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Characteristics of Resistance Triggering of a Pulsed Vacuum Arc Ion Source 被引量:1
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作者 蓝朝晖 龙继东 +4 位作者 郑乐 董攀 杨振 王韬 李杰 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2015年第9期84-87,共4页
Triggering scheme is a significant factor that may influence the process of vacuum arc initiation. In this work, the characteristics of resistance triggering of a pulsed vacuum arc ion source are investigated and comp... Triggering scheme is a significant factor that may influence the process of vacuum arc initiation. In this work, the characteristics of resistance triggering of a pulsed vacuum arc ion source are investigated and compared with the independent pulse generator triggering. The results show that although the resistance triggering method is capable of triggering a vacuum arc ion source by properly choosing the resistance and electric parameters, it inevitably increases the rise time of the arc current. A high speed multiframe camera is used to reveal the transition process o~ arc initiation during one shot. From the images it is conjectured that the lower voltage between the cathode and the anode may be the reason that leads to the lower transition speed of discharge at the moment of arc initiation. 展开更多
关键词 In Characteristics of Resistance Triggering of a Pulsed vacuum arc ion Source arc
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Formation of Multicharged Metal Ions in Vacuum Arc Plasma Heated by Gyrotron Radiation 被引量:1
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作者 G. Yu. YUSHKOV K. P. SAVKIN +4 位作者 A. G. NIKOLAEV E. M. OKS A.V. VODOPYANOV I. V. IZOTOV D. A. MANSFELD 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第5期596-599,共4页
A new method for the generation of high charged state metal ion beams is developed. This method is based on microwave heating of vacuum arc plasma in a magnetic trap under electron cyclotron resonance (ECR) conditio... A new method for the generation of high charged state metal ion beams is developed. This method is based on microwave heating of vacuum arc plasma in a magnetic trap under electron cyclotron resonance (ECR) conditions. Two gyrotrons for plasma heating were used, which were with the following parameters. The first is with a wave frequency of 37.5 GHz, a pulse duration of 1 ms and power of 100 kW, another is with 75 GHz, 0.15 ms and 400 kW. Two different magnetic traps were considered for vacuum arc plasma confinement. The first one is a simple mirror trap. Such system was already investigated and could provide high charge state ions. The second trap was with a cusp magnetic field configuration with native "minimum-B" field structure. Two different ways of metal plasma injection into the magnetic trap were used. The first one is an axial injection from an arc source located out of the trap, and the second is a radial injection from four arc sources mounted at the center of the trap. Both traps provide up to 200 eMA of ion beam current for platinum ions with highest charge state 10+. Ion beams were successfully extracted from the plasma and accelerated by a voltage of up to 20 kV. 展开更多
