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Magnetic property and microstructure of SmCo magnetic recording films 被引量:1
1
作者 李宁 李帅 +1 位作者 张恩 王立锦 《Journal of Rare Earths》 SCIE EI CAS CSCD 2009年第5期839-842,共4页
Cr/SmCo/Cr thin films with Sm concentration of 37.7 at.% were deposited on glass substrates by magnetron sputtering. Measurement of magnetic properties showed that the SmCo film possessed good magnetic anisotropy, a h... Cr/SmCo/Cr thin films with Sm concentration of 37.7 at.% were deposited on glass substrates by magnetron sputtering. Measurement of magnetic properties showed that the SmCo film possessed good magnetic anisotropy, a high coercivity of 3019 kA/m and low magnetic exchange coupling. Microstructure analysis showed that crystallized SmCo5 magnetic phase, non-magnetic SmCo2 phase and Sm2Co7 phase co-existed in the film. The non-magnetic SmCo2 phase might function as isolator of SmCo grains, leading to a decrease of magnetic exchange coupling. Moreover, a Cr2O3 oxide layer which could protect the SmCo layer from oxidation formed at the surface of the Cr cap layer. 展开更多
关键词 smco thin film magnetic recording magnetic exchange coupling rare earths
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Temperature Dependence of Magnetic Properties of SmCo/FeCo Multilayer Films
2
作者 Xianghua LIU, Ge YAN, Liya CUI and Shaoxiong ZHOU (National Amorphous & Nanocrystalline Alloy Engineering Research Center, Central Iron & Steel Research Institute, Beliing 100081, China) Wu ZHENG, Ailing WANG and Jinchang CHEN (Department of Physics, Cap 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2000年第2期199-200,共2页
Sm22Co78/Fe65Co35/Sm22Co78/Fe65Co35 multilayer films were prepared by magnetron sputtering. The temperature dependence of coercivity (Hc), remanence (Mr) and reduced remanence (Mr/Ms) has been measured. The coercivit... Sm22Co78/Fe65Co35/Sm22Co78/Fe65Co35 multilayer films were prepared by magnetron sputtering. The temperature dependence of coercivity (Hc), remanence (Mr) and reduced remanence (Mr/Ms) has been measured. The coercivity decreases with increasing of temperature. The remanence decreases with increasing the temperature from 26 to 100℃, and then increases with continuously increasing the temperature from 100 to 150℃. The reduced remanence increases with increasing the temperature. 展开更多
关键词 CO CR Temperature Dependence of Magnetic Properties of smco/FeCo Multilayer films
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溅射SmCo基永磁薄膜的结构和磁性能研究 被引量:5
3
作者 彭龙 李元勋 +2 位作者 李乐中 杨定宇 朱兴华 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第6期666-670,共5页
