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氩气和氪气磁控溅射对Zr-Co-RE薄膜微观结构和吸氢性能的影响
1
作者 周超 马占吉 +3 位作者 何延春 杨拉毛草 王虎 李得天 《真空与低温》 2024年第1期83-89,共7页
为了获得吸气性能较好的Zr-Co-RE(RE为La和Ce稀土元素)吸气剂薄膜,采用直流磁控溅射方法,分别在氩气和氪气气氛中,通过改变沉积气压研究制备了不同结构的Zr-Co-RE薄膜。运用场发射扫描电镜、X射线衍射仪分析了不同溅射气压下溅射气氛对... 为了获得吸气性能较好的Zr-Co-RE(RE为La和Ce稀土元素)吸气剂薄膜,采用直流磁控溅射方法,分别在氩气和氪气气氛中,通过改变沉积气压研究制备了不同结构的Zr-Co-RE薄膜。运用场发射扫描电镜、X射线衍射仪分析了不同溅射气压下溅射气氛对薄膜结构的影响;采用动态定压法分别测试了在氩气和在氪气中沉积的薄膜的吸氢性能,分析了溅射气氛和薄膜结构对吸氢性能的影响。结果表明,在同等气压下,用氩气溅射沉积的薄膜较致密,用氪气溅射沉积的薄膜表面分布有较多的团簇结构和裂纹结构,薄膜呈明显的柱状结构,且柱状组织间分布着大量的界面和间隙,为气体扩散提供了更多的路径;随着氩气和氪气气压增大,薄膜含有更多的裂纹和间隙结构,连续性柱状结构生长更明显,裂纹更深更宽,比表面积更大,有利于提高薄膜的吸氢性能。 展开更多
关键词 zr-Co-RE薄膜 直流磁控溅射 氪气 溅射气压 微观结构 吸氢性能
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Influence of Negative Bias Voltage on the Mechanical and Tribological Properties of MoS_2/Zr Composite Films 被引量:1
2
作者 宋文龙 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2011年第3期412-416,共5页
MoS2/Zr composite films were deposited on the cemented carbide YT14 (WC+14%TiC+6%Co) by medium-frequency magnetron sputtered and coupled with multi-arc ion plated techniques.The influence of negative bias voltage ... MoS2/Zr composite films were deposited on the cemented carbide YT14 (WC+14%TiC+6%Co) by medium-frequency magnetron sputtered and coupled with multi-arc ion plated techniques.The influence of negative bias voltage on the composite film properties,including adhesion strength,micro-hardness,thickness and tribological properties were investigated.The results showed that proper negative bias voltage could significantly improve the mechanical and tribological properties of composite films.The effects of negative bias voltage on film properties were also put forward.The optimal negative bias voltage was -200 V under this experiment conditions.The obtained composite films were dense,the adhesion strength was about 60 N,the thickness was about 2.4 μm,and the micro-hardness was about 9.0 GPa.The friction coefficient and wear rate was 0.12 and 2.1×10-7 cm3/N·m respectively after 60 m sliding operation against hardened steel under a load of 20 N and a sliding speed of 200 rev·min-1. 展开更多
