期刊文献+
共找到5篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
Effect of the V/Ⅲ ratio during buffer layer growth on the yellow and blue luminescence in undoped GaN epilayer 被引量:2
1
作者 CHAI XuZhao ZHANG Yun +7 位作者 LIU Bin XIE ZiLi HAN Ping YE JianDong HU LiQun XIU XiangQian ZHANG Rong ZHENG YouDou 《Science China(Physics,Mechanics & Astronomy)》 SCIE EI CAS 2013年第9期1694-1698,共5页
Effect of the V/III ratio during buffer layer growth on the yellow and blue luminescence in undoped GaN epilayer has been studied by means of photoluminescence spectroscopy and high resolution X-ray diffraction.It is ... Effect of the V/III ratio during buffer layer growth on the yellow and blue luminescence in undoped GaN epilayer has been studied by means of photoluminescence spectroscopy and high resolution X-ray diffraction.It is found that the densities of screw and edge threading dislocations increase with the V/III ratio of the buffer layer,and the intensities of the yellow luminescence(YL) and blue luminescence(BL) emissions also increase dramatically.However,the density ratio of the edge threading dislocation to the screw threading dislocation remains invariant,as well as the intensity ratio of YL emission to BL emission.It can be concluded from these phenomena that the edge threading dislocation and screw threading dislocation can enhance the YL and BL emissions,respectively. 展开更多
关键词 yellow luminescence blue luminescence v/ ratio
原文传递
V/Ⅲ比对Si基AlN薄膜结构特性的影响 被引量:1
2
作者 杨乾坤 潘磊 +2 位作者 李忠辉 董逊 张东国 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2016年第3期249-252 256,共5页
采用金属有机物化学气相外延法(MOCVD)在Si(111)衬底上生长了200nm厚的AlN薄膜,研究了V/III比对AlN薄膜晶体质量及表面六角缺陷的影响。结果表明,当V/III比为2 400时,得到的样品表面最平整,晶体质量最好,表面粗糙度为1.32nm,(002)半峰宽... 采用金属有机物化学气相外延法(MOCVD)在Si(111)衬底上生长了200nm厚的AlN薄膜,研究了V/III比对AlN薄膜晶体质量及表面六角缺陷的影响。结果表明,当V/III比为2 400时,得到的样品表面最平整,晶体质量最好,表面粗糙度为1.32nm,(002)半峰宽为0.615°,(102)半峰宽为0.689°。通过扫描电子显微镜(SEM)观察样品表面,发现当V/III比过高或者过低时,AlN薄膜的表面都会变得粗糙,六角形缺陷也会增多,合适的V/III比有助于抑制表面六角缺陷的产生。 展开更多
关键词 硅基氮化铝 v/ 六角缺陷
下载PDF
射频等离子体辅助MBE生长GaN及Mg掺杂的光致发光 被引量:1
3
作者 隋妍萍 于广辉 +4 位作者 孟胜 雷本亮 王笑龙 王新中 齐鸣 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期971-975,共5页
采用射频等离子体辅助分子束外延(RFplasma-assistedMBE)系统生长非故意掺杂GaN和p型GaN,并且通过室温和低温光致发光(PL)谱测试研究了材料的发光特性及与杂质态的关系,对于GaN外延层出现的黄带发光进行分析。结果表明,富Ga条件下生长的... 采用射频等离子体辅助分子束外延(RFplasma-assistedMBE)系统生长非故意掺杂GaN和p型GaN,并且通过室温和低温光致发光(PL)谱测试研究了材料的发光特性及与杂质态的关系,对于GaN外延层出现的黄带发光进行分析。结果表明,富Ga条件下生长的GaN材料特性要优于富N生长的材料;非故意掺杂的富Ga样品中出现的黄带发光(YL)与GaN中生成能最低的氮空位(VN)缺陷有关;不同的Mg掺杂浓度对样品的PL特性有较大的影响;结合Hall效应测量结果,认为在Mg重掺杂的样品中出现的黄带发光,与GaN的自补偿效应以及重掺杂导致的晶体质量下降有关。 展开更多
关键词 分子束外延 /v PL谱 黄带发光
下载PDF
含砷水滴灌对小白菜砷累积的影响
4
作者 李宁 姣哈尔·红卫 +2 位作者 窦永乐 陈婷婷 苏玉红 《节水灌溉》 北大核心 2021年第1期86-89,共4页
为探究含砷(As)水滴灌对小白菜中As累积及无机砷赋存形态的影响,通过改变灌溉方式(漫灌、滴灌)、灌溉液中总砷含量或滴灌液中As(Ⅲ)/As(V)的比例等条件,进行了盆栽土培模拟实验。结果表明:滴灌方式下小白菜地上部和根部中总As含量、As(... 为探究含砷(As)水滴灌对小白菜中As累积及无机砷赋存形态的影响,通过改变灌溉方式(漫灌、滴灌)、灌溉液中总砷含量或滴灌液中As(Ⅲ)/As(V)的比例等条件,进行了盆栽土培模拟实验。结果表明:滴灌方式下小白菜地上部和根部中总As含量、As(Ⅲ)与As(V)的比例(As(Ⅲ)/As(V)比例)均大于漫灌方式;随着滴灌液中As(Ⅲ)/As(V)比例的增加,小白菜体内总As含量及As(Ⅲ)/As(V)比例均不断增大。与灌灌相比,滴灌方式促进了小白菜中总As的累积,且增加了总As中As(Ⅲ)赋存形态的比例;滴灌液中As(Ⅲ)赋存形态比例的增加促进了小白菜对总As的累积,同样增加了总As中As(Ⅲ)赋存形态的比例。滴灌方式能够造成含砷水灌溉的生态和健康风险放大效应。 展开更多
关键词 含砷水滴灌 小白菜 砷累积 As()/As(v)比例 As()赋存形态
下载PDF
MBE制备GaN纳米柱阵列的光学特性 被引量:1
5
作者 冉宏霞 王硕 +3 位作者 范滔 刘瑞峰 张雨阳 高向明 《微纳电子技术》 北大核心 2017年第1期21-25,共5页
使用U-4100紫外可见光光度计和QM40稳态/瞬态荧光光谱仪分别对不同V/Ⅲ比分子束外延(MBE)制备的GaN纳米柱阵列进行了测试,分析了V/Ⅲ比对GaN纳米柱表面形貌及发光特性的影响。反射光谱、透射光谱和室温稳态光致发光光谱结果表明:MBE制备... 使用U-4100紫外可见光光度计和QM40稳态/瞬态荧光光谱仪分别对不同V/Ⅲ比分子束外延(MBE)制备的GaN纳米柱阵列进行了测试,分析了V/Ⅲ比对GaN纳米柱表面形貌及发光特性的影响。反射光谱、透射光谱和室温稳态光致发光光谱结果表明:MBE制备的GaN纳米柱阵列其V/Ⅲ比直接影响纳米柱的带边发光、黄带发光、蓝带发光和光吸收等光学特性。当波长为480 nm蓝光段时,纳米柱有最强的反射能力。纳米柱V/Ⅲ比为6∶1时反射率峰值最大,约为55%,且峰值随V/Ⅲ比的变化交替变化。纳米柱V/Ⅲ比为8∶1时透射率最大。纳米柱V/Ⅲ比为10∶1时黄带发光几乎消失,且365 nm附近的带边发光和440 nm附近的蓝带发光增强。拟合结果中370 nm为主要的带边发光峰。 展开更多
关键词 分子束外延(MBE) GaN纳米柱阵列 反射光谱 光致发光光谱 v/
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部