期刊文献+
共找到8篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
电弧离子镀TiN TiAlN薄膜的制备及高温退火研究 被引量:5
1
作者 陈光华 杨今漫 +1 位作者 谢二庆 北京工业大学应用物理系 《兰州大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 1998年第3期44-47,共4页
利用电弧离子镀技术在不锈钢衬底上沉积了TiN,TiAlN薄膜,并对两种样品分别在大气环境下进行了高温退火.退火前后都做了X射线衍射(XRD)谱及硬度测量,发现退火后TiAlN薄膜表面出现Al2O3层,该层的出现使Ti... 利用电弧离子镀技术在不锈钢衬底上沉积了TiN,TiAlN薄膜,并对两种样品分别在大气环境下进行了高温退火.退火前后都做了X射线衍射(XRD)谱及硬度测量,发现退火后TiAlN薄膜表面出现Al2O3层,该层的出现使TiAlN薄膜的高温特性大大好于TiN涂层,在机械工业中将会有广泛的应用前景. 展开更多
关键词 电弧离子镀 tialn 氮化钛 薄膜
下载PDF
TiAlN/TiN纳米多层膜的微结构与力学性能 被引量:7
2
作者 胡春华 董学超 +2 位作者 李淼磊 黄小忠 岳建岭 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第7期807-812,共6页
采用多靶反应磁控溅射制备了一系列TiAlN层厚固定,TiN层厚在一定范围内连续变化的不同调制结构的TiAlN/TiN纳米多层膜,并使用X射线衍射分析、扫描电子显微镜、纳米压痕仪和CETR-UMT-3型多功能摩擦磨损试验机对多层膜的微观结构和力学性... 采用多靶反应磁控溅射制备了一系列TiAlN层厚固定,TiN层厚在一定范围内连续变化的不同调制结构的TiAlN/TiN纳米多层膜,并使用X射线衍射分析、扫描电子显微镜、纳米压痕仪和CETR-UMT-3型多功能摩擦磨损试验机对多层膜的微观结构和力学性能进行了表征和分析。研究结果表明:TiAlN/TiN纳米多层膜形成了周期性良好的成分调制结构,其中TiN层的插入并没有打断TiAlN层的柱状晶生长。在一定的调制周期下,TiN层和TiAlN层能够形成共格外延生长结构,多层膜呈现硬度异常升高的超硬效应,当TiN层厚约为1.6 nm时多层膜的硬度达到最大值50 GPa,并具有相比于TiAlN单层膜更低的摩擦系数。进一步增加TiN层厚,由于多层膜共格界面结构的破坏,多层膜的硬度随之降低。 展开更多
关键词 反应磁控溅射 tialn/tin纳米多层膜 调制结构 超硬效应
下载PDF
多弧离子镀TiN、TiAlN膜层性能的研究 被引量:6
3
作者 刘海波 王明明 +2 位作者 张镜斌 刘洲超 魏刚 《热加工工艺》 北大核心 2020年第4期85-87,共3页
采用多弧离子镀技术,在20CrMnSi钢基体上沉积了TiN、TiAlN膜层。使用球坑仪、显微硬度计、划痕仪、磨损实验机和盐雾箱对膜层的厚度、显微硬度、结合力、磨损性能和耐盐雾腐蚀性能进行检测。结果表明:随膜层厚度的增大,两种膜层的硬度... 采用多弧离子镀技术,在20CrMnSi钢基体上沉积了TiN、TiAlN膜层。使用球坑仪、显微硬度计、划痕仪、磨损实验机和盐雾箱对膜层的厚度、显微硬度、结合力、磨损性能和耐盐雾腐蚀性能进行检测。结果表明:随膜层厚度的增大,两种膜层的硬度和耐盐雾腐蚀性升高,结合力降低,耐磨性先升高后降低,且在膜层厚度为9μm时耐磨性最高。二者相比,TiAlN膜层优于TiN膜层。 展开更多