关键词 medium-frequency magnetron sputtering multi-arc ion plating negative bias voltage MoS2/zr composite films tribological properties
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Influence of Annealing Time on the Microstructure and Properties of Pb(Zr_(0.53)Ti_(0.47))O_3 Thin Films 被引量:1
3
作者 HUANG Ling MAO Wei +2 位作者 HUANG Zhixiong SHI Minxian MEI Qinlin 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2012年第1期88-91,共4页
The PZT thin films were prepared on (111)- Pt/Ti/SiO2/Si substrates by sol-gel method, and lead acetate [Pb(CH3COO)2], zirconium nitrate [Zr(NO3)4] were used as raw materials. The X-ray diffractometer (XRD) an... The PZT thin films were prepared on (111)- Pt/Ti/SiO2/Si substrates by sol-gel method, and lead acetate [Pb(CH3COO)2], zirconium nitrate [Zr(NO3)4] were used as raw materials. The X-ray diffractometer (XRD) and scanning electron microscopy (SEM) were used to characterize the phase structure and surface morphology of the films annealed at 650 ~C but with different holding time. Ferroelectric and dielectric properties of the films were measured by the ferroelectric tester and the precision impedance analyzer, respectively. The PZT thin films were constructed with epoxy resin as a composite structure, and the damping properties of the composite were tested by dynamic mechanical analyzer (DMA). The results show that the films annealed for 90 minutes present a dense and compact crystal arrangement on the surface; moreover, the films also achieve their best electric quality. At the same time, the largest damping loss factor of the composite constructed with the 90 mins-annealed film shows peak value of 0.9, hi^her than the pure epoxy resin. 展开更多
