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多弧离子镀靶电流对膜层形貌与性能的影响
被引量:
3
1
作者
张会霞
战宏伟
+1 位作者
冯光光
卢龙
《热加工工艺》
CSCD
北大核心
2012年第22期151-152,156,共3页
采用渗氮与多弧离子镀复合技术,在不同靶电流条件下制备Ti0.33Al0.67N膜层,分析靶电流对膜层形貌、膜层厚度、结合力及显微硬度等性能的影响。得出靶电流设计范围内存在一个最佳值,以获得膜层最优性能。
关键词
多弧离子镀
Ti0.33Al0.
67n
靶电流
下载PDF
职称材料
题名
多弧离子镀靶电流对膜层形貌与性能的影响
被引量:
3
1
作者
张会霞
战宏伟
冯光光
卢龙
机构
淮海工学院机械工程学院
绿源工程设计研究有限公司
江苏科技大学材料学院
出处
《热加工工艺》
CSCD
北大核心
2012年第22期151-152,156,共3页
基金
重庆大学机械传动国家重点实验室2009年度开放基金资助项目(SKLMT-KFKT-200907)
江苏省海洋资源开发研究院2011年度开放基金资助项目(JSIMR11C27)
文摘
采用渗氮与多弧离子镀复合技术,在不同靶电流条件下制备Ti0.33Al0.67N膜层,分析靶电流对膜层形貌、膜层厚度、结合力及显微硬度等性能的影响。得出靶电流设计范围内存在一个最佳值,以获得膜层最优性能。
关键词
多弧离子镀
Ti0.33Al0.
67n
靶电流
Keywords
multi-arc ion plating
tio.33alo.67n
target current
分类号
TG174 [金属学及工艺—金属表面处理]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
多弧离子镀靶电流对膜层形貌与性能的影响
张会霞
战宏伟
冯光光
卢龙
《热加工工艺》
CSCD
北大核心
2012
3
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