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分离靶电弧离子镀制备TiN/TiAlN多层薄膜的微观结构和力学性能(英文) 被引量:13
1
作者 魏永强 李春伟 +2 位作者 巩春志 田修波 杨士勤 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第5期1068-1073,共6页
采用分离靶电弧离子镀制备TiN/TiAlN多层薄膜。为了减少大颗粒的不利影响,利用直线型磁过滤方法来减少低熔点铝靶产生的大颗粒。结果表明,没有过滤的钛靶和磁过滤的铝靶等离子体到达基体的输出量在相同的数量级,同时,采用该方法制备的... 采用分离靶电弧离子镀制备TiN/TiAlN多层薄膜。为了减少大颗粒的不利影响,利用直线型磁过滤方法来减少低熔点铝靶产生的大颗粒。结果表明,没有过滤的钛靶和磁过滤的铝靶等离子体到达基体的输出量在相同的数量级,同时,采用该方法制备的薄膜中的大颗粒数目是文献中报道的合金靶制备的薄膜大颗粒数目的1/10~1/3。Al元素的添加引起薄膜在(200)晶面的峰值降低,而在(111)和(220)晶面的峰值增强。TiN/TiAlN多层薄膜的最大硬度为HV2495,薄膜的硬度增强符合混合法则,结合力达75 N。 展开更多
关键词 电弧离子镀 tin/tialn薄膜 M2高速钢 大颗粒 硬度 双层调制
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TiN/TiAlN涂层的断裂韧性研究 被引量:10
2
作者 郑立允 王玉果 +2 位作者 赵立新 张京军 熊惟皓 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第A01期752-755,共4页
采用多弧离子镀技术在Ti(C,N)基和WC基金属陶瓷基体上沉积了TiN/TiAlN涂层,利用维氏硬度计对涂层进行压痕试验;通过测试压痕周围的裂纹长度和数目,用裂纹密度β来评价涂层的断裂韧性。结果表明,Ti(C,N)基金属陶瓷基体上TiN/TiAlN涂层的... 采用多弧离子镀技术在Ti(C,N)基和WC基金属陶瓷基体上沉积了TiN/TiAlN涂层,利用维氏硬度计对涂层进行压痕试验;通过测试压痕周围的裂纹长度和数目,用裂纹密度β来评价涂层的断裂韧性。结果表明,Ti(C,N)基金属陶瓷基体上TiN/TiAlN涂层的裂纹密度为4558,比WC基金属陶瓷基体上涂层的裂纹密度低。TiN/TiAlN涂层的压痕形貌中,涂层没有剥落,只有沿压痕应力角径向显微裂纹和压痕四周的侧向显微裂纹,不同基体其压痕裂纹特点也不同。Ti(C,N)基金属陶瓷基体上涂层的径向裂纹非常短,并有裂纹偏转现象,侧向裂纹很长。WC基金属陶瓷基体上涂层的径向裂纹很长,非常平直,侧向裂纹很短。 展开更多
关键词 金属陶瓷 多弧离子镀 tin/tialn涂层 压痕试验 断裂韧性
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调制周期对TiN/TiAlN多层薄膜微观结构和摩擦性能的影响 被引量:3
3
作者 魏永强 刘建伟 +1 位作者 文振华 蒋志强 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2014年第18期151-155,共5页
采用电弧离子镀方法制备了TiN/TiAlN多层薄膜,研究了调制周期对薄膜多层结构和摩擦磨损性能的影响。结果表明:在相同的沉积时间内,随调制周期的增加,多层薄膜的层数减少,每一层的厚度增加,层与层之间的区分更加清晰。摩擦磨损测试结果表... 采用电弧离子镀方法制备了TiN/TiAlN多层薄膜,研究了调制周期对薄膜多层结构和摩擦磨损性能的影响。结果表明:在相同的沉积时间内,随调制周期的增加,多层薄膜的层数减少,每一层的厚度增加,层与层之间的区分更加清晰。摩擦磨损测试结果表明:由于多层薄膜的调制结构,引起薄膜对磨层的变化,当多层薄膜的调制周期为54 nm时,多层薄膜的摩擦系数最小;当调制周期为112 nm时,多层薄膜的摩擦系数最高;当调制周期为164 nm时,多层薄膜的磨痕宽度最小。在摩擦磨损过程中,GCr15钢球的磨损面一直处于快速磨损阶段,对磨痕能谱线扫描结果发现磨屑的主要成分是Fe和FeOx。 展开更多
