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Effects of Methanol on Wettability of the Non-Smooth Surface on Butterfly Wing 被引量:19
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作者 Yan Fang Gang Sun +2 位作者 Qian Cong Guang-hua Chen Lu-quan Ren 《Journal of Bionic Engineering》 SCIE EI CSCD 2008年第2期127-133,共7页
The contact angles of distilled water and methanol solution on the wings of butterflies were determined by a visual contact angle measuring system. The scale structures of the wings were observed using scanning electr... The contact angles of distilled water and methanol solution on the wings of butterflies were determined by a visual contact angle measuring system. The scale structures of the wings were observed using scanning electron microscopy, The influence of the scale micro- and ultra-structure on the wettability was investigated. Results show that the contact angle of distilled water on the wing surfaces varies from 134.0° to 159.2°. High hydrophobicity is found in six species with contact angles greater than 150°. The wing surfaces of some species are not only hydrophobic but also resist the wetting by methanol solution with 55% concentration. Only two species in Parnassius can not resist the wetting because the micro-structure (spindle-like shape) and ultra-structure (pinnule-like shape) of the wing scales are remarkably different from that of other species. The concentration of methanol solution for the occurrence of spreading/wetting on the wing surfaces of different species varies from 70% to 95%. After wetting by methanol solution for 10 min, the distilled water contact angle on the wing surface increases by 0.8°-2.1°, showing the promotion of capacity against wetting by distilled water. 展开更多
关键词 non-smooth surface butterfly wing SCALE WETTABILITY micro/ultra-structure
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Li_2O-Al_2O_3-SiO_2微晶玻璃超光滑表面纳米硬度实验研究 被引量:1
