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Electrodeposition mechanism of ZnSe thin film in aqueous solution
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作者 Jun-Li Xu Wei-Ying Gong +4 位作者 Wei Wang Hao Meng Xia Zhang Zhong-Ning Shi Geir-Martin Haarberg 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第10期816-820,共5页
ZnSe is one of the important and excellent II-VI semiconductor materials, which has direct transition band structure. In this paper, ZnSe thin films were prepared by an electrochemical deposition method, and the forma... ZnSe is one of the important and excellent II-VI semiconductor materials, which has direct transition band structure. In this paper, ZnSe thin films were prepared by an electrochemical deposition method, and the formation mechanism of ZnSe was studied systematically. Voltammerry and chronoamperometry combined with X-ray diffraction (XRD) and Raman techniques were used to analyze the deposition processes. It is found that the substrate and deposition potentials have a great influence on the phase composition of deposited thin film, and Zn substrate is beneficial to the preparation ZnSe films. Strong selenium-substrate interaction results in the formation of selenimn compounds involving electrode materials. The addition of Zn(II) source can affect the reduction potential of Se, and results in the change of reducing mechanism of Se(0) from Se(IV). Se(0) formed from H2Se because the formation of H2Se is more active than forming Se(0) directly from Se(IV), and H2Se can recombine with the substrate material, forming selenium-substrate compounds more quickly. 展开更多
关键词 znse thin film Electrodepostion MECHANISM Raman spectra
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Photoluminescence properties of ZnSe/SiO_2 composite thin films prepared by sol-gel method
2
作者 姜海青 车俊 姚熹 《中国有色金属学会会刊:英文版》 CSCD 2006年第B01期266-269,共4页
ZnSe/SiO2 composite thin films was prepared by sol-gel method. XRD results indicate the phase structure of ZnSe particles embedded in ZnSe/SiO2 composite thin films is sphalerite (cubic ZnS). Spectroscopic ellipsomete... ZnSe/SiO2 composite thin films was prepared by sol-gel method. XRD results indicate the phase structure of ZnSe particles embedded in ZnSe/SiO2 composite thin films is sphalerite (cubic ZnS). Spectroscopic ellipsometers were used to investigated the dependences of ellipsometric angle with wavelength of ZnSe/SiO2 composite thin films. The optical constant, thickness, porosity and the concentration of ZnSe of ZnSe/SiO2 thin composite films were