关键词 sol-gel method Pb(zr0.53Ti0.47)O3 thin film surface feature ferroelectric and dielectricproperty damping property
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(Zr,Ti)O_(4)基微波薄膜介质基片制备关键工艺研究
4
作者 江俊俊 康建宏 +2 位作者 汪小玲 刘杨琼 赵杨军 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第S01期42-46,共5页
素坯成型工艺对微波陶瓷材料在微波薄膜介质基片产品中的工程化应用具有关键影响。目前关于(Zr,Ti)O_(4)主晶相系统微波介质陶瓷材料的研究主要集中在降低(Zr,Ti)O_(4)陶瓷烧结温度、掺杂改性优化其介电性能、Q×f值(品质因数与频... 素坯成型工艺对微波陶瓷材料在微波薄膜介质基片产品中的工程化应用具有关键影响。目前关于(Zr,Ti)O_(4)主晶相系统微波介质陶瓷材料的研究主要集中在降低(Zr,Ti)O_(4)陶瓷烧结温度、掺杂改性优化其介电性能、Q×f值(品质因数与频率的乘积)等配方优化方面。本文以(Zr,Ti)-O4基微波陶瓷材料为原材料,通过研究中介微波薄膜介质基片关键成型工艺对其物相结构、微观形貌和介电性能的影响,发现不同素坯成型工艺方式对(Zr,Ti)O_(4)基陶瓷的致密度、介质损耗值、Q×f值等影响显著。采用方式四进行薄膜介质基片的制备,获得的(Zr,Ti)O_(4)基薄膜介质基片致密度较高,气孔率低,陶瓷材料的介质损耗低至1.1×10^(-4),15 GHz下Q×f值高达50000。本文通过对不同素坯成型方式的研究,以期为(Zr,Ti)O_(4)基微波陶瓷材料薄膜介质基片的工程化应用提供理论支撑。 展开更多
关键词 (zr Ti)O_(4) 薄膜介质基片 工程化应用 微波陶瓷材料 成型工艺 介电性能
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CuO-Zr复合膜的制备及其反应光声光谱研究 被引量:5
5
作者 胡艳 崔庆华 +1 位作者 叶迎华 沈瑞琪 《火工品》 CAS CSCD 北大核心 2007年第6期25-28,共4页
以CuO和Zr为靶材,利用磁控溅射技术,采用最佳工艺条件,在载玻片衬底上沉积了Zr/CuO和CuO/Zr复合膜。利用X射线衍射、扫描电镜和反应性光声光谱技术分别对薄膜样品的晶体结构、表面形貌和反应特性进行了分析和表征。结果表明:复合膜中的Z... 以CuO和Zr为靶材,利用磁控溅射技术,采用最佳工艺条件,在载玻片衬底上沉积了Zr/CuO和CuO/Zr复合膜。利用X射线衍射、扫描电镜和反应性光声光谱技术分别对薄膜样品的晶体结构、表面形貌和反应特性进行了分析和表征。结果表明:复合膜中的Zr和CuO均以晶相形式存在,复合膜由近似球状的纳米粒子构成,在激光能量的刺激下CuO-Zr复合薄膜发生了氧化-还原反应。 展开更多
关键词 磁控溅射 CuO薄膜 zr薄膜 反应性光声光谱
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Mg-Gd-Y-Zr合金表面含硫硅烷薄膜的结构与耐蚀性能 被引量:12
6
作者 陈明安 杨汐 +3 位作者 张新明 李慧中 路学斌 刘超仁 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期24-29,共6页
采用分子自组装的方法在Mg-Gd-Y-Zr合金表面制备双-(γ-三乙氧基硅丙基)四硫化物硅烷薄膜。通过傅立叶变换红外光谱研究薄膜结构特性,用扫描电镜观察薄膜表面形貌,并用电化学极化曲线和交流阻抗测试研究薄膜的耐蚀性能。结果表明,镁合... 采用分子自组装的方法在Mg-Gd-Y-Zr合金表面制备双-(γ-三乙氧基硅丙基)四硫化物硅烷薄膜。通过傅立叶变换红外光谱研究薄膜结构特性,用扫描电镜观察薄膜表面形貌,并用电化学极化曲线和交流阻抗测试研究薄膜的耐蚀性能。结果表明,镁合金表面薄膜通过SiOSi链接形成网状结构,并可能通过形成SiOMg界面相结构与镁合金表面连接;晶界上薄膜厚度小于其他各处;薄膜将腐蚀电流密度降低2个数量级以上,明显提高了盐水浸泡过程中的阻抗值。 展开更多
关键词 MG-GD-Y-zr合金 硅烷 薄膜 腐蚀
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N_2流量比对复合磁控溅射Zr-B-N薄膜结构和性能的影响 被引量:7