关键词 电弧离子镀 tin/tialn多层薄膜 调制周期 摩擦磨损
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多弧离子镀制备TiN/TiAlN多层薄膜表面形貌与成分研究 被引量:3
4
作者 张桂如 丁龙先 +1 位作者 张弛 王培芬 《真空》 CAS 2014年第6期32-35,共4页
采用多弧离子镀技术在高速钢基体上制备了TiN/TiAlN多层薄膜,用扫描电镜及能谱仪对膜层表面形貌和成分进行了观察与分析,结果表明:随钛靶电流的增大,小液滴的尺寸不仅增大,而且形状更不规则,而无液滴处的Al/Ti原子比呈递减规律;随基体... 采用多弧离子镀技术在高速钢基体上制备了TiN/TiAlN多层薄膜,用扫描电镜及能谱仪对膜层表面形貌和成分进行了观察与分析,结果表明:随钛靶电流的增大,小液滴的尺寸不仅增大,而且形状更不规则,而无液滴处的Al/Ti原子比呈递减规律;随基体偏压的降低,小液滴有减少的趋势,但这一趋势并不明显,而无液滴采集点的Al/Ti原子比也呈递减规律;基体偏压和钛靶电流对较大尺寸的液滴的影响不大。 展开更多
关键词 多弧离子镀 tin/tialn多层薄膜 表面形貌 成分分析
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多弧离子镀制备TiN/TiAlN多层薄膜性能研究 被引量:1
5
作者 马丽华 丁龙先 张弛 《真空》 CAS 2016年第6期66-69,共4页
采用多弧离子镀技术选取钛靶电流分别为60A、70A、80A和基体偏压分别为-240V、-300V、-360V在高速钢基体上制备Ti N/Ti Al N多层薄膜。使用划痕仪、显微硬度计、摩擦磨损试验机和马弗炉对膜层的膜基结合力、显微硬度、摩擦磨损性能和热... 采用多弧离子镀技术选取钛靶电流分别为60A、70A、80A和基体偏压分别为-240V、-300V、-360V在高速钢基体上制备Ti N/Ti Al N多层薄膜。使用划痕仪、显微硬度计、摩擦磨损试验机和马弗炉对膜层的膜基结合力、显微硬度、摩擦磨损性能和热震性能进行检测。结果表明:在钛靶电流为70A和基体偏压为-240V时膜基结合力最高,同时显微硬度也较高;在基体偏压为-300V的条件下,钛靶电流为70A时的摩擦系数最小,其耐磨性能良好;基体偏压为-240V时的抗热震性能良好。 展开更多
关键词 多弧离子镀 tin/tialn多层薄膜 性能
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钛合金表面电弧离子镀TiN/TiAlN多层复合涂层的组织及性能 被引量:7
6
作者 王宝云 李争显 +1 位作者 严鹏 杜继红 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第8期1407-1410,共4页
运用电弧离子镀技术,采用单独的钛、铝靶材,在TC4钛合金表面制备了TiN/TiAlN多层复合涂层,利用SEM、EDS对涂层微观组织进行了分析,并测试了涂层显微硬度和耐磨损性能。结果表明:多层复合涂层厚度约为2.5μm。经镀膜,试样表面粗糙度提高... 运用电弧离子镀技术,采用单独的钛、铝靶材,在TC4钛合金表面制备了TiN/TiAlN多层复合涂层,利用SEM、EDS对涂层微观组织进行了分析,并测试了涂层显微硬度和耐磨损性能。结果表明:多层复合涂层厚度约为2.5μm。经镀膜,试样表面粗糙度提高,Ra值为0.541μm。涂层表面Ti/Al原子比约为0.9。涂层表面显微硬度HV0.025为23.5GPa。由于涂层表面硬度高,且多层复合的微观结构使得涂层有优异的结合力与内聚力,使得复合涂层试样的磨损失重大大低于未处理的试样。 展开更多
关键词 钛合金 电弧离子镀 tin tialn 复合涂层 磨损
