制备方法、掺杂浓度、生长条件等方... ZnO因其价格便宜、无毒等优点,最有希望替代昂贵的掺锡氧化铟ITO,但未掺杂ZnO是高阻材料,如何提高其光电性能,制备出高质量的ZnO薄膜是实现其应用的关键。其中,Ga掺杂是提高ZnO性能的一种有效手段。从制备方法、掺杂浓度、生长条件等方面综述了Ga掺杂ZnO(GZO)薄膜光电性能的研究进展,归纳总结后发现:适当增加掺杂量、提高衬底温度等都有利于薄膜光学和电学性能的提高。目前,GZO薄膜电阻率最低可达10-3~10-4Ω.cm,透光率一般可达80%以上,光电性能可以满足透明导电膜的要求,但其性能的稳定性还不如广泛使用的ITO。因此,GZO薄膜要达到实际应用要求,尚需进一步优化工艺,提高其性能的稳定性。 展开更多
关键词 宽禁带半导体材料 GZO薄膜 光学性质 电学性质 掺杂浓度
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快速退火Co/Si固相反应及CoSi_2薄膜特性研究 被引量:2
16
作者 刘平 李炳宗 +4 位作者 姜国宝 黄维宁 沈孝良 R.Aitken K.Daneshvar 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1992年第5期302-308,共7页
本文研究了利用离子束溅射、快速退火等技术,通过 Co/Si 固相反应,形成高电导均匀CoSi_2薄膜.对Co/Si 固相反应过程,氧在其中的行为等进行了分析.制备的COSi_2薄膜电阻率达15μΩcm.在快速退火条件下,Co/(111)Si固相反应形成的薄膜具有... 本文研究了利用离子束溅射、快速退火等技术,通过 Co/Si 固相反应,形成高电导均匀CoSi_2薄膜.对Co/Si 固相反应过程,氧在其中的行为等进行了分析.制备的COSi_2薄膜电阻率达15μΩcm.在快速退火条件下,Co/(111)Si固相反应形成的薄膜具有择优晶向,表明存在固相外延机制.在 4—300 K范围内,对 CoSi_2薄膜的电学输运性质进行了系统研究,CoSi_2具有正值霍尔系数,表明其具有空穴导电机制.低温载流子霍尔迁移率达到 56 cm^2/V.3。 展开更多
关键词 固相反应 CoSi2薄膜 退火 外延机制
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ZnO纳米线阵列的侧面生长机理 被引量:2
17
作者 施书哲 徐明 +3 位作者 黄礼胜 刘云飞 卢都友 吕忆农 《电子显微学报》 CAS CSCD 2005年第3期196-200,共5页
通过一种简单的无催化剂存在的气相生长工艺制备了侧面长成梳状结构的ZnO纳米线阵列。沿[0001]方向生长的ZnO纳米线按照100~500nm的间隔有规律地排列在梳底一侧。单晶梳底沿着[2110]方向生长到±(0110)和±(0001)面终止。所得... 通过一种简单的无催化剂存在的气相生长工艺制备了侧面长成梳状结构的ZnO纳米线阵列。沿[0001]方向生长的ZnO纳米线按照100~500nm的间隔有规律地排列在梳底一侧。单晶梳底沿着[2110]方向生长到±(0110)和±(0001)面终止。所得均一纳米线的直径和长度分别为40~100nm和0.5~2.0μm。纳米线阵列的侧面生长成为微米梳,是气体分子自组装成纳米线和一步法组装成微米结构的重要例子。本文详细讨论了ZnO纳米线阵列生长成为微米梳的生长机理。 展开更多
关键词 纳米结构 氧化物 半导体材料 气相生长工艺
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水热法合成PbTe微晶及其微观形貌表征 被引量:3
18
作者 吕维忠 李金玉 +4 位作者 黄旭珊 王小凤 黄希 刘波 罗仲宽 《深圳大学学报(理工版)》 EI CAS 北大核心 2011年第2期178-182,共5页
采用水热法制备PbTe微晶,研究水热法合成PbTe微晶工艺过程中碲源、反应时间、反应温度、碱加入量、还原剂及表面活性剂等对PbTe微晶形貌的影响,分别采用X射线衍射(X-ray diffraction,XRD)和扫描电镜(scanning electron microscope,SEM)... 采用水热法制备PbTe微晶,研究水热法合成PbTe微晶工艺过程中碲源、反应时间、反应温度、碱加入量、还原剂及表面活性剂等对PbTe微晶形貌的影响,分别采用X射线衍射(X-ray diffraction,XRD)和扫描电镜(scanning electron microscope,SEM)对制备的PbTe进行表征.结果表明,控制不同的合成工艺可制备得到立方体、花状和树突状等多种形貌的PbTe微晶. 展开更多
关键词 热电材料 半导体铅化物 碲化铅晶体 微晶 水热合成 晶体形貌
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二次电子成分衬度成像方法在异质结半导体材料和器件的微结构研究中的应用 被引量:3
19
作者 刘安生 邵贝羚 +5 位作者 安生 王敬 刘峥 徐军 王瑞忠 钱佩信 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第6期401-405,共5页
阐述了高分辨二次电子成分衬度像的成像原理、成像条件和实验方法,介绍了一种新的试样制备方法,讨论了各种制样方法的特点。以多层P+Si1-xGex/pSi异质结内光发射红外探测器为例,介绍了二次电子成分衬度像观察技术... 阐述了高分辨二次电子成分衬度像的成像原理、成像条件和实验方法,介绍了一种新的试样制备方法,讨论了各种制样方法的特点。以多层P+Si1-xGex/pSi异质结内光发射红外探测器为例,介绍了二次电子成分衬度像观察技术在异质结半导体材料和器件微结构研究中的应用。将这种技术与通常的透射电子衍射衬度方法进行了比较,讨论了它在异质结半导体材料和器件中的应用前景。 展开更多
关键词 二次电子 成分衬度像 半导体 电子显微术 微结构
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对离子束外延氧化铈/硅热处理行为的初步研究 被引量:2
20
作者 黄大定 王军杰 +1 位作者 杨锡震 吴正龙 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第7期538-543,共6页
对不同的O,Ce束流比条件下用离子束外延(IBE)方法生长的氧化铈/硅薄膜在热处理前和在干氧气氛中经不同温度热退火后进行了俄歇电子能谱(AES)深度剖析测量.结果显示出在Si衬底上生长的具有正化学配比的CeO2和林的低价氧化物具有... 对不同的O,Ce束流比条件下用离子束外延(IBE)方法生长的氧化铈/硅薄膜在热处理前和在干氧气氛中经不同温度热退火后进行了俄歇电子能谱(AES)深度剖析测量.结果显示出在Si衬底上生长的具有正化学配比的CeO2和林的低价氧化物具有明显不同的热处理行为,对与此有关物理过程作了初步探讨.结果还表明IBECeO2/Si结构经高温处理后在界面上形成了一层SiO2,而外延层内的化学配比可接近正常值,从而显示出该材料工作温度尚可提高的可能性. 展开更多
关键词 离子束外延 氧化铈 热处理行为 外延生长
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