7
作者 王铁钢 郭玉垚 +3 位作者 唐宽瑜 刘艳梅 林伟 姜肃猛 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第11期210-217,共8页
目的在反应沉积时补充金属离子,增加薄膜中金属氮化物硬质相的数量,优化复合磁控溅射Zr-B-N薄膜的制备工艺,揭示N_2流量比(N_2/(N_2+Ar))对Zr-B-N薄膜结构和性能的影响规律,进一步强化Zr-B-N纳米复合薄膜。方法采用高功率脉冲磁控溅射... 目的在反应沉积时补充金属离子,增加薄膜中金属氮化物硬质相的数量,优化复合磁控溅射Zr-B-N薄膜的制备工艺,揭示N_2流量比(N_2/(N_2+Ar))对Zr-B-N薄膜结构和性能的影响规律,进一步强化Zr-B-N纳米复合薄膜。方法采用高功率脉冲磁控溅射和脉冲直流磁控溅射复合镀膜技术沉积Zr-B-N薄膜,借助X射线衍射仪、能谱仪、扫描电镜、纳米压痕仪、划痕测试仪和摩擦试验机,研究N_2流量比对Zr-B-N薄膜成分、微观结构、力学性能和摩擦性能的影响。结果Zr-B-N薄膜具有典型的纳米复合结构,即BN非晶层包裹着ZrB_2、Zr_3N_4、Zr_2N、Zr N等纳米晶,所有Zr-B-N薄膜均沿(100)晶面择优生长。随着N_2流量的增加,(100)晶面的衍射峰宽化加剧;薄膜硬度由36.2 GPa下降到21.0 GPa;膜/基结合力逐渐增强,临界载荷从34.8 N增加到55.8 N;摩擦系数逐渐增大。当N_2流量比为42.9%时,摩擦系数相对较低,约为0.48,归因于薄膜内形成了沿(220)晶面生长的ZrN相,从而起到了良好的减摩作用。结论当N_2流量比为42.9%时,Zr-B-N薄膜具有纳米复合结构和良好的各项性能。 展开更多
关键词 纳米复合薄膜 zr-B-N薄膜 显微硬度 膜/基结合力 摩擦系数
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透明导电薄膜ZnO∶Zr的制备及特性研究 被引量:2
8
作者 张化福 类成新 +1 位作者 刘汉法 袁长坤 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2009年第1期61-65,共5页
利用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备出了可见光透过率高、电阻率低的ZnO∶Zr(ZZO)透明导电薄膜。讨论了溅射功率对ZZO薄膜结构、形貌及光电性能的影响。研究结果表明,溅射功率对ZZO薄膜的结构和电学性能有很大影响。实验制备的ZZO薄膜... 利用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备出了可见光透过率高、电阻率低的ZnO∶Zr(ZZO)透明导电薄膜。讨论了溅射功率对ZZO薄膜结构、形貌及光电性能的影响。研究结果表明,溅射功率对ZZO薄膜的结构和电学性能有很大影响。实验制备的ZZO薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有垂直于衬底方向的c轴择优取向。在溅射功率为115W时,ZZO薄膜的电阻率具有最小值1.9×10-3Ω.cm,其霍尔迁移率和载流子浓度分别为18.7cm2.V-1.s-1和2.07×1020cm-3。所制备ZZO薄膜样品具有良好的附着性能,其可见光区平均透过率均超过92%。 展开更多
关键词 ZnO∶zr薄膜 透明导电薄膜 溅射功率 磁控溅射
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微波-ECR等离子体辅助沉积Zr-N薄膜结构和性能研究 被引量:3
9
作者 刘天伟 邓新禄 +2 位作者 王小英 王英敏 董闯 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期334-338,342,共6页