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钛合金表面电弧离子镀TiN/TiAlN多层复合涂层的组织及抗氧化性能研究 被引量:8
7
作者 王宝云 李争显 +2 位作者 严鹏 杜继红 姬寿长 《钛工业进展》 CAS 2008年第2期32-36,共5页
运用电弧离子镀技术,采用独立的钛、铝靶材,在钛合金表面制备了TiN/TiAlN多层复合涂层,利用SEM、EDS对涂层微观组织结构进行了分析,并在800℃条件下测试了涂层抗氧化性能。结果表明:多层复合涂层厚度约为2.5μm。经镀膜,试样表面粗糙度... 运用电弧离子镀技术,采用独立的钛、铝靶材,在钛合金表面制备了TiN/TiAlN多层复合涂层,利用SEM、EDS对涂层微观组织结构进行了分析,并在800℃条件下测试了涂层抗氧化性能。结果表明:多层复合涂层厚度约为2.5μm。经镀膜,试样表面粗糙度有升高的趋势,Ra值由初始0.049μm升高到0.541μm。涂层表面以TiAlN+TiN相为主,经氧化后,涂层最表层的氮化物已发生分解,并生成了Al,Ti的氧化物,在高温时阻碍了氧向涂层内部扩散,使得涂层内部仍具有TiN和TiAlN的相结构。复合涂层经800℃,19 h空气氧化后,涂层表面仍保持完整,氧化增重率低于无涂层样品。氧化19 h后涂层增重率约为0.2 mg/cm2.h。 展开更多
关键词 电弧离子镀 tin tialn:复合涂层 抗氧化
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电弧离子镀TiN/TiAlN复合涂层摩擦磨损性能研究 被引量:8
8
作者 李志强 曾燮榕 +2 位作者 韩培刚 熊信柏 刘强 《深圳大学学报(理工版)》 EI CAS 北大核心 2008年第1期103-106,共4页
利用阴极电弧离子镀技术,在硬质合金基体上制得5层和20层TiN/TiAlN复合涂层.研究表明,这两种涂层均为典型的B1-NaCl面心立方结构,且均呈(200)择优取向.两种涂层表面光滑平整,粗糙度分别为0.32和0.11,硬度为1 470HV和2 000HV.20层复合涂... 利用阴极电弧离子镀技术,在硬质合金基体上制得5层和20层TiN/TiAlN复合涂层.研究表明,这两种涂层均为典型的B1-NaCl面心立方结构,且均呈(200)择优取向.两种涂层表面光滑平整,粗糙度分别为0.32和0.11,硬度为1 470HV和2 000HV.20层复合涂层的摩擦系数和比磨损率低于5层,表明增加复合层数有利于提高涂层的耐磨损性能,涂层的磨损机理为磨粒磨损. 展开更多
关键词 电弧离子镀 tin/tialn复合涂层 摩擦磨损性能
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脉冲偏压幅值对TiN/TiAlN多层薄膜微观结构和性能的影响 被引量:3
9
作者 魏永强 田修波 +1 位作者 巩春志 杨士勤 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第6期630-636,共7页
采用电弧离子镀的方法,通过改变脉冲偏压幅值在M2高速钢表面制备了TiN/TiAlN多层薄膜,研究了脉冲电压幅值TiN/TiAlN多层薄膜微观结构和性能的变化。随着脉冲偏压幅值的增加,薄膜表面的大颗粒数目明显减少。EDX结果表明,脉冲偏压幅值的... 采用电弧离子镀的方法,通过改变脉冲偏压幅值在M2高速钢表面制备了TiN/TiAlN多层薄膜,研究了脉冲电压幅值TiN/TiAlN多层薄膜微观结构和性能的变化。随着脉冲偏压幅值的增加,薄膜表面的大颗粒数目明显减少。EDX结果表明,脉冲偏压幅值的增加还引起Al/Ti原子比的降低。TiN/TiAlN多层薄膜主要以(111)晶面为择优取向生长,随着脉冲偏压幅值的增加,峰值强度逐渐增强,晶粒尺寸在8 nm~14 nm。制备的TiN/TiAlN多层薄膜的硬度都超过36 GPa,是M2高速钢基体硬度的3.9倍以上,膜基结合力均达到60 N以上。摩擦磨损测试结果表明,TiN/TiAlN多层薄膜具有良好的抗磨损性能。 展开更多
关键词 材料表面与界面 tin/tialn多层薄膜 电弧离子镀 硬度 微观结构 摩擦性能