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作者 向勇 任杰 +2 位作者 白满社 陈静 张晋宽 《纳米技术与精密工程》 CAS CSCD 2014年第2期147-150,共4页
介绍了纳米压痕技术的原理和方法.采用三角锥形Berkovich金刚石压头对Li2O-Al2O3-SiO2微晶玻璃的超光滑表面(Ra=0.079 nm)进行了纳米压痕实验.结果表明,当载荷低于300 mN时,微晶玻璃表现出延性特性.此外,在不同的载荷条件(20 mN^300 mN... 介绍了纳米压痕技术的原理和方法.采用三角锥形Berkovich金刚石压头对Li2O-Al2O3-SiO2微晶玻璃的超光滑表面(Ra=0.079 nm)进行了纳米压痕实验.结果表明,当载荷低于300 mN时,微晶玻璃表现出延性特性.此外,在不同的载荷条件(20 mN^300 mN)下微晶玻璃的硬度和弹性模量存在较大的差异,分析其原因分别是纳米压痕的尺寸效应和材料发生了塑形变形.通过将实验得到的微晶玻璃的纳米硬度值与传统计算方法得到的硬度值进行比较,发现传统方法得到的硬度值较大,其原因是传统硬度计算方法忽略了材料的弹性恢复. 展开更多
关键词 纳米压痕 纳米硬度 超光滑表面
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MS-6BC型精密双面抛光机的研制 被引量:7
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作者 张璟 胡刚翔 +2 位作者 马树林 李伟 叶怀储 《新技术新工艺》 2008年第2期35-37,共3页
光电子信息产业的快速发展,要求蓝宝石、单晶硅等材料高效率、超光滑表面加工,精密双面抛光加工是得到这些材料超光滑表面的主要加工方法之一。本文介绍了新研制的MS-6BC型精密双面抛光机,介绍了其结构及其特点,并论述了双面抛光加工的... 光电子信息产业的快速发展,要求蓝宝石、单晶硅等材料高效率、超光滑表面加工,精密双面抛光加工是得到这些材料超光滑表面的主要加工方法之一。本文介绍了新研制的MS-6BC型精密双面抛光机,介绍了其结构及其特点,并论述了双面抛光加工的主要工艺因素和过程。最后通过试验验证了MS-6BC型精密双面抛光机具有加工精度高,控制性能好的特点,适用于蓝宝石、单晶硅等人工晶片的超精密加工。 展开更多
关键词 双面抛光 光电子材料 超光滑表面
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空间引力波探测系统中超光滑光学元件表面散射特性分析 被引量:4
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作者 张耘豪 钟哲强 张彬 《光电工程》 CSCD 北大核心 2023年第11期86-96,共11页
在引力波探测系统中,超光滑光学元件表面散射特性对高精度引力波测量至关重要。本文针对超光滑光学元件,建立了一种能快速准确地分析和预测其表面散射特性的非傍轴标量散射模型Generalized Beckmann-Kirchhoff(GBK)。在此基础上,研究了... 在引力波探测系统中,超光滑光学元件表面散射特性对高精度引力波测量至关重要。本文针对超光滑光学元件,建立了一种能快速准确地分析和预测其表面散射特性的非傍轴标量散射模型Generalized Beckmann-Kirchhoff(GBK)。在此基础上,研究了入射角度、散射方位角对P偏振和S偏振入射光的角分辨散射分布的影响,以及入射角度、散射方位角、自相关长度、斜率、截止频率以及表面粗糙度等因素对不同表面统计分布特征下的角分辨散射分布的影响。研究结果可为引力波探测系统中超光滑光学元件的加工、系统杂散光的产生及抑制等提供参考。 展开更多
关键词 超光滑光学元件 表面散射模型 偏振散射特性 角分辨散射分布
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碳化硅晶片的超精密抛光工艺 被引量:1
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作者 甘琨 刘彦利 +1 位作者 史健玮 胡北辰 《电子工艺技术》 2023年第2期51-54,共4页
使用化学机械抛光(CMP)方法对碳化硅晶片进行了超精密抛光试验,探究了滴液速率、抛光头转速、抛光压力、抛光时长及晶片吸附方式等工艺参数对晶片表面粗糙度的影响,并对工艺参数进行了优化,最终得到了表面粗糙度低于0.1 nm的原子级光滑... 使用化学机械抛光(CMP)方法对碳化硅晶片进行了超精密抛光试验,探究了滴液速率、抛光头转速、抛光压力、抛光时长及晶片吸附方式等工艺参数对晶片表面粗糙度的影响,并对工艺参数进行了优化,最终得到了表面粗糙度低于0.1 nm的原子级光滑碳化硅晶片。 展开更多
