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高k材料Ta2O5结构与电学性质的研究 被引量:1
1
作者 陈息林 余涛 +2 位作者 吴雪梅 董尧君 诸葛兰剑 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第7期1335-1338,1341,共5页
利用双离子束沉积设备在p-Si(100)衬底上制备了Ta2O5基MOS电容,研究了不同辅源能量0、100、200、300eV下薄膜生长机制、内部结构以及电学性质的差异。实验结果显示,在辅源能量200eV下制备的Ta2O5薄膜具有最小的表面粗糙度和优异的界面... 利用双离子束沉积设备在p-Si(100)衬底上制备了Ta2O5基MOS电容,研究了不同辅源能量0、100、200、300eV下薄膜生长机制、内部结构以及电学性质的差异。实验结果显示,在辅源能量200eV下制备的Ta2O5薄膜具有最小的表面粗糙度和优异的界面特性。由C-V/I-V特征曲线表明,辅源能量200eV下制备的Ta2O5基MOS电容具有最小的平带电压偏移量、氧化层电荷密度以及漏电流。研究表明合适的辅源能量可有效改善薄膜生长机制,使薄膜由类岛状沉积转化为层状生长,从而提高晶粒均匀性、薄膜平整度以及致密性,使薄膜具有较好的电学性质。 展开更多
关键词 高K栅介质 ta2o5 MOSFET器件 微结构 电学性质
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Ta2O5薄膜的结构和电学性能研究 被引量:3
2
作者 魏爱香 张幸福 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A02期642-644,共3页
采用紫外光诱导热丝CVD沉积技术制备Ta2O5薄膜和Al/Ta2O2/SiMOS电容。利用XRD,AFM测试分析方法研究了紫外光源功率对Ta2O5薄膜结构的影响;通过C-V和,I-V测试对Ta2O5薄膜的介电常数,击穿场强和漏电流等电学性能进行了研究,结果表明... 采用紫外光诱导热丝CVD沉积技术制备Ta2O5薄膜和Al/Ta2O2/SiMOS电容。利用XRD,AFM测试分析方法研究了紫外光源功率对Ta2O5薄膜结构的影响;通过C-V和,I-V测试对Ta2O5薄膜的介电常数,击穿场强和漏电流等电学性能进行了研究,结果表明:紫外光源的功率越大,Ta2O5薄膜的结晶性越好,介电常数越大,最大值为29,但紫外光功率对击穿场强和漏电流没有明显改善。 展开更多
关键词 光诱导热丝CVD ta2o5薄膜 电学性能
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添加Ta2O5对锂铌钛系微波介质陶瓷性能的影响 被引量:1
3
作者 喻佑华 王相惠 +3 位作者 周川钧 杨俊瑞 张岚 宗瑞 《中国陶瓷》 CAS CSCD 北大核心 2011年第8期28-30,35,共4页
添加Ta2O5对LiNb0.6-zTazTi0.5O3陶瓷进行改性研究,文中探讨了Ta2O5对LiNb0.6-zTazTi0.5O3陶瓷烧结性能,显微结构和微波介电性能的影响。结果表明:添加Ta2O5样品的εr略微降低、Q.f值提高、τf略微增大,LiNb0.4Ta0.2Ti0.5O3配方在1160... 添加Ta2O5对LiNb0.6-zTazTi0.5O3陶瓷进行改性研究,文中探讨了Ta2O5对LiNb0.6-zTazTi0.5O3陶瓷烧结性能,显微结构和微波介电性能的影响。结果表明:添加Ta2O5样品的εr略微降低、Q.f值提高、τf略微增大,LiNb0.4Ta0.2Ti0.5O3配方在1160℃保温2h制得样品的微波介电性能非常良好,εr=63.5、τf=+25 ppm/℃、Q.f=7490GHz。 展开更多
关键词 微波介质陶瓷 锂铌钛体系 ta2o5掺杂 介电性能
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热诱导组装Ta2O5空心微球
4
作者 陈颖 周幸福 +1 位作者 刘磊 范益群 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2009年第3期454-458,共5页