关键词 ion source ECR heating vacuum arc multicharged ions
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Influence of Jet Angle and Ion Density of Cathode Side on Low Current Vacuum Arc Characteristics
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作者 王立军 贾申利 史宗谦 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2008年第2期193-197,共5页
In this study, the influence of the initial jet angles (IJAs) and ion number densities (INDs) at the cathode side on the low current vacuum arc (LCVA) characteristics is simulated and analysed. The results show ... In this study, the influence of the initial jet angles (IJAs) and ion number densities (INDs) at the cathode side on the low current vacuum arc (LCVA) characteristics is simulated and analysed. The results show that the ion temperature, electron temperature, ion number density, axial current density and plasma pressure all decrease with the increase of the cathode IJAs. It is also shown that LCVA can cause a current constriction for lower cathode IND, and the anode sheath potential is more nonuniform, which is mainly related to the nonuniform distribution of the axial current density at the anode side. 展开更多
关键词 low current vacuum arc initial jet angles ion number density simulation
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Radial and Angular Resolved Langmuir Probe Diagnosis of a Pulsed Vacuum Arc Plasma 被引量:1
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作者 陈磊 马明旺 +5 位作者 黎明 金大志 谈效华 戴晶怡 杨林 胡思得 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第6期689-692,共4页
Vacuum arc ion sources are known for delivering high currents of ion beams in many technological applications. There is a great need in the present ion accelerator injection research for a titanium vacuum arc source t... Vacuum arc ion sources are known for delivering high currents of ion beams in many technological applications. There is a great need in the present ion accelerator injection research for a titanium vacuum arc source to produce high-ionized plasma, in which its parameter is extremely important to match the extractors geometry and the extraction voltage. In this paper, the radial and angular distributions of the titanium cathodic vacuum arc plasma parameters are measured by a cylindrical Langmuir probe and analyzed by the Druyvesteyn method from the I-V curves. The electron density ne is about 10^(17)m^(-3) and the effective electron temperature Tefr is in the range of 6.12-11.11 eV in the free expansion cup before the ion extraction. The measured distribution of ne over the expansion cross-section is non-uniform and axially unsymmetrical with its form similar to the Gaussian distribution, and most of the plasma is concentrated into an area whose radius is smaller than 5 mm. Teff has a nearly uniform distribution over the expansion cross-section during the discharge. The results of the plasma parameters' non-uniformity encourage the researchers to make some optimization designs to improve the parameter distributions, and then to facilitate ion extraction. 展开更多