关键词 碳化硅晶片 超精密抛光 表面粗糙度
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Mode transition from adsorption removal to bombardment removal induced by nanoparticle-surface collisions in fluid jet polishing 被引量:3
6
作者 Xuechu ZHAO Liran MA Xuefeng XU 《Friction》 SCIE EI CAS CSCD 2021年第5期1127-1137,共11页
The effects of impacting particles from a jet of liquid on the removal of a surface material(on the impacted workpiece)were investigated.Experimental observations show that the cross section of the material removed ch... The effects of impacting particles from a jet of liquid on the removal of a surface material(on the impacted workpiece)were investigated.Experimental observations show that the cross section of the material removed changed fromʹWʹ‐shaped toʹUʹ‐shaped as the size of abrasive particles was increased.Comparisons between removed material profiles and particle collision distributions indicate that the particle-surface collisions are the main reason for the material removal.The deduced number of atoms removed by a single collision implies that a transition occurs in the removal mode.For nanoscale particles,the polished surface is likely to be removed in an atom‐by‐atom manner,possibly due to the chemisorption of the impacting particles on the impacted surface.Contrarily,for the case of microscale particles,bulk material removal produced by particle bombardment is more likely to occur.The present mechanism of material removal for particle-surface collisions is further corroborated experimentally. 展开更多
关键词 ultrasmooth surface fluid jet polishing nanoparticle-surface collision material removal
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环境友好型防污涂料的研究进展
7
作者 李志高 韩旭 马少华 《涂料工业》 CAS CSCD 北大核心 2023年第9期36-41,52,共7页