以Sm(Co0.62Fe0.25Cu0.1Zr0.03)7.5合金为靶材,采用磁控溅射工艺在单晶Si基片上沉积了SmCo基永磁薄膜。研究了溅射工艺参数对薄膜的晶体结构、微观结构和磁性能的影响。结果表明:溅射气压和溅射功率的改变引起了永磁相变,这主要依赖于... 以Sm(Co0.62Fe0.25Cu0.1Zr0.03)7.5合金为靶材,采用磁控溅射工艺在单晶Si基片上沉积了SmCo基永磁薄膜。研究了溅射工艺参数对薄膜的晶体结构、微观结构和磁性能的影响。结果表明:溅射气压和溅射功率的改变引起了永磁相变,这主要依赖于溅射工艺条件对薄膜Sm含量的影响。高的溅射压强和溅射功率都会引起薄膜晶粒的粗大化和薄膜表面的粗糙化。薄膜的晶体结构和微观结构随溅射参数的变化决定了薄膜的面内磁学行为。当溅射压强为0.3 Pa和溅射功率为5.1 W/cm2时,制备的退火态SmCo基薄膜为TbCu7单相晶体结构,其面内永磁性能良好。 展开更多
关键词 smco薄膜 微机电系统 磁控溅射 相变 矫顽力
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磁控溅射制备SmCo薄膜的工艺及磁性研究 被引量:4
4
作者 邱轶 万红 +2 位作者 刘吉燕 斯永敏 赵恂 《国防科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第5期26-30,共5页
用直流磁控溅射方法制备了SmCo薄膜,通过正交设计实验考察了工艺因素对薄膜沉积速率的影响规律。研究结果表明,影响薄膜沉积速率的主要因素是溅射功率,其次为靶基距,在0.5~2.0Pa的压强范围内,Ar气压强的大小对溅射速率的影响很小。X-... 用直流磁控溅射方法制备了SmCo薄膜,通过正交设计实验考察了工艺因素对薄膜沉积速率的影响规律。研究结果表明,影响薄膜沉积速率的主要因素是溅射功率,其次为靶基距,在0.5~2.0Pa的压强范围内,Ar气压强的大小对溅射速率的影响很小。X-射线衍射结果表明:制备态的SmCo薄膜为非晶结构,500℃真空热处理后,薄膜中出现少量的微晶SmCo5化合物。磁性能测试表明:制备态SmCo薄膜的矫顽力随薄膜厚度的增加而显著下降;真空热处理过程中,薄膜结构缺陷及成分起伏减少,薄膜的矫顽力和饱和磁场强度显著下降,初始磁导率和饱和磁化强度显著增加。 展开更多
关键词 直流磁控溅射 smco薄膜 工艺参数 磁化
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溅射工艺及底层对SmCo薄膜磁性能的影响 被引量:2
5
作者 张峰 黄致新 +3 位作者 王辉 吴斌 杨晓非 程伟明 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A03期1077-1079,共3页
用多靶射频磁控溅射系统在玻璃基片上制备了SmCo磁性薄膜。并采用控制变量法研究了溅射功率、溅射时间以及溅射气压等工艺参数对薄膜磁性能的影响。结果发现,当磁性层溅射功率为60W,溅射气压为0.5Pa,溅射时间为8min;底层溅射功率为1... 用多靶射频磁控溅射系统在玻璃基片上制备了SmCo磁性薄膜。并采用控制变量法研究了溅射功率、溅射时间以及溅射气压等工艺参数对薄膜磁性能的影响。结果发现,当磁性层溅射功率为60W,溅射气压为0.5Pa,溅射时间为8min;底层溅射功率为125W,溅射气压为0.5Pa,溅射时间为4min时,薄膜的矫顽力高达2.79×10^5。底层对SmCo薄膜的磁性能也有影响,振动样品磁强计测量结果表明:相比Cr、Ti底层,以Cu作为底层所得到的SmCo薄膜磁性能更好,薄膜矫顽力分别比用Cr、Ti作底层时高出56%,40%。 展开更多
关键词 磁控溅射 smco薄膜 控制变量法 矫顽力 Cu底层
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溅射参数对SmCo/Cr薄膜铬底层晶面取向及磁学性能的影响 被引量:4
6
作者 段静芳 许小红 +1 位作者 武海顺 李佐宜 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第5期561-564,共4页
采用直流磁控溅射法制备SmCo Cr薄膜磁记录材料 ,通过改变Cr底层制备过程中的功率、靶基距、溅射压强和溅射时间 ,得到了磁性能不同的SmCo Cr薄膜。利用X射线衍射法对Cr底层晶面取向和磁控溅射参数之间的关系进行了研究 ,结果表明 :如... 采用直流磁控溅射法制备SmCo Cr薄膜磁记录材料 ,通过改变Cr底层制备过程中的功率、靶基距、溅射压强和溅射时间 ,得到了磁性能不同的SmCo Cr薄膜。利用X射线衍射法对Cr底层晶面取向和磁控溅射参数之间的关系进行了研究 ,结果表明 :如果改变溅射参数 ,使沉积Cr原子获得较大的能量 ,则有利于Cr底层最终以 ( 110 )晶面择优取向。本实验中Cr底层以 ( 110 )晶面择优取向的最佳实验条件为 :溅射功率在 5 0~ 70W左右 ,靶基距为 6cm ,压强为 0 .5Pa ,溅射时间为 15min。利用振动样品磁强计 (VSM )测定SmCo Cr薄膜的磁学性能 ,结果表明 ,如果Cr底层能以 ( 110 )晶面择优取向 ,所得到的SmCo Cr薄膜的磁学性能较好。 展开更多
关键词 铬底层 晶面取向 溅射参数 smco/Cr薄膜 矫顽力
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Scaling Behavior and Magnetic Properties for Sm_x Co_5 Films 被引量:5
7
作者 李加新 王锋 +4 位作者 赖恒 郑卫峰 贾翠红 盖荣权 黄志高 《Journal of Rare Earths》 SCIE EI CAS CSCD 2006年第z2期266-269,共4页