在不同氮流量下 ,利用微波 ECR等离子体溅射沉积技术在 4 5 # 钢基体上制备了ZrN薄膜。XRD、TEM分析结果表明 :随着充入N2 流量的改变 ,薄膜结构由单一的ZrN结构向ZrN和ZrNx 复合结构转变 ,然后出现非晶态结构。当N2 流量在 (2~ 8)scc... 在不同氮流量下 ,利用微波 ECR等离子体溅射沉积技术在 4 5 # 钢基体上制备了ZrN薄膜。XRD、TEM分析结果表明 :随着充入N2 流量的改变 ,薄膜结构由单一的ZrN结构向ZrN和ZrNx 复合结构转变 ,然后出现非晶态结构。当N2 流量在 (2~ 8)sccm之间 ,薄膜为ZrN结构 ;在 (10~ 12 )sccm时 ,为ZrN和正交的ZrNx(a =0 35 85nm ,b =0 4 4 4 3nm ,c =0 5 798nm)混合型结构 ;14sccm时出现非晶化趋势。俄歇电子谱仪 (AES)和探针分析表明 :薄膜中氮含量为 7 73%~ 6 6 96 %。同时对薄膜的硬度进行了测试 ,薄膜硬度在 19 82GPa~ 2 6 32GPa之间 ,随氮值的变化 ,先增加后降低。对硬度最高的 4 # 样品进行了摩擦性能测试 ,磨损率约 4 5× 10 -8mg/min。薄膜这些性能的变化是由于不同氮流量下薄膜结构发生变化造成的。 展开更多
关键词 薄膜结构 等离子体 俄歇电子谱 溅射沉积 正交 非晶态结构 XRD 薄膜硬度 钢基体 45^#钢
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利用直流磁控溅射法在柔性衬底上制备ZnO:Zr新型透明导电薄膜(英文) 被引量:6
10
作者 张化福 类成新 +1 位作者 刘汉法 袁长坤 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第3期732-737,共6页
室温下利用直流磁控溅射法在有ZnO缓冲层的柔性衬底PET上制备出了可见光透过率高、电阻率低的掺锆氧化锌(ZnO∶Zr)透明导电薄膜,研究了厚度对ZnO∶Zr薄膜结构及光电性能的影响。结果表明,ZnO∶Zr薄膜为六方纤锌矿结构的多晶薄膜。实验获... 室温下利用直流磁控溅射法在有ZnO缓冲层的柔性衬底PET上制备出了可见光透过率高、电阻率低的掺锆氧化锌(ZnO∶Zr)透明导电薄膜,研究了厚度对ZnO∶Zr薄膜结构及光电性能的影响。结果表明,ZnO∶Zr薄膜为六方纤锌矿结构的多晶薄膜。实验获得ZnO∶Zr薄膜的最小电阻率为2.4×10-3Ω.cm,其霍尔迁移率为18.9 cm2.V-1.s-1,载流子浓度为2.3×1020cm-3。实验制备的ZnO∶Zr薄膜具有良好的附着性能,其可见光平均透过率超过92%。 展开更多
关键词 ZnO∶zr薄膜 柔性衬底 直流磁控溅射 透明导电薄膜
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Zr掺杂类金刚石薄膜摩擦性能及耐腐蚀性能的影响 被引量:12
11
作者 陈美容 曾宪光 +1 位作者 孙德恩 黄佳木 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第6期138-142,共5页
目的改善不锈钢摩擦性能及耐腐蚀性能。方法通过线性阳极层离子源辅助非平衡磁控溅射法,制备了不同Zr含量的类金刚石(DLC)薄膜,采用扫描电子显微镜、拉曼光谱仪、纳米硬度仪、高温销盘磨损仪、电化学工作站,对薄膜的化学成分、显微结构... 目的改善不锈钢摩擦性能及耐腐蚀性能。方法通过线性阳极层离子源辅助非平衡磁控溅射法,制备了不同Zr含量的类金刚石(DLC)薄膜,采用扫描电子显微镜、拉曼光谱仪、纳米硬度仪、高温销盘磨损仪、电化学工作站,对薄膜的化学成分、显微结构、纳米硬度、薄膜摩擦性能及耐腐蚀性能进行测试研究。结果随着Zr靶功率的增大,Zr含量线性增加。Zr含量从4.9%增加至16.3%时,I_D/I_G增大,薄膜硬度从12.1 GPa逐渐下降至8.4 GPa;Zr含量增大至21.2%时,I_D/I_G减小,薄膜硬度增大至11.4 GPa。涂镀类金刚石薄膜的不锈钢基体比无涂层的不锈钢基体有更低的摩擦系数,更好的耐磨损性能。Zr掺杂DLC薄膜的最小摩擦系数为0.07。Zr含量从4.9%增加至16.3%,DLC薄膜的耐腐蚀性能减弱;Zr含量继续增加,DLC薄膜的耐腐蚀性能增强。当Zr含量不大于11.9%时,沉积Zr掺杂DLC膜的不锈钢基体的耐腐蚀性能比不锈钢基体的更强。结论 Zr含量不大于11.9%时,Zr掺杂类金刚石薄膜既可以有效地改善不锈钢基体的摩擦磨损性能,又可以大幅提高耐腐蚀性能。 展开更多
关键词 zr掺杂类金刚石膜 显微结构 硬度 结合力 摩擦性能 腐蚀性能
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真空阴极离子镀法制备Ti/TiN/Zr/ZrN多层膜 被引量:9
12