fitted according to Maxwell-Garnett effective medium theory. The thickness of ZnSe/SiO2 composite thin thin films was also measured through surface profile. The photoluminescence properties of ZnSe/SiO2 thin composite thin films was investigated through fluorescence spectrometer. The photoluminescence results show that the emission peak at 487 nm (2.5 eV) is excited at 395 nm corresponds to the band-to-band emission of sphalerite ZnSe crystal(2.58 eV). The strength free exciton emission and other emission peaks correlating to ZnSe lattice defect were also observed. 展开更多
关键词 znse/SiO2复合材料薄膜 溶胶-凝胶法 制备 光致发光性质
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Enhanced transient photovoltaic characteristics of core–shell ZnSe/ZnS/L-Cys quantum-dot-sensitized TiO_2 thin-film
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作者 Kui-Ying Li Lun Ren Tong-De Shen 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第6期415-423,共9页
Photoanodic properties greatly determine the overall performance of quantum-dot-sensitized solar cells(QDSCs). In the present report, the microdynamic behaviors of carriers in the nanocomposite thin-film, a Zn Se QD... Photoanodic properties greatly determine the overall performance of quantum-dot-sensitized solar cells(QDSCs). In the present report, the microdynamic behaviors of carriers in the nanocomposite thin-film, a Zn Se QD-sensitized mesoporous La-doped nano-TiO2 thin-film, as a potential candidate for photoanode, are probed via nanosecond transient photovoltaic(TPV) spectroscopy. The results confirm that the L-Cys ligand has a dual function serving as a stabilizer and molecular linker. Large quantities of interface states are located at the energy level with a photoelectric threshold of1.58 eV and a quantum well(QW) depth of 0.67 eV. This QW depth is approximately 0.14 eV deeper than the depth of QW buried in the Zn Se QDs, and a deeper QW results in a higher quantum confinement energy. A strong quantum confinement effect of the interface state may be responsible for the excellent TPV characteristics of the photoanode. For example, the peak intensity of the TPV response of the QD-sensitized thin-film lasts a long time, from 9.40 × 10^(-7) s to 2.96 × 10^(-4) s,and the end time of the PTV response of the QD-sensitized thin-film is extended by approximately an order of magnitude compared with those of the TiO2 substrate and the QDs. The TPV characteristics of the QD-sensitized thin-film change from p-type to n-type for the QDs before and after sensitizing. These properties strongly depend on the extended diffusion length of the photogenerated carries and the reduced recombination rate of photogenerated electron-hole pairs, resulting in prolonged carrier lifetime and an increased level of electron injection into the TiO2 thin-film substrate. 展开更多