关键词 langmuir probe vacuum arc plasma ion extraction DIAGNOSIS
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Deposition of TiN Films by Novel Filter Cathodic Arc Technique
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作者 牛二武 范松华 +4 位作者 李立 吕国华 冯文然 张谷令 杨思泽 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2006年第6期1533-1535,共3页
A straight magnetic filtering arc source is used to deposit thin films of titanium nitride. The properties of the films depend strongly on the deposition process. TiN films can be deposited directly onto heated substr... A straight magnetic filtering arc source is used to deposit thin films of titanium nitride. The properties of the films depend strongly on the deposition process. TiN films can be deposited directly onto heated substrates in a nitrogen atmosphere or onto unbiased substrates by condensing the Ti^+ ion beam in about 300 eV N2^+ nitrogen ion bombardment. In the latter case, the film stoichiometry is varied from an N:Ti ratio of 0.6-1.1 by controlling the arrival rates of Ti and nitrogen ions. Meanwhile, simple models are used to describe the evolution of compressive stress as function of the arrival ratio and the composition of the ion-assisted TiN films. 展开更多
关键词 vacuum-arc ion-IMPLANTATion VAPOR-DEPOSITion TITANIUM
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ENHANCING ADHESION OF TETRAHEDRAL AMORPHOUS CARBON FILMS
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作者 赵玉清 林毅 +2 位作者 王晓艳 王炎武 魏新宇 《Journal of Pharmaceutical Analysis》 SCIE CAS 2005年第1期33-35,39,共4页
Objective The high energy ion bombardment technique is applied to enhancing the adhesion of the tetrahedral amorphous carbon (TAC) films deposited by the filtered cathode vacuum arc (FCVA). Methods The abrasion method... Objective The high energy ion bombardment technique is applied to enhancing the adhesion of the tetrahedral amorphous carbon (TAC) films deposited by the filtered cathode vacuum arc (FCVA). Methods The abrasion method, scratch method, heating and shaking method as well as boiling salt solution method is used to test the adhesion of the TAC films on various material substrates. Results The test results show that the adhesion is increased as the ion bombardment energy increases. However, if the bombardment energy were over the corresponding optimum value, the adhesion would be enhanced very slowly for the harder material substrates and drops quickly, for the softer ones. Conclusion The optimum values of the ion bombardment energy are larger for the harder materials than that for the softer ones. 展开更多
关键词 tetrahedral amorphous carbon filtered cathode vacuum arc ion bombardment ADHESion
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Hybrid Method for the Formation of Biocomposites on the Surface of Stainless Steel Implants
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作者 Sergei I. Tverdokhlebov Viktor P. Ignatov +2 位作者 Igor B. Stepanov Denis O. Sivin Danila G. Petlin 《Engineering(科研)》 2012年第10期613-618,共6页