SmxCo5(x = 1.3, 0.7, 0.4) thin films were prepared by magnetron co-sputtering technique. The samples were annealed at 723 K under Ar atmosphere. The annealed time was chosen as 30 min. The hysteresis loops of the samp... SmxCo5(x = 1.3, 0.7, 0.4) thin films were prepared by magnetron co-sputtering technique. The samples were annealed at 723 K under Ar atmosphere. The annealed time was chosen as 30 min. The hysteresis loops of the samples were measured under the ac applied magnetic field with the period Tp(2πω) , H(t) = H0sin(ωt), by vibrating sample magnetometer (VSM). The experimental results indicate that, (1) the average hysteresis loop areas as functions of the values of H0 andωdisplay a power scaling law with the exponents, A = A0 + H0αωβ; (2) the x composition of SmxCo5 film has evident effect on the scaling behavior and magnetic properties; (3) the anisotropy scaling exponents exist clearly in the anisotropy SmxCo5 thin films. Moreover, the scaling behavior of the anisotropy magnetic film was also simulated with Monte Carlo method. The simulated results are consistent with the experimental fact. 展开更多
关键词 smco films HYSTERESIS SCALING rare earths
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SmCo/Cr薄膜中Cr底层最佳溅射条件的正交设计研究 被引量:1
8
作者 许小红 段静芳 +3 位作者 王芳 武海顺 李震 李佐宜 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第10期1033-1036,共4页
在SmCo/Cr薄膜中,Cr底层的取向结构对薄膜的磁学性能有很大的影响。设计了4因素3水平的正交实验L9(34),并通过数理统计的方法分析了Cr底层的溅射参数对SmCo/Cr薄膜矫顽力的影响。用较少的实验得到Cr底层的最佳实验条件:靶基距为4cm,功率... 在SmCo/Cr薄膜中,Cr底层的取向结构对薄膜的磁学性能有很大的影响。设计了4因素3水平的正交实验L9(34),并通过数理统计的方法分析了Cr底层的溅射参数对SmCo/Cr薄膜矫顽力的影响。用较少的实验得到Cr底层的最佳实验条件:靶基距为4cm,功率为50W,溅射气压为0.5Pa,溅射时间为9min。并发现了靶基距、功率和溅射气压对薄膜矫顽力的影响较大,其中靶基距是薄膜矫顽力最主要的控制因素。而溅射时间在所取的水平上对薄膜矫顽力的影响最小。本实验设计可达到95%的置信度。 展开更多
关键词 smco/Cr薄膜 矫顽力 Cr底层 溅射参数
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退火温度对SmCo非晶薄膜显微结构和磁性能的影响 被引量:3
9
作者 祝要民 宋晓平 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 2004年第11期17-20,共4页
用直流磁控溅射方法制备了非晶态的SmCo磁性薄膜 ,并通过不同的退火处理使其具有不同晶粒大小的晶化组织和磁性能。用透射电镜 (TEM)及电子衍射分析薄膜在不同状态下的微观组织形貌和相结构 ,用振动样品磁强计 (VSM)分析薄膜的磁性能变... 用直流磁控溅射方法制备了非晶态的SmCo磁性薄膜 ,并通过不同的退火处理使其具有不同晶粒大小的晶化组织和磁性能。用透射电镜 (TEM)及电子衍射分析薄膜在不同状态下的微观组织形貌和相结构 ,用振动样品磁强计 (VSM)分析薄膜的磁性能变化规律。结果表明 ,溅射态薄膜为非晶 ,在 4 0 0℃退火薄膜已晶化 ,在 4 5 0℃退火时晶粒均匀细小且磁性能优良 ;5 0 0℃以上退火时出现不均匀粗大晶粒 ,对应的磁性能降低。 展开更多
关键词 smco薄膜 退火处理 微观形貌及结构 磁性能
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Cu底层对SmCo薄膜磁性能的影响 被引量:1
10
作者 张峰 黄致新 +3 位作者 胡曾 崔增丽 董凯峰 杨晓非 《华中师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 2007年第4期543-545,共3页