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TiN/TiAlN涂层Ti(C,N)基金属陶瓷刀具的切削性能 被引量:8
10
作者 赵立新 郑立允 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 2009年第2期18-20,共3页
采用多弧离子镀技术在Ti(C,N)基金属陶瓷基体上沉积了TiN/TiAlN多层涂层,通过扫描电镜、涂层附着力自动划痕仪对其显微组织形貌和涂层的结合强度进行了分析,并对涂层和未涂层金属陶瓷铣刀以及硬质合金铣刀进行了切削0Cr18Ni9钢的试验。... 采用多弧离子镀技术在Ti(C,N)基金属陶瓷基体上沉积了TiN/TiAlN多层涂层,通过扫描电镜、涂层附着力自动划痕仪对其显微组织形貌和涂层的结合强度进行了分析,并对涂层和未涂层金属陶瓷铣刀以及硬质合金铣刀进行了切削0Cr18Ni9钢的试验。结果表明,多弧离子镀TiN/TiAlN涂层均匀,TiN/TiAlN多层涂层与金属陶瓷之间的结合强度高达57.52N。TiN/TiAlN涂层金属陶瓷的切削性能明显优于未涂层金属陶瓷和硬质合金YW2,其平均寿命为硬质合金刀具的2倍。TiN/TiAlN涂层金属陶瓷刀具的失效形式主要是磨损和崩刃,没有涂层剥落现象,TiN/TiAlN涂层与基体的结合强度很好。未涂层金属陶瓷刀具的磨损形式主要是磨损和粘着。 展开更多
关键词 金属陶瓷 tin/tialn涂层 刀具 切削性能 多弧离子镀
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多弧离子镀TiN、TiAlN膜层性能的研究 被引量:6
11
作者 刘海波 王明明 +2 位作者 张镜斌 刘洲超 魏刚 《热加工工艺》 北大核心 2020年第4期85-87,共3页
采用多弧离子镀技术,在20CrMnSi钢基体上沉积了TiN、TiAlN膜层。使用球坑仪、显微硬度计、划痕仪、磨损实验机和盐雾箱对膜层的厚度、显微硬度、结合力、磨损性能和耐盐雾腐蚀性能进行检测。结果表明:随膜层厚度的增大,两种膜层的硬度... 采用多弧离子镀技术,在20CrMnSi钢基体上沉积了TiN、TiAlN膜层。使用球坑仪、显微硬度计、划痕仪、磨损实验机和盐雾箱对膜层的厚度、显微硬度、结合力、磨损性能和耐盐雾腐蚀性能进行检测。结果表明:随膜层厚度的增大,两种膜层的硬度和耐盐雾腐蚀性升高,结合力降低,耐磨性先升高后降低,且在膜层厚度为9μm时耐磨性最高。二者相比,TiAlN膜层优于TiN膜层。 展开更多
关键词 多弧离子镀 tin/tialn薄膜 性能
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牙科合金表面涂镀TiN/TiAlN薄膜的研究进展 被引量:3
12
作者 郑彤 王霄 《现代口腔医学杂志》 CAS CSCD 2016年第5期303-308,共6页
合金材料因具有良好的机械性能、可铸造性能、价格适中等优点,在金属修复体及牙科切削工具中应用广泛。然而口腔复杂生理环境对合金材料的耐腐蚀性、机械性能和生物性能提出了更高的要求。硬质薄膜Ti N尤其是Ti Al N作为新兴的合金表面... 合金材料因具有良好的机械性能、可铸造性能、价格适中等优点,在金属修复体及牙科切削工具中应用广泛。然而口腔复杂生理环境对合金材料的耐腐蚀性、机械性能和生物性能提出了更高的要求。硬质薄膜Ti N尤其是Ti Al N作为新兴的合金表面处理方法之一,在提高牙科合金机械和生物性能方面有积极作用。本文旨在对牙科合金细胞毒性、合金表面涂镀硬质薄膜的机械及生物性能做一综述。 展开更多
关键词 牙科合金 tin/tialn 硬质薄膜 钴铬合金 生物性能 涂镀 氮化钛薄膜 薄膜硬度 耐腐蚀性 生理环境
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TiN和TiAlN涂层硬质合金的氧化和切削性能 被引量:23
13
作者 徐银超 陈康华 +3 位作者 王社权 祝昌军 谢灿强 陈响明 《粉末冶金材料科学与工程》 EI 2011年第3期425-430,共6页