在有机体系中电化学溶解钽得到有机前驱体钽醇盐,在30mL电解液中加入6mLH2O2和0.6g阳离子表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵(CTAB),150℃溶剂热反应24h,产物经过高温热处理后得到Ta2O5空心微球。研究表明:溶剂热反应得到无定型Ta2O5纳米颗... 在有机体系中电化学溶解钽得到有机前驱体钽醇盐,在30mL电解液中加入6mLH2O2和0.6g阳离子表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵(CTAB),150℃溶剂热反应24h,产物经过高温热处理后得到Ta2O5空心微球。研究表明:溶剂热反应得到无定型Ta2O5纳米颗粒,600℃热处理后得到由纳米颗粒组装成的无定型Ta2O5半球结构,经过进一步的900℃高温热处理导致这些相邻半球结构进一步组装为斜方晶系的Ta2O5微米级空心球(直径约2μm),球壁厚度在150nm左右,空心部分直径约为1.5μm,球壁是由更小的Ta2O5纳米空心球组成;而在相同条件下,采用油酸代替CTAB,得到粒径减小的Ta2O5纳米颗粒。同时探讨了高温热诱导组装多孔Ta2O5微米空心球的可能形成机理。 展开更多
关键词 有机电解合成 溶剂热 ta2o5 空心球
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激光辐照制备高介电常数Ta2O5陶瓷
5
作者 季凌飞 王伟 +1 位作者 于振龙 蒋毅坚 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期3102-3103,共2页
采用大功率CO2激光辐照制备高介电常数Ta2O5陶瓷,讨论了激光制备工艺参数如激光光束模式、功率密度、扫描速率、辐照时间、辐照方式等对制备材料介电性能和组织形貌的影响,分析了其作用机理.
关键词 ta2o5陶瓷 激光辐照 高介电常数
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退火温度对Ta2O5/SiO2多层反射膜结构和应力特性的影响 被引量:6
6
作者 刘保剑 段微波 +4 位作者 李大琪 余德明 陈刚 王天洪 刘定权 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第11期172-178,共7页
介质膜反射镜是星载激光测高仪系统中不可缺少的薄膜元件,其面形质量直接影响探测系统测距的分辨率和精度.本文采用离子束辅助电子束蒸发工艺在石英基底上沉积Ta2O5/SiO2多层反射膜,并在200—600℃的空气中做退火处理.通过X射线衍射、... 介质膜反射镜是星载激光测高仪系统中不可缺少的薄膜元件,其面形质量直接影响探测系统测距的分辨率和精度.本文采用离子束辅助电子束蒸发工艺在石英基底上沉积Ta2O5/SiO2多层反射膜,并在200—600℃的空气中做退火处理.通过X射线衍射、原子力显微镜、分光光度计及激光干涉仪等测试手段,系统研究了退火温度对Ta2O5/SiO2多层反射膜结构、光学性能以及应力特性的影响.结果表明:Ta2O5/SiO2多层反射膜退火后,膜层结构保持稳定,膜层表面粗糙度得到有效改善;反射膜在500—600℃退火后,残余应力由压应力向张应力转变;采用合适的退火温度可以有效释放Ta2O5/SiO2薄膜的残余应力,使薄膜与基底构成的介质膜反射镜具有较好的面形精度.本文的实验结果对退火工艺在介质膜反射镜面形控制技术方面的应用具有重要意义. 展开更多
关键词 光学薄膜 ta2o5/SiO2多层反射膜 退火 应力特性
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Ti6Al4V钛合金表面Ta2O5/Ta2O5-Ti/Ti多涂层的制备与性能研究 被引量:7
7
作者 周泉 丁泽良 +2 位作者 王易 张海波 吴发展 《包装学报》 2019年第6期23-30,共8页
采用磁控溅射技术在Ti6Al4V钛合金表面制备了Ta2O5/Ta2O5-Ti/Ti多层涂层;利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)和X射线光电子能谱仪(XPS),分析了涂层的微观结构、物性组成和化学价态;通过划痕仪、纳米压痕仪、摩擦磨损试验机和电... 采用磁控溅射技术在Ti6Al4V钛合金表面制备了Ta2O5/Ta2O5-Ti/Ti多层涂层;利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)和X射线光电子能谱仪(XPS),分析了涂层的微观结构、物性组成和化学价态;通过划痕仪、纳米压痕仪、摩擦磨损试验机和电化学工作站,检测了涂层的结合强度、力学性能、摩擦系数和耐腐蚀性。研究结果表明,Ta2O5/Ta2O5-Ti/Ti多层涂层表面由峰型颗粒组成,粒径大小均匀,涂层结构致密。与Ti6Al4V相比,Ta2O5/Ta2O5-Ti/Ti多层涂层试样具有较小的摩擦系数,较高的腐蚀电位和较小的腐蚀电流密度,表现出良好的耐磨和耐腐蚀性能,能对Ti6Al4V合金植入材料起到较好的保护作用。 展开更多