This study reports a hybrid method which allows the formation of biocomposites on stainless steel implants. The main idea of the method is to create multilayer coatings consisting of titanium primer layer and a microa... This study reports a hybrid method which allows the formation of biocomposites on stainless steel implants. The main idea of the method is to create multilayer coatings consisting of titanium primer layer and a microarc calcium-phosphate coating. The titanium layer is deposited from plasma of continuous vacuum-arc discharge, and calcium-phosphate coating is formed by the microarc oxidation technique. The purpose of the hybrid method is to combine the properties of good strength stainless steel with high bioactivity of calcium-phosphate coating. This paper describes the chemical composition, morphology characteristics, adhesion and the ability of the formed biocomposites to stimulate the processes of osteoinduction. It is expedient to use such biocomposites for implants which carry heavy loads and are intended for long-term use, e.g. total knee endoprosthesis. 展开更多
关键词 BIOCOMPOSITE STAINLESS Steel Titanium vacuum-arc Deposition of Coatings SHORT-PULSE High-Frequency Plasma-Immersion ion Implantation Microarc Oxidation Implant
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利用CCD摄象系统研究真空电弧演变过程 被引量:17
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作者 赵子玉 武建文 +2 位作者 邹积岩 何俊佳 张汉明 《中国电机工程学报》 EI CSCD 北大核心 1999年第11期10-13,58,共5页
设计制作了真空电弧图象瞬态摄象系统。应用拍摄的高清淅度电弧图象,对真空电弧的形态演变及微观参数分布规律进行了分析讨论,发现了触头侧面也是真空电弧重燃点,提出了加以清除的设想。
关键词 真空电弧 演变过程 CCD 摄象系统
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基体材料对TiN薄膜表面液滴及薄膜结合力的影响 被引量:16
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作者 龚才 代明江 +2 位作者 陈明安 韦春贝 侯惠君 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第1期27-33,共7页
采用真空阴极电弧离子镀技术分别在4Cr5MoSiV1(H13)模具钢、Cr18Ni9Ti(304)不锈钢、YG6硬质合金、Ti6Al4V(TC4)钛合金4种基体表面沉积TiN薄膜。利用扫描电镜(SEM)对薄膜表面液滴进行观察分析,通过划痕仪对薄膜的膜/基结合力进行表征。... 采用真空阴极电弧离子镀技术分别在4Cr5MoSiV1(H13)模具钢、Cr18Ni9Ti(304)不锈钢、YG6硬质合金、Ti6Al4V(TC4)钛合金4种基体表面沉积TiN薄膜。利用扫描电镜(SEM)对薄膜表面液滴进行观察分析,通过划痕仪对薄膜的膜/基结合力进行表征。结果表明:基体材料不同,TiN薄膜上液滴的密度、尺寸存在明显的区别。其中,镀膜后H13钢和304不锈钢表面的液滴数量最多,YG6硬质合金次之,TC4钛合金最少;薄膜的膜/基结合强度依次为YG6硬质合金>H13钢>304不锈钢>TC4钛合金。 展开更多
关键词 真空阴极电弧离子镀 TIN薄膜 液滴 基结合力
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钢领表面电弧离子镀TiAlCN薄膜 被引量:7
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作者 杨立军 张泽辉 +1 位作者 党新安 李林 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第2期51-55,共5页
在低温(145℃)条件下,采用真空电弧离子镀技术在GCr15钢领表面制备TiAlCN薄膜。利用扫描电子显微镜(SEM)、电子探针(EPMA)、X射线衍射仪(XRD)、附着力测试仪和显微硬度计分析测试薄膜形貌和性质。结果表明,负偏压较小,液滴尺寸大;负偏... 在低温(145℃)条件下,采用真空电弧离子镀技术在GCr15钢领表面制备TiAlCN薄膜。利用扫描电子显微镜(SEM)、电子探针(EPMA)、X射线衍射仪(XRD)、附着力测试仪和显微硬度计分析测试薄膜形貌和性质。结果表明,负偏压较小,液滴尺寸大;负偏压过高,液滴脱落后留下很多凹坑,薄膜组织性能恶化。随着弧电流的增大,液滴发生细化。当弧电流为50A、负偏压为-100V和镀膜时间为50min时,薄膜的均匀性和致密性好,薄膜表面的液滴分布均匀且尺寸小,液滴最大尺寸小于2μm,膜层平均厚度为2.2μm,膜层中有Fe0.975Ti0.025(110)、Ti2N(112)和AlTi3(CN)0.6等多种物质的存在,改善了膜层的组织结构,薄膜的附着力达到最大值39.8N,薄膜的硬度达到最大值1 776HV0.01,显著提高了钢领的表面硬度。 展开更多
关键词 真空电弧离子镀 TiAlCN 硬度 附着力
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条纹相机在真空弧离子源等离子体诊断中的应用 被引量:5
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作者 唐建 卢彪 +3 位作者 伍春雷 邓春凤 胡永宏 温中伟 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第8期188-192,共5页