采用阴极弧蒸发涂层工艺在硬质合金基体上分别沉积TiN和TiAlN涂层。利用XRD、SEM和显微硬度计分析2种涂层硬质合金氧化前后的物相组成、组织形貌和显微硬度,并对2种涂层硬质合金刀片进行切削性能测试。研究结果表明:2种涂层硬质合金在... 采用阴极弧蒸发涂层工艺在硬质合金基体上分别沉积TiN和TiAlN涂层。利用XRD、SEM和显微硬度计分析2种涂层硬质合金氧化前后的物相组成、组织形貌和显微硬度,并对2种涂层硬质合金刀片进行切削性能测试。研究结果表明:2种涂层硬质合金在不同温度氧化一定时间后出现边缘开裂,基体氧化物鼓出。TiAlN涂层硬质合金抗氧化性能优于TiN涂层硬质合金。2种涂层硬质合金的显微硬度随着氧化时间增加而减小。由于TiAlN涂层硬质合金具有良好的抗氧化性,所以随着切削速度提高,表现出更好的切削性能。 展开更多
关键词 tin tialn 涂层硬质合金 氧化 切削性能
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基体负偏压对TiAlN/TiN膜层组织成分及硬度的影响 被引量:9
14
作者 卢龙 蒋涛 严铿 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2009年第24期78-80,83,共4页
采用多弧离子镀技术在40Cr基体上制备TiAlN/TiN复合膜层;利用金相显微镜、扫描电子显微镜和显微硬度仪研究基体负偏压对膜层硬度的影响。结果表明:基体负偏压对膜层性能有显著影响,过高或过低的基体偏压会使得膜层表面不平整,表面显微... 采用多弧离子镀技术在40Cr基体上制备TiAlN/TiN复合膜层;利用金相显微镜、扫描电子显微镜和显微硬度仪研究基体负偏压对膜层硬度的影响。结果表明:基体负偏压对膜层性能有显著影响,过高或过低的基体偏压会使得膜层表面不平整,表面显微硬度降低。基体负偏压越高,膜层中Ti、Al原子的含量就越低。 展开更多
关键词 多弧离子镀 tialn tin
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靶电流对TiAlN/TiN复合膜组织及硬度的影响 被引量:5
15
作者 卢龙 任明皓 +1 位作者 蒋涛 严铿 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2010年第22期120-122,共3页
采用多弧离子镀技术在40Cr基体上制备TiAlN/TiN复合膜层,通过金相显微镜、扫描电镜和显微硬度仪研究靶电流对膜层表面形貌、沉积率及硬度的影响。结果表明:靶材电流对膜层组织和硬度有显著影响,电流越高膜层表面越不平整,显微硬度随靶... 采用多弧离子镀技术在40Cr基体上制备TiAlN/TiN复合膜层,通过金相显微镜、扫描电镜和显微硬度仪研究靶电流对膜层表面形貌、沉积率及硬度的影响。结果表明:靶材电流对膜层组织和硬度有显著影响,电流越高膜层表面越不平整,显微硬度随靶材电流的升高先上升后降低。靶电流越高,膜层中Ti、Al原子的含量就越高。 展开更多
关键词 多弧离子镀 tialn tin 靶电流
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Deposition of TiN/TiAlN multilayers by plasma-activated EB-PVD:tailored microstructure by jumping beam technology 被引量:5
16
作者 Guo-Yuan Yang Hui Peng +1 位作者 Hong-Bo Guo Sheng-Kai Gong 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第8期651-658,共8页