关键词 多弧离子镀 tin/tialn薄膜 性能
下载PDF
多弧离子镀制备TiN/TiAlN多层薄膜性能研究 被引量:1
4
作者 马丽华 丁龙先 张弛 《真空》 CAS 2016年第6期66-69,共4页
采用多弧离子镀技术选取钛靶电流分别为60A、70A、80A和基体偏压分别为-240V、-300V、-360V在高速钢基体上制备Ti N/Ti Al N多层薄膜。使用划痕仪、显微硬度计、摩擦磨损试验机和马弗炉对膜层的膜基结合力、显微硬度、摩擦磨损性能和热... 采用多弧离子镀技术选取钛靶电流分别为60A、70A、80A和基体偏压分别为-240V、-300V、-360V在高速钢基体上制备Ti N/Ti Al N多层薄膜。使用划痕仪、显微硬度计、摩擦磨损试验机和马弗炉对膜层的膜基结合力、显微硬度、摩擦磨损性能和热震性能进行检测。结果表明:在钛靶电流为70A和基体偏压为-240V时膜基结合力最高,同时显微硬度也较高;在基体偏压为-300V的条件下,钛靶电流为70A时的摩擦系数最小,其耐磨性能良好;基体偏压为-240V时的抗热震性能良好。 展开更多
关键词 多弧离子镀 tin/tialn多层薄膜 性能
下载PDF
复合工艺制备TiAlN薄膜及其高温抗氧化性能研究 被引量:5
5
作者 林小东 宋绪丁 傅高升 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第6期22-25,共4页
采用Ti靶电弧离子镀与Al靶中频磁控溅射相结合的复合工艺,通过调节Al靶电流,在不锈钢基体上制备了TiN薄膜和TiAlN薄膜样品,并在热处理炉内对薄膜进行高温抗氧化试验,分析了薄膜氧化前后的表面形貌、断口形貌及显微硬度。结果表明:TiAlN... 采用Ti靶电弧离子镀与Al靶中频磁控溅射相结合的复合工艺,通过调节Al靶电流,在不锈钢基体上制备了TiN薄膜和TiAlN薄膜样品,并在热处理炉内对薄膜进行高温抗氧化试验,分析了薄膜氧化前后的表面形貌、断口形貌及显微硬度。结果表明:TiAlN薄膜氧化前和氧化后的硬度均随着铝靶磁控溅射电流的增强、铝含量的提高而增加;TiAlN薄膜的高温稳定性明显优于TiN薄膜;TiAlN薄膜经800℃氧化后发生膨胀而变得疏松,内部发生了柱状晶化,致密性下降。 展开更多
关键词 tialn薄膜 tin薄膜 抗高温氧化性能 中频磁控溅射 电弧离子镀
下载PDF
电弧离子镀与中频磁控溅射复合制备TiAlN薄膜 被引量:3
6
作者 林小东 宋绪丁 傅高升 《中国表面工程》 CAS CSCD 2008年第4期40-44,共5页
采用Ti靶电弧离子镀与Al靶中频磁控溅射相结合的复合工艺,分别在单晶硅抛光面和高速钢抛光面两种基体上成功地制备了TiAlN薄膜样品。电子扫描电镜(SEM)、能谱和X射线衍射(XRD)分析结果表明:此复合工艺下制备的TiAlN薄膜比TiN薄膜表面液... 采用Ti靶电弧离子镀与Al靶中频磁控溅射相结合的复合工艺,分别在单晶硅抛光面和高速钢抛光面两种基体上成功地制备了TiAlN薄膜样品。电子扫描电镜(SEM)、能谱和X射线衍射(XRD)分析结果表明:此复合工艺下制备的TiAlN薄膜比TiN薄膜表面液滴尺寸更小,针状孔洞基本消除,组织更为致密均匀。TiAlN薄膜的含Al量为0.86%(原子百分比)左右,Ti与N的含量比(原子百分比)大致为1:1,Al原子的加入使TiN结晶结构发生畸变,晶格常数变小。TiAlN薄膜的硬度比TiN薄膜的硬度,提高30%左右。 展开更多