作者 李福球 洪瑞江 +2 位作者 余志明 代明江 林松盛 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2009年第10期17-19,共3页
过去,在不锈钢上沉积10μm以上多元多层软硬交替Ti/TiN/Zr/ZrN厚膜用以提高材料耐腐蚀性能的报道不多。采用阴极电弧离子镀结合脉冲偏压的方法制备了厚度达15μm的Ti/TiN/Zr/ZrN多层膜。运用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、显微硬度计... 过去,在不锈钢上沉积10μm以上多元多层软硬交替Ti/TiN/Zr/ZrN厚膜用以提高材料耐腐蚀性能的报道不多。采用阴极电弧离子镀结合脉冲偏压的方法制备了厚度达15μm的Ti/TiN/Zr/ZrN多层膜。运用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、显微硬度计、划痕仪等考察了多层膜的形貌、厚度、相组成、硬度以及膜/基结合力,并利用电化学方法评价了基体、单层TiN薄膜以及多层膜的电化学腐蚀性能。结果表明:制备的Ti/TiN/Zr/ZrN多层膜界面明晰、结构致密、晶粒细小;膜/基结合力大于70 N,显微硬度达28 GPa;多层膜比单层TiN膜在提高1Cr11Ni2W2MoV基体的抗腐蚀能力方面具有更显著的作用。 展开更多
关键词 离子镀 Ti/TiN/zr/zrN多层膜 显微结构 耐腐蚀性
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氮气流量对ZrN/Zr薄膜色度特性的影响 被引量:3
13
作者 李新领 周志男 +3 位作者 孙维连 孙铂 王会强 安广 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第3期13-15,41,共4页
采用中频孪生靶磁控溅射技术,在不锈钢和铝基体上沉积出ZrN/Zr薄膜,表征了薄膜的厚度、色度及表面形貌,研究了氮气流量对ZrN/Zr薄膜的沉积速率和色度的影响。结果表明:随着氮气流量的增加,薄膜的沉积速率先降低,后升高,氮气流量在2.5... 采用中频孪生靶磁控溅射技术,在不锈钢和铝基体上沉积出ZrN/Zr薄膜,表征了薄膜的厚度、色度及表面形貌,研究了氮气流量对ZrN/Zr薄膜的沉积速率和色度的影响。结果表明:随着氮气流量的增加,薄膜的沉积速率先降低,后升高,氮气流量在2.5×10-10~3.5×10-10m3/s范围内时对薄膜的沉积速率影响很小;随着氮气流量的变化,薄膜的颜色呈现规律性的变化,在氮气流量2.5×10-10~3.5×10-10m3/s范围内,可以制备出色彩亮丽的仿金薄膜ZrN,且膜层致密。 展开更多
关键词 氮气流量 zrN zr薄膜 色度 沉积速率 中频孪生靶
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室温磁控溅射制备(Ti,Zr)N薄膜及其性能研究 被引量:5
14
作者 黄佳木 徐成俊 王亚平 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2005年第5期517-520,共4页
采用直流反应磁控溅射工艺,在载波片和Al基材上制备出金黄色的(Ti,Zr)N薄膜。(Ti,Zr)N薄膜具有比TiN薄膜更高的硬度和更强的耐腐蚀性能。用XRD衍射方法和扫描隧道显微镜对薄膜的晶体结构、微观表面形貌和电子结构进行了测试分析。XRD结... 采用直流反应磁控溅射工艺,在载波片和Al基材上制备出金黄色的(Ti,Zr)N薄膜。(Ti,Zr)N薄膜具有比TiN薄膜更高的硬度和更强的耐腐蚀性能。用XRD衍射方法和扫描隧道显微镜对薄膜的晶体结构、微观表面形貌和电子结构进行了测试分析。XRD结果表明,(Ti,Zr)N薄膜为多晶态,存在TiN和ZrN两种分离相;从表面形貌可知,薄膜表面平整,晶粒排列致密且无连接松散的大颗粒;STS谱表明,Zr掺杂后,禁带宽度仍为1.64eV,但在禁带内增加了新能级,新能级的宽度分别为0.33eV和0.42eV,这也正是掺杂Zr后,薄膜仍呈现金黄色的主要原因。 展开更多
关键词 (Ti zr)N薄膜 金黄色 表面形貌 电子结构 多晶态
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在柔性衬底上制备透明导电薄膜ZnO:Zr(英文) 被引量:1
15
作者 张化福 类成新 +2 位作者 刘汉法 袁玉珍 袁长坤 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第2期153-157,共5页