Plasma-activated electron beam-physical vapor deposition(EB-PVD)was used for depositing nitride multilayer coatings in this work.Different from the conventional coating methods,the multilayers were obtained by manip... Plasma-activated electron beam-physical vapor deposition(EB-PVD)was used for depositing nitride multilayer coatings in this work.Different from the conventional coating methods,the multilayers were obtained by manipulating electron beam(EB)to jump between two different evaporation sources alternately with variable frequencies(jumping beam technology).The plasma activation was generated by a hollow cathode plasma unit.The deposition process was demonstrated by means of tailoring TiN/TiAlN multilayers with different modulation periods(M1:26.5 nm,M2:80.0 nm,M3:6.0 nm,M4:4.0 nm).The microstructure and hardness of the multilayer coatings were comparatively studied with TiN and TiAlN singlelayer coatings.The columnar structure of the coatings(TiN,TiAlN,M1,M2)is replaced by a glassy-like microstructure when the modulation period decreases to less than 10 nm(M3,M4).Simultaneously,superlattice growth occurs.With the decrease of modulation period,both the hardness and the plastic deformation resistance(H^3/E^2,H-hardness and E-elastic modulus)increase.M4coating exhibits the maximum hardness of(49.6±2.7)GPa and the maximum plastic deformation resistance of^0.74 GPa. 展开更多
关键词 Nano-multilayer coatings SUPERLATTICE Plasmaactivation tin/tialn EB-PVD HARDNESS
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脉冲偏压对TiAlN/TiN多层膜生长及熔滴的影响 被引量:4
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作者 宫永辉 毛延发 +3 位作者 唐卫国 刘金良 冯博学 韩培刚 《深圳大学学报(理工版)》 EI CAS 北大核心 2007年第4期410-413,共4页
针对直流脉冲负偏压对PVD涂层形成过程和熔滴造成很大影响的问题,通过施加脉冲偏压有利于实现低温沉积.研究发现,沉积速率随直流脉冲负偏压峰值的提高先升高后降低,在-300V偏压时沉积速率最大;熔滴密度和直径随脉冲负偏压峰值的提高递减... 针对直流脉冲负偏压对PVD涂层形成过程和熔滴造成很大影响的问题,通过施加脉冲偏压有利于实现低温沉积.研究发现,沉积速率随直流脉冲负偏压峰值的提高先升高后降低,在-300V偏压时沉积速率最大;熔滴密度和直径随脉冲负偏压峰值的提高递减;随偏压升高,加大了元素溅射产额的差异,使涂层中铝元素和钛元素的含量发生变化. 展开更多