防污涂料以其适用范围广泛、性价比高等特点是当前主流的防污方法。其中基于有机硅弹性体的污损脱附型涂层具有环境友好和性能稳定等优点,应用前景广阔,但机械性能差、静态防污性能不足限制了其应用。对此国内外科技工作者进行了大量改... 防污涂料以其适用范围广泛、性价比高等特点是当前主流的防污方法。其中基于有机硅弹性体的污损脱附型涂层具有环境友好和性能稳定等优点,应用前景广阔,但机械性能差、静态防污性能不足限制了其应用。对此国内外科技工作者进行了大量改性研究,包括共混/接枝两亲性添加剂、防污剂、自修复技术等,提高了有机硅涂层的综合性能。文中综述了几种环境友好型防污涂料包括以抗血栓为聚合物的无毒自更新防污涂料、仿生防污涂料和有机硅弹性体污损释放型防污涂料的研究现状及其优缺点,并对已经商业化产品进行了分析,结合仿生防污技术的灵感,为海洋防污涂层环境友好化提供了一些新的视野。 展开更多
关键词 海洋污损 环境友好型防污涂料 污损释放型 有机硅基涂层 超滑涂层 自更新表面 仿生防污
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超光滑表面抛光技术 被引量:29
8
作者 陈杨 陈建清 陈志刚 《江苏大学学报(自然科学版)》 EI CAS 2003年第5期55-59,共5页
超光滑表面抛光技术是超精密加工体系的一个重要组成部分,超光滑表面在国防和民用等领域都有着广泛的应用 文中介绍了超光滑表面的物理特征和应用,并根据抛光过程中工件与抛光盘之间的接触状态,将各种抛光方法分为直接接触、准接触和非... 超光滑表面抛光技术是超精密加工体系的一个重要组成部分,超光滑表面在国防和民用等领域都有着广泛的应用 文中介绍了超光滑表面的物理特征和应用,并根据抛光过程中工件与抛光盘之间的接触状态,将各种抛光方法分为直接接触、准接触和非接触3类,对每一种抛光方法作了总体的描述,详细地介绍了近年来发展的激光抛光技术和化学机械抛光技术及其超光滑表面抛光的加工机理。 展开更多
关键词 抛光 超光滑表面 机理 评价
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超光滑表面加工技术研究进展 被引量:16
9
作者 文东辉 周海锋 +1 位作者 徐钉 朴钟宇 《机电工程》 CAS 2015年第5期579-584,共6页
针对如何高效稳定地获得粗糙度值小、少无亚表面损伤、低成本的超光滑表面的问题,分析了原子级超光滑表面加工技术的加工原理,详细阐述了几类非接触式抛光方法的加工原理及国内外最新研究进展,并着重论述了声悬浮抛光和磨料水射流抛光... 针对如何高效稳定地获得粗糙度值小、少无亚表面损伤、低成本的超光滑表面的问题,分析了原子级超光滑表面加工技术的加工原理,详细阐述了几类非接触式抛光方法的加工原理及国内外最新研究进展,并着重论述了声悬浮抛光和磨料水射流抛光的研究现状。接着,在此基础上对这几类加工方法各方面的优缺点进行了对比总结。最后,针对目前超光滑表面加工技术存在的不足,指出了超光滑表面加工技术有待进一步研究的方向。研究结果表明,采用非接触式的抛光方法,对加工过程加以合理的控制,可大大降低工件表面粗糙度,改善亚表面的损伤情况;目前非接触式抛光普遍对抛光设备精度要求较高,减少加工成本是超光滑表面加工技术进行大规模推广的迫切要求。 展开更多
关键词 研究进展 超光滑表面 非接触式抛光 表面粗糙度 亚表面损伤
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离子束倾斜入射抛光对表面粗糙度的影响 被引量:9
10
作者 舒谊 周林 +2 位作者 解旭辉 廖文林 李圣怡 《纳米技术与精密工程》 EI CAS CSCD 2012年第4期365-368,共4页
基于光学元件离子束高精度确定性抛光技术,在自行研制的离子束抛光机床上,本文研究了离子束倾斜入射抛光对光学材料熔石英表面粗糙度的影响.为了在离子束抛光中改善表面粗糙度,采用了0°~80°之间不同入射角度的离子束倾斜抛... 基于光学元件离子束高精度确定性抛光技术,在自行研制的离子束抛光机床上,本文研究了离子束倾斜入射抛光对光学材料熔石英表面粗糙度的影响.为了在离子束抛光中改善表面粗糙度,采用了0°~80°之间不同入射角度的离子束倾斜抛光和倾斜45°入射均匀去除两种实验方案进行研究,其中不同入射角度抛光实验研究结果表明:离子束垂直入射抛光较难改善表面粗糙度,倾斜入射抛光可以较好地改善表面粗糙度,入射角为30°~60°之间时抛光效果最佳,表面粗糙度得到明显改善;倾斜45°入射均匀去除抛光实验结果表明表面粗糙度的RMS值由抛光前(0.92±0.06)nm下降到(0.48±0.04)nm,提高了光学零件的表面质量,验证了离子束倾斜入射抛光可以较好地改善表面粗糙度,实现了离子束倾斜抛光超光滑表面的生成. 展开更多
关键词 离子束抛光 倾斜入射 熔石英 表面粗糙度 超光滑表面