采用射频磁控溅射法在室温柔性衬底PET上制备了掺锆氧化锌(ZZO)透明导电薄膜。利用不同方法提高了ZZO薄膜的电阻率而未使其可见光透过率降低。X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)表明,ZZO薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜。在有机衬底... 采用射频磁控溅射法在室温柔性衬底PET上制备了掺锆氧化锌(ZZO)透明导电薄膜。利用不同方法提高了ZZO薄膜的电阻率而未使其可见光透过率降低。X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)表明,ZZO薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜。在有机衬底和玻璃衬底上制备ZZO薄膜的择优取向不同,前者为(100)晶面,而后者为(002)晶面。在有ZnO缓冲层的PET衬底上制备的ZZO薄膜电阻率比直接生长在玻璃衬底样品上的小。通过优化参数,在PET衬底上制备出了最小电阻率为1.7×10-3Ω.cm、可见光透过率超过93%的ZZO薄膜。实验表明,镀膜之前在柔性衬底上沉积ZnO缓冲层能有效地提高ZZO薄膜的质量。 展开更多
关键词 掺锆氧化锌薄膜 柔性衬底 磁控溅射 透明导电薄膜
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Zr-Nb合金耐腐蚀性能的研究进展 被引量:12
16
作者 王荣山 翁立奎 +2 位作者 张晏玮 耿建桥 王锦红 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第13期105-109,共5页
概述了反应堆燃料包壳用Zr-Nb合金耐腐蚀性能的研究进展,结合氧化膜结构及第二相与耐腐蚀性能的关系,介绍了Nb含量和热处理制度对Zr-Nb合金组织和耐腐蚀性能的影响,指出Zr-Nb合金基体中的Nb含量对合金耐腐蚀性能起主导作用,选择合适的N... 概述了反应堆燃料包壳用Zr-Nb合金耐腐蚀性能的研究进展,结合氧化膜结构及第二相与耐腐蚀性能的关系,介绍了Nb含量和热处理制度对Zr-Nb合金组织和耐腐蚀性能的影响,指出Zr-Nb合金基体中的Nb含量对合金耐腐蚀性能起主导作用,选择合适的Nb含量和热处理制度,可以大大提高Zr-Nb合金的耐腐蚀性能。 展开更多
关键词 锆合金 腐蚀性能 氧化膜 热处理
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反应溅射Zr-Si-N复合膜的微结构与力学性能 被引量:3
17
作者 刘艳 董云杉 +2 位作者 黄家桢 张利中 李戈扬 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期200-203,共4页
在Ar、N2混合气氛中,通过双靶反应磁控溅射方法制备了一系列不同Si含量的Zr-Si-N复合薄膜,采用EDS、XRD、SEM、AFM和微力学探针表征了复合膜的成分、相组成、微结构和力学性能。结果表明:随着Si的加入,Si3N4界面相形成于ZrN晶粒表面并... 在Ar、N2混合气氛中,通过双靶反应磁控溅射方法制备了一系列不同Si含量的Zr-Si-N复合薄膜,采用EDS、XRD、SEM、AFM和微力学探针表征了复合膜的成分、相组成、微结构和力学性能。结果表明:随着Si的加入,Si3N4界面相形成于ZrN晶粒表面并阻止其长大。低Si含量下,晶粒的细化使Zr-Si-N薄膜得到强化,在Si含量为6.2at%时其硬度和弹性模量分别达到最高值29.8 GPa和352 GPa。继续增加Si的含量,薄膜逐渐向非晶态转变,同时产生ZrxSiy相,并伴随有明显的力学性能降低。Zr-Si-N薄膜力学性能增加受到限制,可能与Si3N4界面相和ZrN晶粒之间的低润湿性有关。 展开更多
关键词 zr-Si-N薄膜 反应溅射 微结构 力学性能
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氢等离子体作用下的Zr薄膜氢化特性研究 被引量:1
18
作者 施立群 晏国强 +3 位作者 周筑颖 胡佩钢 罗顺中 丁伟 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第9期979-982,共4页