关键词 ta2o5/ta2o5-Ti/Ti涂层 磁控溅射 梯度涂层 结合强度
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晶粒取向及氧化电压对阳极氧化Ta2O5纳米管形貌的影响
8
作者 张玉 刘施峰 +2 位作者 李利娟 祝佳林 邓超 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第8期10-13,共4页
以(110)和(111)取向单晶钽片为原材料,在体积比为9∶1的浓H2SO4和HF电解液中,保持电压为30 V,阳极氧化1 min制备Ta2O5纳米管。对比在(110)和(111)取向单晶上制备的Ta2O5纳米管的扫描电子显微镜(SEM)图像,研究晶粒取向对阳极氧化Ta2O5纳... 以(110)和(111)取向单晶钽片为原材料,在体积比为9∶1的浓H2SO4和HF电解液中,保持电压为30 V,阳极氧化1 min制备Ta2O5纳米管。对比在(110)和(111)取向单晶上制备的Ta2O5纳米管的扫描电子显微镜(SEM)图像,研究晶粒取向对阳极氧化Ta2O5纳米管形貌的影响。在相同电解液体系下,将两种不同取向单晶分别在电压为5 V、15 V、25 V、35 V的条件下氧化30 s,研究氧化电压对Ta2O5纳米管形貌的影响。研究结果表明:(111)取向更有利于Ta 2O 5纳米管的生长,其管长约为6.28μm,Ta2O5纳米管的顶部抱团成簇,纳米管外部粗糙似竹节;(110)取向制备的Ta 2O 5纳米管开口好,外管壁光滑,管长约为3.71μm;Ta2O5纳米管的管长及管径与氧化电压呈正相关,且(111)单晶生长的Ta2O5纳米管管长及管径大于(110)单晶生长的纳米管。Ta2O5纳米管的生长具有取向相关性,主要受原子排列密度的影响,原子排列密度越大,其纳米管的生长速率越小,故Ta2O5纳米管管长越短,管径越小。 展开更多
关键词 单晶钽片 阳极氧化 晶粒取向 氧化电压 ta2o5纳米管
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原位沉积温度对电子束蒸镀Ta2O5薄膜性能的影响 被引量:2
9
作者 于龙宇 王伟 +1 位作者 刘孟杰 曹振勇 《半导体技术》 CAS 北大核心 2020年第8期632-637,共6页
采用电子束蒸镀在重掺杂Si衬底上制备了150 nm厚的Ta2O5薄膜,研究原位生长温度(150,250和350℃)和后退火工艺对Ta2O5薄膜性能的影响。X射线衍射测试结果表明,当衬底原位温度控制在350℃以下时,制备的Ta2O5薄膜均为无定形结构。原子力显... 采用电子束蒸镀在重掺杂Si衬底上制备了150 nm厚的Ta2O5薄膜,研究原位生长温度(150,250和350℃)和后退火工艺对Ta2O5薄膜性能的影响。X射线衍射测试结果表明,当衬底原位温度控制在350℃以下时,制备的Ta2O5薄膜均为无定形结构。原子力显微镜和阻抗分析测试结果发现当衬底温度为250℃时,Ta2O5薄膜的表面均方根粗糙度最小,达到0.16 nm,同时具有最优的电学性能(相对介电常数24.1,介电损耗低于0.01)。与原位控温相比,相同条件下后退火工艺处理得到的薄膜性能有所下降。研究结果表明,采用基于衬底原位控温的电子束蒸镀工艺可制备出性能优越的Ta2O5薄膜介电材料,有望应用于动态随机存储器等高性能器件。 展开更多
关键词 电子束蒸镀 原位沉积温度 ta2o5薄膜 SI 后退火温度
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Preparation of Ta-Doped TiO2 Using Ta2O5 as the Doping Source 被引量:1
10
作者 许程 林笛 +3 位作者 牛继南 强颖怀 李大伟 陶春先 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2015年第8期169-172,共4页