通过多靶射频磁控溅射系统在玻璃基片上制备了SmCo/Cu磁性薄膜.采用控制变量法优化了磁性层溅射工艺参数,制备出了矫顽力高达2400 Oe的溅射态SmCo面内磁化膜;通过控制溅射Cu底层时的基片温度,薄膜磁化方向有从面内向垂直方向转变的趋势... 通过多靶射频磁控溅射系统在玻璃基片上制备了SmCo/Cu磁性薄膜.采用控制变量法优化了磁性层溅射工艺参数,制备出了矫顽力高达2400 Oe的溅射态SmCo面内磁化膜;通过控制溅射Cu底层时的基片温度,薄膜磁化方向有从面内向垂直方向转变的趋势,并制备出矫顽力达到6215 Oe的垂直面内方向的SmCo/Cu薄膜;利用扫描隧道显微镜(STM)分析SmCo薄膜在不同温度下的表面形貌发现,150℃时薄膜的晶粒尺寸较小有利于改善薄膜磁性能. 展开更多
关键词 Cu底层 磁控溅射 smco薄膜 矫顽力
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SmCo磁记录薄膜中磁耦合作用的研究 被引量:1
11
作者 李帅 冯春 +3 位作者 李宁 李宝河 于广华 孙文星 《中国稀土学报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第6期807-811,共5页
采用磁控溅射方法,在玻璃基片上制备了Cr/SmCo/Cr结构的SmCo薄膜,实验结果表明:在低Sm含量(20.5%(原子分数))和高Sm含量(大于30.7%)的SmCo薄膜中都能形成SmCo5磁性相,在Sm含量较高的SmCo薄膜中同时还形成了SmCo2等非磁性相,非磁性相的... 采用磁控溅射方法,在玻璃基片上制备了Cr/SmCo/Cr结构的SmCo薄膜,实验结果表明:在低Sm含量(20.5%(原子分数))和高Sm含量(大于30.7%)的SmCo薄膜中都能形成SmCo5磁性相,在Sm含量较高的SmCo薄膜中同时还形成了SmCo2等非磁性相,非磁性相的存在对磁性相有隔离作用,从而降低了磁性晶粒之间的磁耦合作用。因此可以用提高Sm含量的方法来降低SmCo薄膜磁性晶粒之间的磁耦合作用。 展开更多
关键词 smco薄膜 磁记录 交换耦合 稀土
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SmCo薄膜的不均匀晶化及其磁性能
12
作者 祝要民 李晓园 +1 位作者 宋晓平 陈强 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期587-590,共4页
采用不同的磁控溅射和回火工艺制备了SmCo磁性薄膜。用能谱仪对不同工艺溅射的样品进行了化学成分分析;用透射电子显微镜和振动样品磁强计(VSM)研究了薄膜的显微结构和磁性能。结果表明:溅射态的薄膜为非晶态并具有软磁特征;当回火温度... 采用不同的磁控溅射和回火工艺制备了SmCo磁性薄膜。用能谱仪对不同工艺溅射的样品进行了化学成分分析;用透射电子显微镜和振动样品磁强计(VSM)研究了薄膜的显微结构和磁性能。结果表明:溅射态的薄膜为非晶态并具有软磁特征;当回火温度位于400~450℃之间时,薄膜的微观组织均匀细小,且随着回火温度增加,矫顽力增大,并在450℃回火的样品中得到了最大的矫顽力。回火温度500℃后,薄膜微观组织中晶粒出现了不均匀粗化,矫顽力明显降低。 展开更多
关键词 smco薄膜 磁控溅射 回火 磁性薄膜 晶化 磁性能 显微组织
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Strategy of preparing SmCo based films with high coercivity and remanence ratio achieved by temperature and chemical optimization
13
作者 Yansong Gong Zhaoguo Qiu +8 位作者 Sizhe Liang Xinrui Zheng Hongxia Meng Zhigang Zheng Deyang Chen Shengfu Yuan Weixing Xia Dechang Zeng J.P.Liu 《Journal of Rare Earths》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第7期1289-1297,I0004,共10页
SmCo based films with excellent intrinsic magnetic properties have promising applications in micro-electro-mechanical system(MEMS).However,due to the complexity of phase composition and uncontrollable crystallization ... SmCo based films with excellent intrinsic magnetic properties have promising applications in micro-electro-mechanical system(MEMS).However,due to the complexity of phase composition and uncontrollable crystallization degree of SmCo hard magnetic phase in the film,both the coercivity(Hc)and remanence(Mr)of films are difficult to enhance simultaneously.In this paper,SmCo based films were deposited with a Cr underlayer and capping layer on single crystal Si substrates via magnetron sputtering process.The effects of annealing parameters and Sm/Co atomic ratio on the phase structure and coercivity