采用磁控溅射技术在硅衬底上制备ZnS薄膜,探究了溅射功率对ZnS薄膜沉积速率、表面粗糙度和表面形貌的影响。采用台阶仪、原子力显微镜(Atomic Force Microscope,AFM)、扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope,SEM)、椭偏仪等表征...采用磁控溅射技术在硅衬底上制备ZnS薄膜,探究了溅射功率对ZnS薄膜沉积速率、表面粗糙度和表面形貌的影响。采用台阶仪、原子力显微镜(Atomic Force Microscope,AFM)、扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope,SEM)、椭偏仪等表征薄膜的表面形貌、微观结构和光学性能。结果表明,ZnS薄膜的沉积速率与溅射功率有关,随溅射功率的增加而线性增加;表面粗糙度与溅射功率相关,随溅射功率的增大呈现先增大后减小的趋势。在微观结构方面,薄膜晶粒尺寸也呈现先变大后减小的趋势。随着溅射功率的增大,ZnS膜层的折射率先减小后增大。因此,溅射功率对膜层生长具有重要的作用。展开更多
文摘采用磁控溅射技术在硅衬底上制备ZnS薄膜,探究了溅射功率对ZnS薄膜沉积速率、表面粗糙度和表面形貌的影响。采用台阶仪、原子力显微镜(Atomic Force Microscope,AFM)、扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope,SEM)、椭偏仪等表征薄膜的表面形貌、微观结构和光学性能。结果表明,ZnS薄膜的沉积速率与溅射功率有关,随溅射功率的增加而线性增加;表面粗糙度与溅射功率相关,随溅射功率的增大呈现先增大后减小的趋势。在微观结构方面,薄膜晶粒尺寸也呈现先变大后减小的趋势。随着溅射功率的增大,ZnS膜层的折射率先减小后增大。因此,溅射功率对膜层生长具有重要的作用。