关键词 SENSITIZATION core-shell znse quantum dots mesoporous Ti02 thin-film time-resolution photo- voltage
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ZnSe薄膜电沉积工艺条件的研究 被引量:2
4
作者 缪娟 张成光 符德学 《表面技术》 EI CAS CSCD 2008年第4期45-48,共4页
采用电沉积方法制备了ZnSe薄膜,研究了电沉积工艺参数,包括镀液的主盐离子浓度、配合剂浓度、pH值及电流密度等对膜层的影响。通过正交试验对上述各参数进行优化,以寻求最佳的工艺条件,得到最佳制备条件为:电流密度6.0mA/cm2,柠檬酸钠14... 采用电沉积方法制备了ZnSe薄膜,研究了电沉积工艺参数,包括镀液的主盐离子浓度、配合剂浓度、pH值及电流密度等对膜层的影响。通过正交试验对上述各参数进行优化,以寻求最佳的工艺条件,得到最佳制备条件为:电流密度6.0mA/cm2,柠檬酸钠14.71g,pH值3.5,Zn2+/SeO32-浓度比200∶1,温度65℃,时间8min。在此条件下制备了薄膜样品,并用扫描电镜、EDAX能谱仪对镀层进行了表征,其结构均匀致密,Zn/Se化学计量比为1/1.01。 展开更多
关键词 电沉积 znse薄膜 工艺条件
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单源真空蒸发法制备ZnSe薄膜的实验研究 被引量:3
5
作者 余晓艳 马鸿文 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第4期863-868,共6页
本文采用单源真空蒸发法制备了ZnSe薄膜,利用电子探针、X射线粉晶衍射等现代测试手段研究了蒸发温度(700-1050℃)、基片温度(0-200℃)、基片材料(单晶硅、玻璃)以及热处理温度(300-400℃)等因素的改变对ZnSe薄膜的成份和结构的... 本文采用单源真空蒸发法制备了ZnSe薄膜,利用电子探针、X射线粉晶衍射等现代测试手段研究了蒸发温度(700-1050℃)、基片温度(0-200℃)、基片材料(单晶硅、玻璃)以及热处理温度(300-400℃)等因素的改变对ZnSe薄膜的成份和结构的影响规律,建立了单源真空蒸发沉积ZnSe薄膜及热处理的实验方法。 展开更多
关键词 单源真空蒸发 znse薄膜 电子探针 X射线粉晶衍射
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真空蒸发法制备ZnSe薄膜的X射线光电子能谱研究 被引量:1
6
作者 余晓艳 马鸿文 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期1330-1333,共4页
本文用真空蒸发法制备了CIS太阳能电池中做缓冲材料的ZnSe薄膜,利用X射线光电子能谱(XPS)对制备薄膜的表面化学状态及沉积质量进行了研究,并用氩离子溅射进行剥蚀,逐层分析薄膜的化合态随深度的变化关系。XPS分析表明,ZnSe薄膜含有Zn、S... 本文用真空蒸发法制备了CIS太阳能电池中做缓冲材料的ZnSe薄膜,利用X射线光电子能谱(XPS)对制备薄膜的表面化学状态及沉积质量进行了研究,并用氩离子溅射进行剥蚀,逐层分析薄膜的化合态随深度的变化关系。XPS分析表明,ZnSe薄膜含有Zn、Se、O、C等元素,其中O、C为样品置于空气中所致,含量随剥蚀深度的加大而逐渐降低。Zn的光电子峰为Zn2p1/2和Zn2p3/2,Zn2p3/2的电子结合能为1021.90eV,对应着Zn2+的化合态,表明薄膜中Zn以形式电荷为Zn2+的化合态形式存在;Se的光电子峰为Se3d,其电子结合能为54.30eV,对应着Se2-的化合态,表明薄膜中Se以形式电荷Se2-的化合态形式存在。分别经过1min、3min、7min、11min的剥蚀后,Zn和Se的光电子峰几乎没有改变,表明沉积的ZnSe薄膜表面和内部化学状态稳定一致。 展开更多
关键词 真空蒸发法 znse薄膜 XPS分析 界面氧化状态
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Nd掺杂对ZnSe薄膜微结构的影响 被引量:1
7
作者 吴蓉 李蓉萍 +2 位作者 安晓晖 何志刚 李忠贤 《信息记录材料》 2009年第6期20-23,共4页
利用真空蒸发的方法制备ZnSe多晶薄膜,并采用双源法对薄膜进行了稀土元素Nd的掺杂。对薄膜进行了XRD测试,并计算了薄膜的晶粒尺寸、晶格常数以及内应力。结果表明,当原子配比Zn∶Se=0.9∶1时可制备较理想的ZnSe多晶薄膜,稀土Nd掺杂并未... 利用真空蒸发的方法制备ZnSe多晶薄膜,并采用双源法对薄膜进行了稀土元素Nd的掺杂。对薄膜进行了XRD测试,并计算了薄膜的晶粒尺寸、晶格常数以及内应力。结果表明,当原子配比Zn∶Se=0.9∶1时可制备较理想的ZnSe多晶薄膜,稀土Nd掺杂并未改变样品的物相结构,掺杂使得薄膜的晶粒尺寸减小,晶胞体积增加,内应力和晶格常数改变。实验还发现,适度的轻掺杂Nd可增加ZnSe薄膜的光透射性。 展开更多
关键词 znse薄膜 微结构 真空蒸发 掺杂