关键词 脉冲偏压 tialn/tin 生长过程 熔滴 多弧离子镀
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电弧离子镀TiN TiAlN薄膜的制备及高温退火研究 被引量:5
18
作者 陈光华 杨今漫 +1 位作者 谢二庆 北京工业大学应用物理系 《兰州大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 1998年第3期44-47,共4页
利用电弧离子镀技术在不锈钢衬底上沉积了TiN,TiAlN薄膜,并对两种样品分别在大气环境下进行了高温退火.退火前后都做了X射线衍射(XRD)谱及硬度测量,发现退火后TiAlN薄膜表面出现Al2O3层,该层的出现使Ti... 利用电弧离子镀技术在不锈钢衬底上沉积了TiN,TiAlN薄膜,并对两种样品分别在大气环境下进行了高温退火.退火前后都做了X射线衍射(XRD)谱及硬度测量,发现退火后TiAlN薄膜表面出现Al2O3层,该层的出现使TiAlN薄膜的高温特性大大好于TiN涂层,在机械工业中将会有广泛的应用前景. 展开更多
关键词 电弧离子镀 tialn 氮化钛 薄膜
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TiAlN/TiN减摩耐磨涂层试验研究 被引量:1
19
作者 李晋珩 周兰英 +1 位作者 庞思勤 胡纪滨 《兵工学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第5期597-601,共5页
用多弧离子镀法在旋转密封环表面沉积TiAlN/TiN复合涂层。并用扫描电镜,X射线衍射仪和显微硬度计研究膜层性能。测试结果表明:TiAlN/TiN复合涂层的主要相TiN,以(111)晶面生长;表面粗糙度为0.48μm;膜基结合力为40 N;显微硬度为HV=2035;T... 用多弧离子镀法在旋转密封环表面沉积TiAlN/TiN复合涂层。并用扫描电镜,X射线衍射仪和显微硬度计研究膜层性能。测试结果表明:TiAlN/TiN复合涂层的主要相TiN,以(111)晶面生长;表面粗糙度为0.48μm;膜基结合力为40 N;显微硬度为HV=2035;TiAlN/TiN复合涂层密封环实际工况的摩擦因数为0.37,平均磨损率为7.96×10-10m3/h. 展开更多
关键词 机械制造工艺与设备 摩擦磨损 旋转密封 tialn/tin复合涂层
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电弧离子镀TiN和TiAlN薄膜的机械性能研究 被引量:1
20
作者 谢婷婷 肖若领 +1 位作者 徐焱良 康剑莉 《温州职业技术学院学报》 2015年第1期55-58,共4页
采用电弧离子镀在高速钢表面沉积TiN和TiAlN薄膜,并比较两种薄膜的机械性能。为模拟实际生产情况,利用对外开展技术服务的机会,沉积薄膜同时在真空腔室内放置近1000支冲棒。基材高速钢经镀2.0μm TiN和1.8μm TiAlN薄膜后硬度分别提高至... 采用电弧离子镀在高速钢表面沉积TiN和TiAlN薄膜,并比较两种薄膜的机械性能。为模拟实际生产情况,利用对外开展技术服务的机会,沉积薄膜同时在真空腔室内放置近1000支冲棒。基材高速钢经镀2.0μm TiN和1.8μm TiAlN薄膜后硬度分别提高至2 661HK、3 570HK左右。由于Al原子的固溶强化作用,镀TiAlN薄膜硬度提高比TiN薄膜更为显著。TiAlN薄膜与基材的结合力明显低于TiN薄膜,适用于受力较小的工作条件,这可能是由于薄膜塑性较差及内应力较大共同影响所致。 展开更多
关键词 电弧离子镀 tin tialn 薄膜 沉积 硬度 结合力
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