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蓝宝石基片的磁流变化学抛光试验研究 被引量:13
11
作者 尹韶辉 王永强 +3 位作者 李叶鹏 康仁科 陈逢军 胡天 《机械工程学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第5期80-87,共8页
分析了磁流变化学抛光的加工机理,对蓝宝石基片的磁流变化学抛光进行了试验研究。结果表明:磁流变化学抛光可将蓝宝石基片加工到亚纳米级粗糙度的超光滑镜面,材料去除率受化学反应速率和剪切去除作用共同影响,化学反应速率越快,剪切去... 分析了磁流变化学抛光的加工机理,对蓝宝石基片的磁流变化学抛光进行了试验研究。结果表明:磁流变化学抛光可将蓝宝石基片加工到亚纳米级粗糙度的超光滑镜面,材料去除率受化学反应速率和剪切去除作用共同影响,化学反应速率越快,剪切去除作用越强,材料去除率越高;混有硅胶溶液与α-Al2O3磨料的磁流变化学抛光液去除率最高;材料去除率随工作间隙,励磁间隙以及加工时间的增大而减少,随铁粉浓度减少而减少;利用磁流变化学抛光方法加工蓝宝石基片可获得Ra 0.3 nm的超光滑表面。 展开更多
关键词 蓝宝石基片 磁流变化学抛光 材料去除率 超光滑镜面
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反应烧结碳化硅反射镜表面改性技术 被引量:8
12
作者 徐领娣 张学军 王旭 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2009年第1期120-124,共5页
为了解决新型优质光学材料—反应烧结碳化硅(RB-SiC)由SiC和Si两相结构引起的光学表面缺陷问题,提出了反射镜表面改性方案并且从加工工艺的角度介绍了改性工艺流程。以空间反射镜的使用环境为依据,对几种适用的RB-SiC改性材料进行了较... 为了解决新型优质光学材料—反应烧结碳化硅(RB-SiC)由SiC和Si两相结构引起的光学表面缺陷问题,提出了反射镜表面改性方案并且从加工工艺的角度介绍了改性工艺流程。以空间反射镜的使用环境为依据,对几种适用的RB-SiC改性材料进行了较为全面的分析比较。本文采用新的离子辅助沉积碳化硅(IAD-SiC)材料为改性层,对改性层的表面形貌及部分性能进行了测试,证明IAD-SiC膜层能够满足改性要求。在厚度为(6±0.5)μm的IAD-SiC膜层表面进行了一系列抛光工艺实验,文中给出了超光滑表面抛光工艺参数和实验结果。对改性层进行精抛光后,100mm口径样片的面形精度为0.033λRMS(λ=632.8nm),表面粗糙度优于0.5nmRMS。结果表明,本方法不仅可以很大程度提高元件表面质量,还可以进一步精修面形,为超光滑、低散射RB-SiC反射镜的加工提供了一条可行途径。 展开更多
关键词 反应烧结碳化硅 表面改性 表面粗糙度 离子辅助沉积碳化硅 超光滑表面
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超光滑表面加工技术的发展及应用 被引量:8
13
作者 于兆勤 杨忠高 +2 位作者 黄志刚 黄小舟 郭钟宁 《机床与液压》 北大核心 2007年第6期217-220,共4页
超光滑表面加工技术是超精密加工体系的一个重要组成部分,超光滑表面在国防和民用等领域都有着广泛的应用。本文针对超光滑表面的需求,介绍了超光滑表面制造技术的发展过程,对各种超光滑表面加工原理与方法进行了简单描述与评价,最后提... 超光滑表面加工技术是超精密加工体系的一个重要组成部分,超光滑表面在国防和民用等领域都有着广泛的应用。本文针对超光滑表面的需求,介绍了超光滑表面制造技术的发展过程,对各种超光滑表面加工原理与方法进行了简单描述与评价,最后提出了一种基于流体二维振动的超光滑表面加工技术,为超光滑表面的加工提供了新的方法。 展开更多
关键词 抛光 超光滑表面 超声振动 超精密加工
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超精表面三维形貌相移干涉检测实验研究 被引量:14
14
作者 童晓蕾 李玉和 +1 位作者 林浩山 祁鑫 《电子测量与仪器学报》 CSCD 2009年第12期65-69,共5页