A novel method for preparing Ta-doped Ti02 via using Ta2 05 as the doping source is proposed. The preparation process combines the hydrothernlal fluorination of Ta2O5 and the subsequent formation of Ta-doped TiO2 sol.... A novel method for preparing Ta-doped Ti02 via using Ta2 05 as the doping source is proposed. The preparation process combines the hydrothernlal fluorination of Ta2O5 and the subsequent formation of Ta-doped TiO2 sol. The results show that the doped sample annealed at 393 K generates an unstable intermediate NH4 TiOF3, which converts into anatase TiO2 with the increase of temperature. After annealing at ≥673K, the Ta-doped TiO2 nanocrystals with the grain size 〈20nm are obtained. Both the XRD and TG-DSC results confirm that Ta doping prevents the anatase-rutile crystal transition of TiO2. The band gap values of the doped samples, as obtained by UV-vis diffuse reflectance spectra, are smaller than that of pure anatase TiO2. The first-principle pseudopotential method calculations indicate that Ta5+ lies in the TiO2 lattice at the interstitial position. 展开更多
关键词 TiO TA Preparation of Ta-Doped TiO2 Using ta2o5 as the Doping Source Figure XRD DSC
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X—射线荧光光谱法测定锂铌钽矿选矿试样中Nb2O5和Ta2O5 被引量:5
11
作者 丁雪心 《地质实验室》 1996年第1期17-18,共2页
关键词 锂矿 铌矿 钽矿 选矿试样 NB2o5 ta2o5
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低密度Ta2O5气凝胶的制备
12
作者 任洪波 《中国工程物理研究院科技年报》 2006年第1期496-497,共2页
气凝胶是ICF(惯性约束聚变)实验中一种理想的候选靶材料,具有许多奇异的特性,如孔洞率高(99.8%)、比表面积大、密度低(最低为1mg/cm^3)、量子尺寸效应和表面界面效应、宏观均匀性好和掺杂吸附能力强等。这使气凝胶在ICF实验... 气凝胶是ICF(惯性约束聚变)实验中一种理想的候选靶材料,具有许多奇异的特性,如孔洞率高(99.8%)、比表面积大、密度低(最低为1mg/cm^3)、量子尺寸效应和表面界面效应、宏观均匀性好和掺杂吸附能力强等。这使气凝胶在ICF实验中有许多应用,如靶物理的研究、高效泵浦激光的形成、激光传输和光束质量的提高等。由于Ta2O5具较高的马赫数和光学厚度,在辐射输运实验中具有重要的应用前景。以其为基本骨架的Ta2O5气凝胶由于具有较高的光学不透明度,在ICF模拟中具有重要的用途。对高光学厚度填充材料的辐射输运过程进行研究,有利于了解该过程的物理机制。 展开更多
关键词 ta2o5 气凝胶 低密度 ICF实验 制备 惯性约束聚变 量子尺寸效应 光学厚度
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Ta_2O5/MnO_2复合湿敏薄膜制备工艺研究
13
作者 殷景华 桂太龙 +1 位作者 李伟东 段智勇 《哈尔滨理工大学学报》 CAS 2002年第6期68-69,共2页
采用钽片阳极氧化和硝酸锰热分解方法,制备Ta_2O_5/MnO_2复合薄膜,研究了电解液种 类、浓度(质量分数)、电压对Ta_2O_5/MnO_2复合薄膜绝缘性能的影响.