关键词 中频磁控溅射 电弧离子镀 tialn薄膜 tin薄膜
下载PDF
电弧离子镀与中频磁控溅射复合制备TiAlN薄膜的研究
7
作者 林小东 宋绪丁 傅高升 《特种铸造及有色合金》 CAS CSCD 北大核心 2008年第S1期274-277,共4页
采用Ti靶电弧离子镀与Al靶中频磁控溅射相结合的复合工艺,分别在单晶硅抛光面和高速钢抛光面两种基体上成功地制备了TiAlN薄膜样品。扫描电镜、能谱和X射线衍射分析结果表明,此复合工艺下制备的TiAlN薄膜比TiN薄膜表面液滴尺寸更小,针... 采用Ti靶电弧离子镀与Al靶中频磁控溅射相结合的复合工艺,分别在单晶硅抛光面和高速钢抛光面两种基体上成功地制备了TiAlN薄膜样品。扫描电镜、能谱和X射线衍射分析结果表明,此复合工艺下制备的TiAlN薄膜比TiN薄膜表面液滴尺寸更小,针状孔洞基本消除,组织更为致密均匀。TiAlN薄膜的Al含量(摩尔分数)为0.86%左右,x(Ti)%∶x(N)%约为1∶1,Al的加入使TiN结晶结构发生畸变,晶格常数变小。TiAlN薄膜的硬度比TiN薄膜的硬度有较大的提高,提高了30%左右。 展开更多
关键词 中频磁控溅射 电弧离子镀 tialn薄膜 tin薄膜
下载PDF
锆合金表面涂层耐高温高压动水腐蚀性能的研究 被引量:4
8
作者 杨振 樊湘芳 +4 位作者 邱长军 李涛 刘艳红 王晓婧 李怀林 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第9期204-210,共7页
目的提高锆合金在高温高压环境中耐动水腐蚀性能。方法利用多弧离子镀技术(MAIP)在Zr-4合金表面分别制备了Al2O3涂层和Cr/TiAlN复合涂层,利用磁控溅射技术(MS)在Zr-4合金表面制备了TiN涂层。通过堆外高压釜实验,对比研究了三种不同涂层... 目的提高锆合金在高温高压环境中耐动水腐蚀性能。方法利用多弧离子镀技术(MAIP)在Zr-4合金表面分别制备了Al2O3涂层和Cr/TiAlN复合涂层,利用磁控溅射技术(MS)在Zr-4合金表面制备了TiN涂层。通过堆外高压釜实验,对比研究了三种不同涂层的耐高温高压动水腐蚀性能,利用自动划痕仪检测膜基结合力,利用XRD分析涂层的物相成分,利用SEM观察涂层腐蚀前后的微观形貌,利用EDS对涂层元素种类与含量进行分析。结果多弧离子镀技术制备的Al2O3涂层和Cr/TiAlN涂层致密度较高,但表面存在少量大颗粒与微孔洞;磁控溅射技术制备的TiN涂层均匀平整,表面大颗粒较少。Al2O3涂层、TiN涂层和Cr/TiAlN涂层可承受的临界载荷分别为26、16、26.5N。在实验条件下,Cr/TiAlN涂层和TiN涂层表面均发生了剥落或腐蚀现象,且这两种试样表面均检测出大量的ZrO2,而Al2O3涂层几乎未被破坏,基体得到了充分防护。结论利用多弧离子镀技术在Zr-4合金表面制备的Al2O3涂层和Cr/TiAlN涂层的膜基结合力较高,利用磁控溅射技术制备的TiN涂层的膜基结合性能较差,其中Al2O3涂层具备良好的耐腐蚀性能,在高温高压动水腐蚀环境中能够有效地保护锆合金基体。 展开更多
关键词 ZR-4合金 AL2O3涂层 Cr/tialn涂层 tin涂层 膜基结合力 耐腐蚀性能
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部