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ZnSe/SiO_2薄膜光学常数的椭偏光谱测量
8
作者 姜海青 姚熹 +1 位作者 车俊 汪敏强 《压电与声光》 CAS CSCD 北大核心 2006年第3期353-356,共4页
采用溶胶-凝胶工艺与原位生长技术,制备了ZnSe/SiO2复合薄膜。X-射线衍射(XRD)分析表明,ZnSe/SiO2复合薄膜中ZnSe晶体为闪锌矿(立方ZnS)。利用椭偏光谱仪测量了不同ZnSe含量的ZnSe/SiO2复合薄膜的椭偏参数Δ与波长λ的色散关系,采用Maxw... 采用溶胶-凝胶工艺与原位生长技术,制备了ZnSe/SiO2复合薄膜。X-射线衍射(XRD)分析表明,ZnSe/SiO2复合薄膜中ZnSe晶体为闪锌矿(立方ZnS)。利用椭偏光谱仪测量了不同ZnSe含量的ZnSe/SiO2复合薄膜的椭偏参数Δ与波长λ的色散关系,采用Maxwell-Garnett(MG)有效介质理论对薄膜的光学常数、厚度、气孔率、ZnSe的浓度进行了计算。结果表明,单层ZnSe/SiO2薄膜厚度在300 nm以上时,随着溶胶体系Zn2+、SeO42-浓度的增加而增大,气孔率在30%左右,ZnSe含量约为溶胶体系中Zn2+、SeO42-浓度的1/2;通过MG有效介质理论的计算表明,可以通过调整旋涂次数及Zn2+、SeO42-浓度来调整薄膜的厚度和ZnSe/SiO2的摩尔比率,可在工艺上控制ZnSe/SiO2复合薄膜光学参数。 展开更多
关键词 znse/SiO2复合薄膜 椭偏光谱 光学常数 有效介质理论
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ZnSe薄膜的制备及掺杂研究
9
作者 李卫 文灿 +2 位作者 朱喆 张静全 武莉莉 《西华师范大学学报(自然科学版)》 2016年第1期51-55,124,共6页
ZnSe是一种宽禁带的Ⅱ-Ⅵ族半导体材料,适宜作为光电器件的功能层。通过磁控溅射方法制备了ZnSe薄膜并进行了掺杂改性。在溅射气体中通入N2的条件下制备了ZnSe掺N薄膜;采用共溅射法制备了ZnSe掺Al薄膜。对制备的薄膜进行了成分、结构、... ZnSe是一种宽禁带的Ⅱ-Ⅵ族半导体材料,适宜作为光电器件的功能层。通过磁控溅射方法制备了ZnSe薄膜并进行了掺杂改性。在溅射气体中通入N2的条件下制备了ZnSe掺N薄膜;采用共溅射法制备了ZnSe掺Al薄膜。对制备的薄膜进行了成分、结构、光学和电学性质表征。发现在不同沉积温度下可分别得到六方相和立方相ZnSe;掺杂后的薄膜光学吸收边发生变化,得到了N型和P型导电的薄膜,掺杂薄膜的暗态电导率随温度的变化偏离了Arrhenius关系,表明杂质的引入影响了ZnSe的电学性质。 展开更多
关键词 znse 薄膜 掺杂
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ZnSe薄膜的增强吸收光双稳
10
作者 张希清 范希武 +7 位作者 陈一民 杨爱华 郑著宏 Z.K.Tang 王永生 徐征 侯延冰 王振家 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第4期399-402,共4页
报道了用常压MOCVD生长的Znse薄膜的光学非线代在77K下用纳秒脉冲激光观测到ZnSe薄膜的增强吸收光双稳特性非线性机理可能是由激子Coulomb相互作用屏蔽引起的
关键词 光学非线性 薄膜 增强吸收光双稳 硒化锌 半导体
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沉积温度和速率对电子束沉积ZnSe薄膜应力特性的影响
11
作者 饶文萍 王颖 +1 位作者 章岳光 刘旭 《浙江大学学报(工学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第11期2059-2061,共3页
在不同沉积温度和速率下,采用电子束蒸发法制备ZnSe薄膜样品,利用ZYGO GPI型干涉仪测试样品的应力行为,并采用X射线衍射(XRD)技术测试样品的晶向特征.实验结果表明,在不同条件下制备的ZnSe薄膜均呈现压应力,应力随着沉积温度升高而增大,... 在不同沉积温度和速率下,采用电子束蒸发法制备ZnSe薄膜样品,利用ZYGO GPI型干涉仪测试样品的应力行为,并采用X射线衍射(XRD)技术测试样品的晶向特征.实验结果表明,在不同条件下制备的ZnSe薄膜均呈现压应力,应力随着沉积温度升高而增大,在200℃应力达到最大值,之后应力随沉积温度升高呈下降趋势.XRD结果表明,沉积速率直接影响ZnSe薄膜的晶向结构,进而改变ZnSe薄膜内应力;当沉积速率为1.5 nm/s时,薄膜应力最小. 展开更多
关键词 电子束沉积 znse薄膜 薄膜应力 沉积温度 沉积速率
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Si(001)外延ZnSe薄膜界面原子的结合与成键
12
作者 陈良艳 张道礼 +1 位作者 翟光美 张建兵 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2009年第8期66-70,共5页
基于密度泛函理论的第一性原理计算,通过对Si(001)和氮化Si(001)表面单层Zn/Se原子结合的方式,模拟ZnSe外延薄膜的二维生长模式,从单层原子结合能、界面原子电子得失、共价结合成键的角度解释了Zn/Se原子在衬底表面的黏附性问题,阐述了... 基于密度泛函理论的第一性原理计算,通过对Si(001)和氮化Si(001)表面单层Zn/Se原子结合的方式,模拟ZnSe外延薄膜的二维生长模式,从单层原子结合能、界面原子电子得失、共价结合成键的角度解释了Zn/Se原子在衬底表面的黏附性问题,阐述了薄膜生长初期界面无定形Se出现等现象,分析了氮化Si(001)表面对薄膜二维均匀生长的作用,结果显示N的引入缓和了Si衬底的非极性共价结合与ZnSe原子间的极性离子键结合之间的异质差异。 展开更多