of films are discussed.By adjusting the Sm/Co atomic ratio from 1:5 to 1:4,Co soft magnetic phase disappears and the single phase SmCo5 is obtained,leading to the increase of coercivity of the films from 30 to 34 kOe.The influence of deposition temperature and Cu doping on magnetic properties of SmCo based films was investigated.When the deposition temperature increases from room temperature to 250℃,the coercivity will further increase from 34 to 51 kOe.However,a severe kink is observed in the demagnetization curves due to the poor exchanged coupling.An analysis of transmission electron microscopy(TEM)confirms that the average size of non-hard magnetic amorphous phase exceeds the effective exchanged coupling length of SmCo5,which contributes to the decoupling and low remanence ratio.Therefore,doping Cu and applying a post-annealing process can significantly improve the crystallization degree of the films.Both the coercivity and the remanence ratio of the demagnetization curves are greatly enhanced.We propose a plausible strategy to prepare the SmCo based films with high coercivity and remanence ratio by temperature and chemical optimization,which can be utilized in high performed MEMS devices. 展开更多
关键词 Rare earths smco based films Phase composition Crystallization conditions COERCIVITY Remanence ratio
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SmCo_7永磁薄膜的高温磁学行为研究
14
作者 彭龙 涂小强 +2 位作者 李乐中 王瑞 李元勋 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第2期163-166,共4页
以Mo薄膜为衬底层,采用磁控溅射工艺在热单晶Si(100)基片上制备了3μm厚的SmCo7永磁薄膜,研究了薄膜在25—300℃范围内的高温磁学行为。基于趋近饱和定律,建立了薄膜磁晶各向异性常数K1的计算方法,结合薄膜的高温磁化曲线,获得... 以Mo薄膜为衬底层,采用磁控溅射工艺在热单晶Si(100)基片上制备了3μm厚的SmCo7永磁薄膜,研究了薄膜在25—300℃范围内的高温磁学行为。基于趋近饱和定律,建立了薄膜磁晶各向异性常数K1的计算方法,结合薄膜的高温磁化曲线,获得了蜀随温度的变化关系。高温磁滞回线测试结果表明,薄膜的剩磁比Mr/Ms随着温度的增加逐渐降低,说明SmCo晶粒的面内取向受到了破坏。此外,薄膜的磁性能具有适当的温度依赖关系,并且温度稳定性良好,有利于实现器件应用。 展开更多
关键词 稀土永磁 smco薄膜 高温 磁学行为
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直流磁控溅射工艺对SmCo薄膜的影响
15
作者 祝要民 宋晓平 +1 位作者 李晓园 陈强 《中国稀土学报》 CAS CSCD 北大核心 2003年第z1期137-140,共4页
采用不同的直流磁控溅射工艺,制备了SmCo薄膜。分别用能谱(EDAX)和俄歇谱仪(ASE)对薄膜的平均成份和表面到内部成份分布进行了分析,用振动样品磁强计(VSM)分析了薄膜的磁性能,用原子力显微镜(ATM)分析了溅射薄膜的表面颗粒形貌。结果表... 采用不同的直流磁控溅射工艺,制备了SmCo薄膜。分别用能谱(EDAX)和俄歇谱仪(ASE)对薄膜的平均成份和表面到内部成份分布进行了分析,用振动样品磁强计(VSM)分析了薄膜的磁性能,用原子力显微镜(ATM)分析了溅射薄膜的表面颗粒形貌。结果表明,溅射工艺因素对薄膜的成份和磁性能有较大的影响。 展开更多
关键词 直流磁空溅射 smco薄膜 工艺 稀土
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多靶射频磁控共溅射SmCo/Cr薄膜的制备和磁性能 被引量:1
16
作者 章平 黄致新 +2 位作者 张玉龙 王辉 张峰 《咸宁学院学报》 2006年第6期47-49,共3页
采用多靶射频磁控共溅射方法制备了SmCo/Cr薄膜,用XRD和VSM测量了各样品的微结构和矫顽力.结果表明,SmCo膜具有较强的垂直各向异性,当Cr底层溅射时间为5min、SmCo磁性层溅射时间为14min、Co靶溅射功率为220W时,所得到的薄膜垂直矫顽力最大.