超精表面检测技术已成为超精密测量技术重要组成部分。本文提出了一种超精表面三维形貌的相移干涉显微检测方法。检测系统引入偏振分光棱镜,建立相移检偏干涉与三维形貌重构模型,采用四帧相移与轮廓中线法进行相位与粗糙度参数计算。编... 超精表面检测技术已成为超精密测量技术重要组成部分。本文提出了一种超精表面三维形貌的相移干涉显微检测方法。检测系统引入偏振分光棱镜,建立相移检偏干涉与三维形貌重构模型,采用四帧相移与轮廓中线法进行相位与粗糙度参数计算。编制图像处理与系统测试软件,并对标准样品进行实验,结果表明:样品粗糙度重复测量精度达2.8nm,测试系统具有抗干扰能力强、稳定性好等特点。 展开更多
关键词 相移干涉 粗糙度 三维形貌 超精表面
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大气等离子体抛光技术在超光滑硅表面加工中的应用 被引量:18
15
作者 张巨帆 王波 董申 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第11期1749-1755,共7页
发展了大气等离子体抛光方法,并用于超光滑表面加工。该技术基于低温等离子体化学反应来实现原子级的材料去除,避免了表层和亚表层损伤。运用原子发射光谱法证明了活性反应原子的有效激发,进而揭示了特定激发态原子对应的电子跃迁轨道... 发展了大气等离子体抛光方法,并用于超光滑表面加工。该技术基于低温等离子体化学反应来实现原子级的材料去除,避免了表层和亚表层损伤。运用原子发射光谱法证明了活性反应原子的有效激发,进而揭示了特定激发态原子对应的电子跃迁轨道。在针对单晶硅片的加工实验中,应用有限元分析法在理论上对加工过程中的空间气体流场分布和样品表面温度分布进行了定性分析。后续的温度检测实验证实了样品表面温度梯度的形成,并表明样品表面最高温度仅为90℃。材料去除轮廓检测结果符合空间流场的理论分布模型,加工速率约为32 mm3/min。利用原子力显微镜对表面粗糙度进行测量,证实了加工后样品表面在一定范围内表面粗糙度Ra=0.6 nm。最后,利用X射线光电子谱法研究了该方法对加工后表面材料化学成分的影响。实验和检测结果均表明,该抛光方法可以进行常压条件下的超光滑表面无损抛光加工,实现了高质量光学表面的无损抛光加工。 展开更多
关键词 大气等离子体抛光法 超光滑表面 单晶硅 电容耦合
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超精密抛光中合适参量抛光粉的选择 被引量:4
16
作者 韩敬华 杨李茗 +4 位作者 冯国英 刘民才 高胥华 刘夏来 杨浩 《工具技术》 北大核心 2007年第1期69-71,共3页
在超精密抛光加工过程中,抛光粉参量对抛光质量的影响很大。试验研究抛光粉主要参量随抛光时间的变化规律,得到了适合超精密抛光的抛光粉参量的主要特点。根据抛光原理分析了抛光粉的主要参量对抛光表面的作用机理,提出一种选择适于抛... 在超精密抛光加工过程中,抛光粉参量对抛光质量的影响很大。试验研究抛光粉主要参量随抛光时间的变化规律,得到了适合超精密抛光的抛光粉参量的主要特点。根据抛光原理分析了抛光粉的主要参量对抛光表面的作用机理,提出一种选择适于抛光的合适参量抛光粉的方法。结果表明,利用该方法选择的抛光粉可稳定地加工出高质量的超光滑表面。 展开更多
关键词 光学材料 抛光 超光滑表面 粒度分布 表面疵病
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四频差动激光陀螺法拉第旋光片的加工 被引量:7
17
作者 金世龙 李晓红 +1 位作者 杨开勇 刘贱平 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期22-25,共4页
根据四频差动激光陀螺对法拉第旋光片的两个通光面都必须是超光滑表面且有一定夹角的使用要求,针对传统工艺必须采用光胶上盘法所带来的不利因素,提出了一种新的工艺。通过将数百个法拉第旋光片毛坯作为一个整体粘胶上盘并进行加工的方... 根据四频差动激光陀螺对法拉第旋光片的两个通光面都必须是超光滑表面且有一定夹角的使用要求,针对传统工艺必须采用光胶上盘法所带来的不利因素,提出了一种新的工艺。通过将数百个法拉第旋光片毛坯作为一个整体粘胶上盘并进行加工的方法,不仅使法拉第旋光片两通光面之间的夹角得到了很好的保证,而且还避免了光胶上盘对通光表面可能造成的损伤,最后使旋光片的两个通光面的表面质量同时得到了保证,从而使产品合格率大大提高(一盘数百个零件,两个通光表面的表面粗糙度同时优于0.08 nm(rms值)的合格率有时可达80%以上),解决了四频激光陀螺批量化生产中的一大制约因素。 展开更多
关键词 四频激光陀螺 法拉第旋光片 超光滑表面
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TiO_2纳米颗粒在单晶硅表面的吸附 被引量:5