关键词 第一性原理 结合能 共价成键 znse薄膜
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衬底温度对电子束沉积ZnSe薄膜性能影响研究 被引量:6
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作者 赵广宇 徐莉 +4 位作者 范杰 张家斌 兰云萍 邹永刚 马晓辉 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第6期209-216,共8页
为了研究衬底温度对硒化锌薄膜微观结构和光学特性的影响,采用电子束蒸发技术在K9玻璃基底上制备了单层的硒化锌薄膜。通过研究薄膜的X射线衍射谱、透射光谱特性、表面形貌及粗糙度,分析了不同衬底温度下薄膜微观晶体结构和光学特性的... 为了研究衬底温度对硒化锌薄膜微观结构和光学特性的影响,采用电子束蒸发技术在K9玻璃基底上制备了单层的硒化锌薄膜。通过研究薄膜的X射线衍射谱、透射光谱特性、表面形貌及粗糙度,分析了不同衬底温度下薄膜微观晶体结构和光学特性的变化规律。实验结果表明:在20~200℃的衬底温度范围内制备的ZnSe薄膜均为具有(111)晶面择优取向的纳米晶薄膜,随着衬底温度升高,基片上原子获得的动能增加,导致薄膜的晶粒尺寸变大、内应力和位错密度降低;同样在不同衬底温度下,薄膜的光学特性也不尽相同,随着衬底温度的升高,折射率和消光系数减小、光学带隙增加、薄膜的表面粗糙度降低。分析表明折射率下降是薄膜中空隙部分所占比例增加所致,而消光系数的下降是薄膜结晶度提高,内部缺陷减少造成的。 展开更多
关键词 znse薄膜 衬底温度 电子束蒸发 微观结构 光学特性
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ZnSe/ITO thin films:candidate for CdTe solar cell window layer
14
作者 A.A.Khurram M.Imran +1 位作者 Nawazish A.Khan M.Nasir Mehmood 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2017年第9期14-18,共5页
The crystal structure, electrical and optical properties of ZnSe thin films deposited on an In203 :Sn (ITO) substrate are evaluated for their suitability as the window layer of CdTe thin film solar cells. ZnSe thin... The crystal structure, electrical and optical properties of ZnSe thin films deposited on an In203 :Sn (ITO) substrate are evaluated for their suitability as the window layer of CdTe thin film solar cells. ZnSe thin films of 80, 90, and 100 nm thickness were deposited by a physical vapor deposition method on Indium tin oxide coated glass substrates. The lattice parameters are increased to 5.834 A when the film thickness was 100 rim, which is close to that of CdS. The crystallite size is decreased with the increase of film thickness. The optical transmission analysis shows that the energy gap for the sample with the highest thickness has also increased and is very close to 2.7 eV. The photo decay is also studied as a function of ZnSe film thickness. 展开更多
关键词 znse thin films ITO substrate XRD optical transmission photodecay
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Ⅱ-Ⅵ族硒化物薄膜的研究进展 被引量:1
15
作者 张叶 《太原师范学院学报(自然科学版)》 2006年第3期77-79,共3页
文章阐述了以ZnSe和CdSe为代表的Ⅱ-Ⅵ族硒化物薄膜的最新发展和研究现状,从应用、性能及其工艺等方面分析了它们的优势和不足之处,最后对Ⅱ-Ⅵ族硒化物薄膜的发展趋势进行了讨论和预测.
关键词 Ⅱ-Ⅵ族硒化物薄膜 znse薄膜 CDSE薄膜 应用 工艺
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ZnSe/SiO_2复合薄膜光学常数与荧光光谱的研究 被引量:4
16
作者 姜海青 姚熹 +1 位作者 车俊 汪敏强 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期2084-2091,共8页