关键词 湿敏薄膜 制备工艺 ta2o5 MNO2 复合薄膜 氧化钽 二氧化锰 薄膜电容式湿度传感器
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核壳结构Ta2O5@Ta3N5纳米花控制合成工艺研究
14
作者 董鑫 《材料科学》 CAS 2023年第4期253-260,共8页
以TaCl5为钽源,采用水热–高温氮化法合成核壳结构Ta2O5@Ta3N5纳米花。首先,利用场发射扫描电子显微镜(SEM)测试评价样品形貌,研究溶剂种类、异丙醇用量、盐酸用量、水热时间等条件因素对样品形貌调控规律;异丙醇溶剂有利于促进棒状结... 以TaCl5为钽源,采用水热–高温氮化法合成核壳结构Ta2O5@Ta3N5纳米花。首先,利用场发射扫描电子显微镜(SEM)测试评价样品形貌,研究溶剂种类、异丙醇用量、盐酸用量、水热时间等条件因素对样品形貌调控规律;异丙醇溶剂有利于促进棒状结构生成,当异丙醇用量为14 mL,浓盐酸用量为400 µL,经160℃水热4 h制得Ta2O5纳米花,组成纳米花的棒状结构直径约50 nm,长约200 nm。再利用高温氮化技术,在50 mL∙min−1 NH3气流下,经850℃氮化3 h,Ta2O5纳米花经拓扑转换制得核壳结构Ta2O5@Ta3N5纳米花。XRD分析证实样品具有Ta2O5和Ta3N5双相结构,晶化度较高;HRTEM分析表明样品形成Ta2O5/Ta3N5;BET比表面积为21.9 m2∙g−1。本文为进一步开展Ta2O5@Ta3N5基纳米材料的制备及应用性能研究奠定实验技术基础。 展开更多
关键词 纳米花 棒状结构 ta2o5 核壳结构 水热时间 高温氮化 测试评价 盐酸用量
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TiN基IrO_2+Ta_2O_5涂层电催化性能研究 被引量:15
15
作者 姜俊峰 徐海波 +3 位作者 王廷勇 王佳 许立坤 成光 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期344-348,共5页
采用热分解法制备了一种以离子镀TiN膜为基体的IrO2+Ta2O5涂层电极,通过极化曲线、循环伏安、电化学阻抗谱等电化学方法并结合扫描电镜、X射线能谱和X射线衍射研究了涂层的析氧电催化活性,并对460℃制备的涂层进行强化寿命实验。结果表... 采用热分解法制备了一种以离子镀TiN膜为基体的IrO2+Ta2O5涂层电极,通过极化曲线、循环伏安、电化学阻抗谱等电化学方法并结合扫描电镜、X射线能谱和X射线衍射研究了涂层的析氧电催化活性,并对460℃制备的涂层进行强化寿命实验。结果表明:涂层呈多孔、多裂纹的显微结构和多层电化学结构;制备温度对涂层表面形貌和电催化活性影响很大;该涂层阳极在保持了高电催化活性的同时,其使用寿命高于传统Ti基阳极,说明TiN作为此类催化电极的载体是可行的。 展开更多
关键词 TIN IrO2 ta2o5 电催化 氧化物阳极
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添加纳米IrO_2的新型涂层IrO_2-Ta_2O_5钛阳极的制备及性能 被引量:14
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作者 白少金 魏宗平 +2 位作者 王欣 邵艳群 唐电 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第3期669-674,共6页
以纳米IrO2晶粒部分取代H2IrCl6分散于前躯体溶液中,以此改进工艺制备一种Ir和Ta的摩尔比为7-3的IrO2-Ta2O5涂层钛阳极,通过XRD和SEM分析所制备钛阳极表面涂层的物相组成和形貌特征,采用析O2极化曲线、循环伏安和强化寿命测试方法分别... 以纳米IrO2晶粒部分取代H2IrCl6分散于前躯体溶液中,以此改进工艺制备一种Ir和Ta的摩尔比为7-3的IrO2-Ta2O5涂层钛阳极,通过XRD和SEM分析所制备钛阳极表面涂层的物相组成和形貌特征,采用析O2极化曲线、循环伏安和强化寿命测试方法分别研究电极的电催化性能与稳定性。结果表明:在纳米种子嵌入电极涂层中存在的物相分别为IrO2基固溶体(Ir,Ta)O2和IrO2;与采用传统方法制备的电极相比,含纳米种子嵌入结构涂层的钛阳极具有更优越的电催化活性和耐蚀性。 展开更多
关键词 IrO2 ta2o5 钛阳极 纳米种子 电催化性能
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基于TaCl_5的Ta_2O_5气凝胶制备工艺 被引量:13
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作者 任洪波 王鲜 +3 位作者 张林 张勇 毕于铁 万小波 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期87-90,共4页