针对真空弧离子源,利用条纹相机将时间轴信息转换为空间轴信息的特点,结合光谱仪分光功能,建立了一套高时间分辨与光谱分辨能力的发射光谱诊断装置,其时间分辨率和光谱分辨率分别可达26ps与0.1nm。利用该诊断装置采集获得了单次脉冲内... 针对真空弧离子源,利用条纹相机将时间轴信息转换为空间轴信息的特点,结合光谱仪分光功能,建立了一套高时间分辨与光谱分辨能力的发射光谱诊断装置,其时间分辨率和光谱分辨率分别可达26ps与0.1nm。利用该诊断装置采集获得了单次脉冲内等离子体的时间演化特性;同时,基于局域热力学平衡等离子体的发射光谱理论,建立了一套谱线拟合的等离子体温度与密度计算模型。相比传统的Boltzmann斜率法与Stark展宽法需要寻找孤立的不受附近谱线叠加的干净线状光谱,建立的拟合光谱模型可以直接处理多条谱线因为展宽效应而叠加形成的光谱线型,计算得到等离子体中电子温度与电子密度。结果表明,在脉冲功率源的作用下,真空弧放电等离子体的电子温度与电子密度分别可达1eV与3.5×1024 m-3。 展开更多
关键词 条纹相机 真空弧离子源 发射光谱拟合 电子温度 电子密度 时间分辨
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复合离子束制备氮化物多层膜的抗冲蚀性能 被引量:6
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作者 金杰 王丽叶 +3 位作者 黄晓林 孟祥宇 陈蕴博 高克玮 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期32-38,共7页
为了在TC4钛合金上获得抗冲蚀性能优良的膜层,利用金属蒸发真空多弧(Metal evaporation vacuum arc,MEVVA)离子源和阴极真空磁过滤弧复合离子束沉积技术在TC4钛合金基材表面制备Cr/Cr-N、Ti/Ti-N、Cr-Ti/Cr-Ti-N、Ti-Al/Ti-Al-N 4种体... 为了在TC4钛合金上获得抗冲蚀性能优良的膜层,利用金属蒸发真空多弧(Metal evaporation vacuum arc,MEVVA)离子源和阴极真空磁过滤弧复合离子束沉积技术在TC4钛合金基材表面制备Cr/Cr-N、Ti/Ti-N、Cr-Ti/Cr-Ti-N、Ti-Al/Ti-Al-N 4种体系的多层膜。采用努普显微硬度计、划痕仪、微粒喷浆冲蚀试验机、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、体式显微镜等仪器对不同体系膜层的力学性能及形貌进行测试表征,对比研究各膜层体系抗冲蚀性能的机理。结果表明:该技术制备的膜层致密、交替层结构明显;不同膜层体系的抗冲蚀性能差异较大,尤以二元金属及其氮化物交替复合多层膜具有较好的抗冲蚀性能,其中CrTi/Cr-Ti-N体系的膜层抗冲蚀性能相比基体提高10.1倍以上,其次为Ti-Al/Ti-Al-N、Ti/Ti-N、Cr/Cr-N,分别提高6.1倍、4.1倍和2.3倍。 展开更多
关键词 MEVVA离子源 阴极真空磁过滤 多元氮化物 抗冲蚀
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沉积气压对电弧离子镀制备ZnO薄膜的结构和性能影响 被引量:5
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作者 王明东 朱道云 +3 位作者 郑昌喜 何振辉 陈弟虎 闻立时 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期1013-1015,共3页
采用阴极真空电弧离子镀技术在玻璃衬底上制备出了具有择优取向的透明ZnO薄膜。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜及紫外一可见吸收光谱仪分别对ZnO薄膜的结构、表面形貌及可见光透过率进行了分析。XRD结果表明,所制备的ZnO薄膜具有六... 采用阴极真空电弧离子镀技术在玻璃衬底上制备出了具有择优取向的透明ZnO薄膜。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜及紫外一可见吸收光谱仪分别对ZnO薄膜的结构、表面形貌及可见光透过率进行了分析。XRD结果表明,所制备的ZnO薄膜具有六角纤锌矿结构的(002)和(101)两种取向,在沉积气压〉1.0Pa时所制备的ZnO薄膜具有(002)择优取向,并且非常稳定。SEM图表明,ZnO晶粒大小较为均匀,晶粒尺寸随着气压升高而变小。在400~1000nm范围内,ZnO薄膜的可见光透过率超过80%,吸收边在370nm附近,所对应的光学带隙约为3.33~3.40eV,并随着沉积气压上升而变大。 展开更多
关键词 真空电弧离子镀 X射线衍射 ZNO薄膜
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真空弧离子源脉冲工作瞬间的放电行为 被引量:3
14
作者 唐平瀛 戴晶怡 +3 位作者 谈效华 金大志 刘铁 丁伯南 《核技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期217-220,共4页
采用高速摄影和光谱诊断的方法研究了真空弧离子源脉冲工作瞬间的放电行为。拍摄了离子源放电瞬间吸氢电极上阴极斑的形成过程,分析了不同放电电流时阴极斑的发射光谱。实验结果表明,当脉冲工作电流为 101—102 A 时,真空弧离子源放电... 采用高速摄影和光谱诊断的方法研究了真空弧离子源脉冲工作瞬间的放电行为。拍摄了离子源放电瞬间吸氢电极上阴极斑的形成过程,分析了不同放电电流时阴极斑的发射光谱。实验结果表明,当脉冲工作电流为 101—102 A 时,真空弧离子源放电区一般只有单个阴极斑,阴极斑的位置在同一次放电中的变化很小;较大的脉冲工作电流有利于提高阴极斑的温度,并最终导致氢离子浓度的增加,但也会使阴极材料的溅射更加严重,造成离子源等离子体品质下降。 展开更多
关键词 真空弧离子源 阴极斑 高速摄影 光谱诊断
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真空弧离子源的电阻触发工作方式 被引量:3
15
作者 郑乐 蓝朝晖 +5 位作者 龙继东 彭宇飞 李杰 杨振 董攀 石金水 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2014年第1期20-23,共4页
介绍了真空弧离子源的一种电阻触发工作方式。有别于典型金属蒸汽真空弧(Metal vapor vacuum arc,MEVVA)离子源的触发工作方式,该方式不需要高压触发脉冲发生器和高压隔离脉冲变压器,简化了电源系统。实验测量了采用电阻触法20-200A主... 介绍了真空弧离子源的一种电阻触发工作方式。有别于典型金属蒸汽真空弧(Metal vapor vacuum arc,MEVVA)离子源的触发工作方式,该方式不需要高压触发脉冲发生器和高压隔离脉冲变压器,简化了电源系统。实验测量了采用电阻触法20-200A主弧电流下的引出离子流,结果表明离子流随主弧流增大。研究了不同阻值触发电阻的起弧情况,实验结果表明在一定电阻阻值范围内,触发电阻越大,触发越难成功。电阻增大使得触发时间增长,主弧上升沿变缓,但是对引出的离子流几乎没有影响。 展开更多
