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多弧离子镀靶电流对膜层形貌与性能的影响 被引量:3
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作者 张会霞 战宏伟 +1 位作者 冯光光 卢龙 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2012年第22期151-152,156,共3页
采用渗氮与多弧离子镀复合技术,在不同靶电流条件下制备Ti0.33Al0.67N膜层,分析靶电流对膜层形貌、膜层厚度、结合力及显微硬度等性能的影响。得出靶电流设计范围内存在一个最佳值,以获得膜层最优性能。
关键词 多弧离子镀 Ti0.33Al0.67n 靶电流
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