18
作者 宋孝宗 高贵 +2 位作者 周有欣 王宏刚 龚俊 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第7期1694-1702,共9页
为了实现亚纳米级超光滑表面的加工,建立了紫外光诱导纳米颗粒胶体射流加工系统,同时研究了加工过程中纳米颗粒与工件表面间的相互作用机理。首先,对实验所用锐钛矿TiO_2纳米颗粒及单晶硅工件表面进行表征测量。然后,用第一性原理的平... 为了实现亚纳米级超光滑表面的加工,建立了紫外光诱导纳米颗粒胶体射流加工系统,同时研究了加工过程中纳米颗粒与工件表面间的相互作用机理。首先,对实验所用锐钛矿TiO_2纳米颗粒及单晶硅工件表面进行表征测量。然后,用第一性原理的平面波赝势计算方法研究了纳米颗粒胶体射流加工中TiO_2分子团簇在单晶硅表面化学吸附的表面构型结构及其体系能量。最后,开展了TiO_2纳米颗粒及单晶硅工件表面间的吸附实验。实验结果表明:胶体中的OH基团在TiO_2团簇表面及单晶硅表面分别发生化学吸附,在TiO_2纳米颗粒及单晶硅表面吸附过程中形成了新的Ti-O-Si键及化学吸附的H_2O分子。红外光谱实验结果显示:TiO_2纳米颗粒与单晶硅界面间存在新生成的Ti-O-Si键。这种界面间的相互作用证实了紫外光诱导纳米颗粒胶体射流抛光过程可实现材料去除的化学作用机理。 展开更多
关键词 TIO2纳米颗粒 超光滑表面 单晶硅表面 化学吸附 紫外光诱导纳米颗粒胶体射流加工
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超高精度光学元件加工技术 被引量:11
19
作者 马占龙 王君林 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2013年第6期1485-1490,共6页
为满足193 nm投影光刻物镜对光学元件不同频段的精度要求,提出了一种将超光滑加工和高精度面形修正相结合的超高精度光学元件加工技术。分别介绍了微射流超光滑加工技术和离子束高精度面形修正技术的基本原理。在自行研制的微射流超光... 为满足193 nm投影光刻物镜对光学元件不同频段的精度要求,提出了一种将超光滑加工和高精度面形修正相结合的超高精度光学元件加工技术。分别介绍了微射流超光滑加工技术和离子束高精度面形修正技术的基本原理。在自行研制的微射流超光滑加工机床和购置的离子束加工机床上对一直径Φ100 mm的熔石英平面镜进行了超高精度加工,经两次超光滑和一次离子束迭代加工后其面形由初始的rms值35.042 nm改善到3.393 nm,中频粗糙度由rms值0.389 nm改善到0.309 nm,高频粗糙度rms值由0.218 nm改善到0.080 2 nm。最后采用功率谱密度函数对加工前后的光学元件表面质量进行了分析评价。结果表明:采用微射流超光滑加工技术和离子束加工技术相结合的加工方法可以全面提升光学元件的面形精度和中、高频粗糙度,通过合理的工艺优化完全能够获得满足193nm投影光刻物镜要求的超高精度光学元件。 展开更多
关键词 光学制造 超光滑 离子束 面形精度 表面粗糙度
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用于超光滑表面加工的常压低温等离子体抛光系统设计 被引量:6
20
作者 张巨帆 王波 董申 《纳米技术与精密工程》 EI CAS CSCD 2008年第3期222-226,共5页
介绍了一种新型超光滑表面加工方法及其系统的设计.该方法主要基于低温等离子体化学作用,通过活性反应原子与工件表面原子间的化学反应实现原子级的材料去除,避免了表层和亚表层损伤.该常压低温等离子体抛光系统首次引入了电容耦合式射... 介绍了一种新型超光滑表面加工方法及其系统的设计.该方法主要基于低温等离子体化学作用,通过活性反应原子与工件表面原子间的化学反应实现原子级的材料去除,避免了表层和亚表层损伤.该常压低温等离子体抛光系统首次引入了电容耦合式射频等离子体炬,并根据装置的实际特性进行了良好的阻抗匹配.原子发射光谱分析结果表明,该系统实现了稳定的大气压等离子体放电,并有效地激发出高密度的活性反应原子.针对单晶硅片的加工试验结果,也证明了该系统可高效稳定地工作,并实现了约1.46,mm3/min的材料去除速率和0.6,nm(Ra)的表面粗糙度. 展开更多
关键词 常压等离子体 超光滑表面 等离子体炬 电容耦合 抛光
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