本文研究Zr薄膜在等离子体作用下的氢化特性.测试表明,与分子氢相比,氢等离子体作用下氢化速率明显增高,在室温和≈2Pa氢压的DC放电条件下,氧化10 min样品的氢化浓度可达饱和值,即 66.07(原子分数,%),远大于该压强下的气体氢化浓度.... 本文研究Zr薄膜在等离子体作用下的氢化特性.测试表明,与分子氢相比,氢等离子体作用下氢化速率明显增高,在室温和≈2Pa氢压的DC放电条件下,氧化10 min样品的氢化浓度可达饱和值,即 66.07(原子分数,%),远大于该压强下的气体氢化浓度. 在非超清洁系统中,等离子体氢化在样品表面产生大量的氧污染和少量的碳污染.少量的表面氧化物并不阻碍等离子体氢化,但随着污染的增加,氢化浓度却大大减少.Ni对样品表面氢分子解离吸附和氢原子再结合逸出有着不同程度的催化作用,在低的放电压强和放电电流下,表面镀Ni使Zr的稳态氢化浓度减小;而在高压强、低电流下,表面镀Ni可增加 Zr的氢化效率. 展开更多
关键词 氢等离子体 氢化 锆薄膜
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Zr-Nb合金氧化膜物相及结构分析 被引量:4
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作者 李佩志 邝用庚 +1 位作者 祝洪耀 高玉良 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 1996年第1期13-16,共4页
研究了Zr—2.5Nb和Zr—1.0Nb—0.5Fe合金的氧化膜结构。XRD分析表明,Zr—2.5Nb合金氧化膜主要由单斜型(ZrO2)M组成,还存在(ZrO2)x变态。对Zr—1.0Nb—0.5Fe合金的氧化膜进行... 研究了Zr—2.5Nb和Zr—1.0Nb—0.5Fe合金的氧化膜结构。XRD分析表明,Zr—2.5Nb合金氧化膜主要由单斜型(ZrO2)M组成,还存在(ZrO2)x变态。对Zr—1.0Nb—0.5Fe合金的氧化膜进行了TEM分析,得到了清晰的晶粒及孪晶亚结构。 展开更多
关键词 氧化膜 晶粒 孪晶 锆铌合金
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α-Zr基体显微组织对新锆合金氧化膜的形成及其耐腐蚀性能的影响 被引量:5
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作者 章海霞 李中奎 +2 位作者 许并社 王永祯 周廉 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第8期8062-8066,共5页
通过静态高压釜实验研究了NZ2、NZ8两种含Nb锆合金在400℃/10.3MPa蒸汽中的腐蚀规律;透射电镜及中子衍射对两种新锆合金α-Zr基体的显微结构进行分析;X射线衍射法、拉曼光谱法研究了它们在400℃蒸汽中腐蚀后氧化膜的晶体结构。腐蚀规律... 通过静态高压釜实验研究了NZ2、NZ8两种含Nb锆合金在400℃/10.3MPa蒸汽中的腐蚀规律;透射电镜及中子衍射对两种新锆合金α-Zr基体的显微结构进行分析;X射线衍射法、拉曼光谱法研究了它们在400℃蒸汽中腐蚀后氧化膜的晶体结构。腐蚀规律研究表明,400℃蒸汽中,NZ2合金的耐腐蚀性能较NZ8的好。α-Zr基体的显微结构研究显示,NZ2合金第二相粒子主要包括C14型Zr(Fe,Cr)2和Zr(Fe,Cr,Nb)2两种类型,α-Zr基体中固溶的Nb含量低于平衡固溶度;NZ8合金中只发现了一种Zr-Fe-Nb第二相粒子,Nb元素过饱和存在于α-Zr基体。氧化膜晶体结构研究显示,转折前氧化膜由四方相和单斜相组成,转折时,氧化膜内部出现了立方相,立方相的形成与Nb的添加密切相关;氧化膜中四方相含量越高,锆合金的耐腐蚀性能越好。大量Zr-Fe-Nb第二相粒子以及α-Zr基体中过饱和的Nb含量增加了NZ8合金氧化膜局部体积膨胀,促进了裂纹的生成,加速了氧化膜内部四方相向单斜相的转变,从而使腐蚀加速,而α-Zr基体中低于平衡固溶度的Nb含量及少量Zr(Fe,Cr)2和Zr(Fe,Cr,Nb)2第二相粒子使NZ2合金耐腐蚀性能相对较好。 展开更多
关键词 耐蚀性能 NB含量 第二相粒子 氧化膜 α-zr基体
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