关键词 多靶共溅射 smco/Cr薄膜 矫顽力
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不同基体SmCo颗粒膜的组织和磁性
17
作者 祝要民 宋晓平 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期90-93,共4页
用磁控溅射方法制备了Cu,Mo和Al基体的SmCo颗粒薄膜.用能谱EDAX,透射电镜TEM和振动样品磁强计VSM分别表征和测量了薄膜的结构和磁性能.结果表明,Cu基体溅射态已晶化而Mo和Al溅射态为非晶态,在500℃回火30 min后磁性相的析出特性有一定差... 用磁控溅射方法制备了Cu,Mo和Al基体的SmCo颗粒薄膜.用能谱EDAX,透射电镜TEM和振动样品磁强计VSM分别表征和测量了薄膜的结构和磁性能.结果表明,Cu基体溅射态已晶化而Mo和Al溅射态为非晶态,在500℃回火30 min后磁性相的析出特性有一定差异.对溅射的SmCo薄膜在500℃回火30 min后,Cu基体的SmCo薄膜磁性能较好,并有一定的磁各向异性,其原因是Cu在SmCo晶界的聚集对晶粒有钉扎作用. 展开更多
关键词 金属材料 smco颗粒薄膜 磁性能
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SmCo薄膜的共溅射制备及磁学性能研究
18
作者 王辉 黄致新 +4 位作者 吴斌 张峰 刘敏 张玉龙 章平 《信息记录材料》 2007年第1期47-50,共4页
采用磁控共溅射方法制备了非晶态的SmCo磁性薄膜,用振动样品磁强计(VSM)分析了薄膜的磁学性能,并通过原位后退火处理研究了其磁学性能。结果表明,在600℃下退火30分钟,SmCo薄膜样品的矫顽力升高,并且磁化取向有从面内转向垂直方向的趋势。
关键词 smco薄膜 共溅射 退火 矫顽力
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高钐含量SmCo磁记录薄膜材料的研究 被引量:3
19
作者 霍乾名 李宝河 +1 位作者 冯春 于广华 《中国稀土学报》 CAS CSCD 北大核心 2008年第5期636-639,共4页
SmCo合金具有极高的单轴磁晶各向异性,成为未来高密度磁记录介质的候选材料之一。本文采用磁控溅射方法,在玻璃基片上制备了Cr(100 nm)/SmCo(50 nm)/Cr(20 nm)结构的SmCo薄膜,SmCo层中Sm含量为35%(原子分数)。利用综合物性测试系统(PPMS... SmCo合金具有极高的单轴磁晶各向异性,成为未来高密度磁记录介质的候选材料之一。本文采用磁控溅射方法,在玻璃基片上制备了Cr(100 nm)/SmCo(50 nm)/Cr(20 nm)结构的SmCo薄膜,SmCo层中Sm含量为35%(原子分数)。利用综合物性测试系统(PPMS)和X射线衍射(XRD)对薄膜的磁性能和晶体学结构进行了测试。结果表明,通过550℃退火20 min可以获得很好的硬磁性能,矫顽力Hc达到了3183kA.m-1,XRD结果表明薄膜中同时存在磁性相SmCo5和非磁性相SmCo2等。高Sm含量的SmCo薄膜在退火温度为450℃时开始晶化,退火温度达到550℃时,晶化进行的比较完全。 展开更多
关键词 smco薄膜 磁性能 退火 单轴磁晶各向异性 稀土
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退火温度对SmCo永磁薄膜微结构及磁性能的影响(英文) 被引量:2
20
作者 陈志川 张万里 +2 位作者 蒋洪川 彭斌 唐军 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第9期1472-1475,共4页
采用直流磁控溅射法制备SmCo薄膜,研究了退火温度对薄膜微结构及磁性能的影响。XRD分析结果表明,当退火温度为600℃时,SmCo5相析出,而Sm2Co17相在700℃析出。SEM照片可看出,退火温度高于900℃时,六方柱状的SmCo5相和菱方状的Sm2Co17相... 采用直流磁控溅射法制备SmCo薄膜,研究了退火温度对薄膜微结构及磁性能的影响。XRD分析结果表明,当退火温度为600℃时,SmCo5相析出,而Sm2Co17相在700℃析出。SEM照片可看出,退火温度高于900℃时,六方柱状的SmCo5相和菱方状的Sm2Co17相全部析出。随着退火温度的升高,晶粒尺寸增大,当温度达940℃时,晶粒尺寸减小,而在980℃时,晶粒尺寸又将增大。VSM测试表明,与制备态的薄膜相比,退火后的薄膜在垂直于膜面方向的矫顽力、剩余磁化强度及最大磁能积都增大。960℃时得到矫顽力和剩余磁化强度的最大值,800℃时得到最大磁能积的最大值。 展开更多
关键词 smco薄膜 退火 微结构 磁性能
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