主要介绍了以TaCl5为前驱体,低分子醇类为溶剂,分别采用环氧丙烷和环氧氯丙烷作为凝胶促进剂制备Ta2O5湿凝胶,湿凝胶经过CO2超临界干燥而获得白色Ta2O5气凝胶。透射电镜图谱表明气凝胶是由粒度为10~20nm的颗粒堆积而成。N2等温吸附... 主要介绍了以TaCl5为前驱体,低分子醇类为溶剂,分别采用环氧丙烷和环氧氯丙烷作为凝胶促进剂制备Ta2O5湿凝胶,湿凝胶经过CO2超临界干燥而获得白色Ta2O5气凝胶。透射电镜图谱表明气凝胶是由粒度为10~20nm的颗粒堆积而成。N2等温吸附一脱附分析表明,气凝胶的比表面积为800~900m^2/g。 展开更多
关键词 ICF ta2o5 气凝胶 凝胶促进剂
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多脉冲激光作用下光学薄膜损伤的累积效应 被引量:11
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作者 王涛 赵元安 +3 位作者 黄建兵 贺洪波 邵建达 范正修 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期859-862,共4页
研究了高反射膜在多脉冲激光作用下损伤的累积效应·实验中使用1064nm调Q的Nd∶YAG激光器,脉宽是12ns,频率为10Hz·实验发现:高反射膜的损伤阈值随辐照脉冲数增加而降低,表现出明显的累积效应·通过对损伤阈值和损伤概率以... 研究了高反射膜在多脉冲激光作用下损伤的累积效应·实验中使用1064nm调Q的Nd∶YAG激光器,脉宽是12ns,频率为10Hz·实验发现:高反射膜的损伤阈值随辐照脉冲数增加而降低,表现出明显的累积效应·通过对损伤阈值和损伤概率以及辐照次数的统计性研究,并结合单脉冲辐照的结果,说明了存在于薄膜中微小的缺陷参与了多脉冲激光对薄膜的损伤过程,得到了制备IBS高反射膜的损伤阈值和照射次数的关系式,用Nomarski偏光显微镜观察了实验过程中样品的损伤形貌,发现是典型的缺陷损伤· 展开更多
关键词 ta2o5/SiO2介质反射膜 累积效应 单脉冲 多脉冲 损伤阈值
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重复率激光作用下光学薄膜损伤的累积效应 被引量:11
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作者 王涛 赵元安 +3 位作者 黄建兵 贺洪波 劭建达 范正修 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第B04期171-174,共4页
使用脉宽12 ns,频率10 Hz的1064 nm调Q Nd:YAG激光器,研究了高反射膜在重复率激光作用下的损伤的累积效应。实验发现,高反射膜的损伤阈值随辐照脉冲数增加而降低,表现出明显的累积效应。通过对损伤阈值和损伤概率以及辐照次数的统计性研... 使用脉宽12 ns,频率10 Hz的1064 nm调Q Nd:YAG激光器,研究了高反射膜在重复率激光作用下的损伤的累积效应。实验发现,高反射膜的损伤阈值随辐照脉冲数增加而降低,表现出明显的累积效应。通过对损伤阈值和损伤概率以及辐照次数的统计性研究,并结合单脉冲辐照的结果,说明了存在于薄膜中微小的缺陷参与了多脉冲激光对薄膜的损伤过程。可用预损伤机制解释实验结果。得到了关于IBS制备的高反射膜的损伤阈值和照射次数的关系式,并用实验结果进行验证,发现具有很好的一致性。实验过程中样品的损伤形貌通过Nomarski偏光显微镜进行了观察,发现是典型的缺陷损伤。 展开更多
关键词 ta2o5/SiO2介质反射膜 累积效应 重复率 缺陷
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离子束溅射氧化钽薄膜的光学带隙特性 被引量:7
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作者 刘华松 杨霄 +3 位作者 王利栓 姜玉刚 季一勤 陈德应 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第1期21-27,共7页
Ta_2O_5薄膜是可见光到近红外波段中重要的高折射率薄膜材料之一。本文针对离子束溅射制备Ta_2O_5薄膜的光学带隙特性开展了实验研究工作,基于Cody-Lorentz模型表征了薄膜的光学带隙特性,重点针对薄膜的禁带宽度和Urbach带尾宽度与制备... Ta_2O_5薄膜是可见光到近红外波段中重要的高折射率薄膜材料之一。本文针对离子束溅射制备Ta_2O_5薄膜的光学带隙特性开展了实验研究工作,基于Cody-Lorentz模型表征了薄膜的光学带隙特性,重点针对薄膜的禁带宽度和Urbach带尾宽度与制备参数之间的相关性进行研究。研究结果表明:在置信概率95%以上时,对Ta_2O_5薄膜禁带宽度影响的制备参数,权重大小依次为氧气流量、基板温度、离子束电压;而对Ta_2O_5薄膜Urbach带尾宽度影响的制备参数,权重大小依次为基板温度和氧气流量。对于Ta_2O_5薄膜在超低损耗激光薄膜和高损伤阈值激光薄膜领域内应用,本文的研究结果给出了同步提高薄膜的禁带宽度和降低带尾宽度的重要工艺参数选择方法。 展开更多
关键词 ta2o5薄膜 禁带宽度 Urbach带尾宽度 制备参数 影响权重
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