关键词 真空弧 离子源 触发 离子流
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Al离子注入对SiC-C/SiC复合材料抗氧化性能影响研究 被引量:3
16
作者 马国佳 刘亮 +2 位作者 武洪臣 张华芳 彭丽平 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第S1期136-138,共3页
用金属真空阴极弧(MEVVA)离子源对SiC-C/SiC复合材料进行Al离子注入来改善其抗氧化性能。通过俄歇电子能谱和扫描电镜分别对复合材料的Al离子浓度分布及表面形貌进行了表征,并在1300℃的空气中进行了氧化实验,结果表明Al离子注入能够有... 用金属真空阴极弧(MEVVA)离子源对SiC-C/SiC复合材料进行Al离子注入来改善其抗氧化性能。通过俄歇电子能谱和扫描电镜分别对复合材料的Al离子浓度分布及表面形貌进行了表征,并在1300℃的空气中进行了氧化实验,结果表明Al离子注入能够有效改善复合材料的抗氧化性能而不影响它的力学性能。 展开更多
关键词 真空弧离子源 SiC-C/SiC 铝离子注入 氧化实验
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胡椒孔法在强流脉冲离子束中的发射度测量 被引量:4
17
作者 柯建林 周长庚 邱瑞 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第8期2067-2070,共4页
真空弧离子源的引出束流具有低能、强流等特点,当离子源工作在单脉冲模式时,被广泛采用的缝-杯式和Alison式发射度测量方法不再适用。采用基于成像板的胡椒孔法测量了真空弧离子源的发射度。初步研制了胡椒孔法发射度测量装置,利用该装... 真空弧离子源的引出束流具有低能、强流等特点,当离子源工作在单脉冲模式时,被广泛采用的缝-杯式和Alison式发射度测量方法不再适用。采用基于成像板的胡椒孔法测量了真空弧离子源的发射度。初步研制了胡椒孔法发射度测量装置,利用该装置测量了引出电压为64 kV时脉冲束流的发射度和发射相图。在x方向和y方向,测得归一化均方根发射度分别为6.41,4.61π.mm.mrad。测量结果表明该真空弧离子源在64 kV时的归一化发射度远大于其他类型的离子源的发射度。 展开更多
关键词 发射度测量 真空弧离子源 胡椒孔 单脉冲束
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沉积气压对电弧离子镀制备MgO薄膜的结构及性能的影响 被引量:2
18
作者 朱道云 郑昌喜 +2 位作者 王明东 陈弟虎 何振辉 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第7期1316-1319,共4页
采用阴极真空电弧离子沉积技术在玻璃及Si衬底上成功地制备了具有择优结晶取向的透明MgO薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)及紫外-可见吸收光谱仪分别对MgO薄膜微观结构、表面形貌及可见光透过率进行了测试与分析。XRD... 采用阴极真空电弧离子沉积技术在玻璃及Si衬底上成功地制备了具有择优结晶取向的透明MgO薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)及紫外-可见吸收光谱仪分别对MgO薄膜微观结构、表面形貌及可见光透过率进行了测试与分析。XRD结果表明,所制备的MgO薄膜具有NaCl型立方结构的(100)、(110)和(111)3种结晶取向,在沉积气压为0.7~3.0Pa的范围内,薄膜的择优结晶取向随沉积气压的升高先由(100)转变为(110),最后变为(111)。SEM图表明随着沉积气压的升高,MgO薄膜的晶粒逐渐变小,薄膜结晶质量变差。在380~900nm范围内,沉积气压为0.7Pa下制备的MgO薄膜其可见光透过率高于90%,随着沉积气压的升高,薄膜的可见光透过率有所下降。 展开更多
关键词 阴极真空电弧离子沉积 沉积气压 MgO薄膜 等离子体显示板
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离子束流剖面分布离线诊断方法探索 被引量:2
19
作者 杨振 龙继东 +3 位作者 蓝朝晖 李杰 刘平 石金水 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第4期41-45,共5页
提出了一种基于二次离子质谱分析技术的离子束流剖面分布的离线诊断方法,具有分辨率高、可同时给出束流剖面分布和成分信息的特点。利用数值模拟方法对该诊断方法的可行性进行了分析和讨论,并结合原理实验给出了验证结果。结果表明:该... 提出了一种基于二次离子质谱分析技术的离子束流剖面分布的离线诊断方法,具有分辨率高、可同时给出束流剖面分布和成分信息的特点。利用数值模拟方法对该诊断方法的可行性进行了分析和讨论,并结合原理实验给出了验证结果。结果表明:该方法可以用于真空密封型中子发生器离子束流剖面分布的诊断,能够成为其他诊断方法的验证手段和有力补充。 展开更多
关键词 真空密封型中子发生器 真空弧离子源 束流剖面 二次离子质谱分析
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Si掺杂对纳米硬质CrAlN涂层结构及性能影响 被引量:3
20
作者 邰清安 柳琪 +3 位作者 国振兴 王进 马大衍 宋忠孝 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第10期119-125,共7页
采用真空阴极电弧离子镀技术在V-4E工具钢表面制备了CrAlN、CrAlSiN两种多元纳米硬质涂层。采用划痕仪、工具显微镜、显微硬度计、球磨仪、SEM、EDS、XRD、TEM及XPS分析了涂层的力学性能、摩擦学性能以及微结构。结果表明:与CrAlN涂层相... 采用真空阴极电弧离子镀技术在V-4E工具钢表面制备了CrAlN、CrAlSiN两种多元纳米硬质涂层。采用划痕仪、工具显微镜、显微硬度计、球磨仪、SEM、EDS、XRD、TEM及XPS分析了涂层的力学性能、摩擦学性能以及微结构。结果表明:与CrAlN涂层相比,CrAlSiN涂层中Si的掺杂能使晶粒细化,提高涂层硬度和耐磨性、优化膜基结合水平;CrAlSiN涂层中的立方相CrN由(111)择优取向向(200)择优取向转变,晶粒尺寸明显减小,相结构为非晶态Si_3N_4包覆纳米晶复合混合框架结构。 展开更多
关键词 真空阴极电弧离子镀 纳米硬质涂层 晶粒细化 耐磨性
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