采用溶胶-凝胶工艺与原位生长技术,制备了ZnSe/SiO_2复合薄膜.X射线衍射分析表明薄膜中ZnSe晶体呈立方闪锌矿结构.X射线荧光分析结果显示薄膜中Zn与Se摩尔比为1∶1·01—1∶1·19.利用场发射扫描电子显微镜观察了复合薄膜的表... 采用溶胶-凝胶工艺与原位生长技术,制备了ZnSe/SiO_2复合薄膜.X射线衍射分析表明薄膜中ZnSe晶体呈立方闪锌矿结构.X射线荧光分析结果显示薄膜中Zn与Se摩尔比为1∶1·01—1∶1·19.利用场发射扫描电子显微镜观察了复合薄膜的表面形貌,结果表明复合薄膜表面既存在尺寸约为400nm的ZnSe晶粒,也存在尺寸小于100nm的nSe晶粒.利用椭偏仪测量了薄膜椭偏角Ψ,Δ与波长λ的关系,采用Maxwell-Garnett有效介质理论对薄膜的光学常数、厚度、气孔率、ZnSe的浓度进行了数据拟合.利用荧光光谱分析了薄膜的光致发光,结果表明在波长为395nm的激发光下,487nm的发射峰对应着闪锌矿型ZnSe的带边发射,同时也观测到薄膜中ZnSe晶体增强的自由激子发射及伴随着ZnSe晶体缺陷而产生的辐射发光. 展开更多
关键词 znse/SiO2复合薄膜 光学性质 椭偏光度法 荧光光谱
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Dy掺杂对ZnSe薄膜微结构的影响
17
作者 吴蓉 李蓉萍 +2 位作者 何志刚 安晓晖 李忠贤 《稀土》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第3期60-63,共4页
利用真空蒸发的方法制备ZnSe多晶薄膜,并采用双源法对薄膜进行了Dy的掺杂。用XRD、紫外可见分光光度仪对薄膜的性质进行了表征。结果表明,当Zn、Se原子配比为0.9∶1时可制备较理想的ZnSe多晶薄膜,稀土Dy掺杂并未改变样品的物相结构,但... 利用真空蒸发的方法制备ZnSe多晶薄膜,并采用双源法对薄膜进行了Dy的掺杂。用XRD、紫外可见分光光度仪对薄膜的性质进行了表征。结果表明,当Zn、Se原子配比为0.9∶1时可制备较理想的ZnSe多晶薄膜,稀土Dy掺杂并未改变样品的物相结构,但掺杂使薄膜的晶格常数及晶胞体积略有增大,还使得薄膜的晶粒尺寸及压应力变小,掺杂后薄膜的光透射性得到改善。 展开更多
关键词 znse薄膜 微结构 真空蒸发 掺杂
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在ZnO/Si衬底上ZnCdSe/ZnSe多量子阱的生长与光学特性 被引量:1
18
作者 王晓华 范希武 +2 位作者 单崇新 张振中 刘益春 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期297-300,共4页
在经NH3 等离子体氮化的Si(10 0 )衬底上 ,用等离子体增强化学气相淀积 (PECVD)的方法生长了ZnO缓冲层 ,经X射线衍射 (XRD)测量 ,得到了单一取向的ZnO(0 0 0 2 )膜。在此ZnO缓冲层上利用低压金属有机化学气相淀积 (LP MOCVD)方法生长了... 在经NH3 等离子体氮化的Si(10 0 )衬底上 ,用等离子体增强化学气相淀积 (PECVD)的方法生长了ZnO缓冲层 ,经X射线衍射 (XRD)测量 ,得到了单一取向的ZnO(0 0 0 2 )膜。在此ZnO缓冲层上利用低压金属有机化学气相淀积 (LP MOCVD)方法生长了较高质量的ZnCdSe/ZnSe量子阱。通过不同阱宽的ZnCdSe/ZnSe量子阱生长和测量 ,得到了多级共振拉曼峰。从发光谱中可见 ,在 5 2 0nm附近有很强的发光 ,而在未覆盖ZnO的Si衬底上直接生长的ZnCdSe/ZnSe量子阱结构 ,其光致发光 (PL)谱未见发光。可见 ,在氮化的Si衬底上覆盖ZnO膜生长的ZnCdSe/ZnSe量子阱质量较好 ,是一种在Si衬底上生长Ⅱ 展开更多
关键词 薄膜物理学 ZnO/Si衬底 ZnCdSe/znse量子阱 低压金属有机化学气相淀积 生长 光学特性
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红外短波/长波分色片的研究 被引量:7
19
作者 章岳光 王颖 +3 位作者 孙雪铮 沈伟东 刘旭 顾培夫 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第2期597-601,共5页
短波红外/长波红外分色片在红外双波段成像光学系统中起着重要的作用。分析了分色片基板和薄膜材料的选择。选定硒化锌为基板,采用Ge,ZnSe和YbF3作为薄膜材料进行了优化设计,并对沉积温度和蒸发速率等工艺条件进行了优化,用电子束蒸发... 短波红外/长波红外分色片在红外双波段成像光学系统中起着重要的作用。分析了分色片基板和薄膜材料的选择。选定硒化锌为基板,采用Ge,ZnSe和YbF3作为薄膜材料进行了优化设计,并对沉积温度和蒸发速率等工艺条件进行了优化,用电子束蒸发方法制备了该分色片,其反射率和透射率都达到了93%以上,已成功应用于实际光学系统中。 展开更多
关键词 薄膜光学 分色片 硒化锌基板 红外双波段成像光学系统
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非线性干涉滤光片N形反射光双稳器件的研究 被引量:1
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作者 王纳新 孙德贵 翁兆恒 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第3期308-310,共3页
对N形反射光双稳器件的结构进行了理论设计和实验研究。对光双稳的重要参数δI0、δIr与初始失调量δ之间的关系进行了描绘,并通过引入ZnSe薄膜的色散关系,使这一理论方法具有自洽性。最后。
关键词 非线性 干涉滤光片 N形反射光 双稳器件
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