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Structural,optical,and electrical properties of Cu-doped ZrO_2 films prepared by magnetron co-sputtering
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作者 姚念琦 刘智超 +1 位作者 顾广瑞 吴宝嘉 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第10期384-388,共5页
Copper (Cu)-doped ZrO2 (CZO) films with different Cu content (0 at.%- 8.07 at.%) are successfully deposited on Si (100) substrates by direct current (DC) and radio frequency (RF) magnetron co-sputtering. T... Copper (Cu)-doped ZrO2 (CZO) films with different Cu content (0 at.%- 8.07 at.%) are successfully deposited on Si (100) substrates by direct current (DC) and radio frequency (RF) magnetron co-sputtering. The influences of Cu content on structural, morphological, optical and electrical properties of CZO films are discussed in detail. The CZO films exhibit ZrO2 monocline (1^-11) preferred orientation, which indicates that Cu atoms are doped in ZrO2 host lattice. The crystallite size estimated form x-ray diffraction (XRD) increases by Cu doping, which accords with the result observed from the scanning electron microscope (SEM). The electrical resistivity decreases from 2.63 Ω·cm to 1.48 Ω·cm with Cu doping content increasing, which indicates that the conductivity of CZO film is improved. However, the visible light transmittances decrease slightly by Cu doping and the optical band gap values decrease from 4.64 eV to 4.48 eV for CZO fihns. 展开更多
关键词 Cu-doped zro2 films magnetron co-sputtering RESISTIVITY TRANSMITTANCE
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PHASE ANALYSES FOR DUAL ION BEAM DEPOSITED ZrO2 FILMS ON NaCl SUBSTRATE
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作者 黄宁康 汪德志 《Nuclear Science and Techniques》 SCIE CAS CSCD 1994年第4期202-205,共页
ZrO2 films on NaCl(100) substrate produced by oxygen ion bombardment and argon ion sputtering of Zr are analysed using TEM, XRD and XPS. The result of TEM shows that only cubic phase exists for the ZrO2 film produced ... ZrO2 films on NaCl(100) substrate produced by oxygen ion bombardment and argon ion sputtering of Zr are analysed using TEM, XRD and XPS. The result of TEM shows that only cubic phase exists for the ZrO2 film produced by oxygen ion bombardment with 30μA/cm2 and 200eV, while the XRD result shows that there seems to exhibit a small quanitity of monoclinic phase apart from cubic one under the production condition of oxygen ion of 25μA/cm2, 100eV. 展开更多
关键词 zro2 film DUAL ION beam deposition ION SPUTTERING TEM XRD XPS
全文增补中
ZrO_2薄膜的力学性能和摩擦学性能研究 被引量:6
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作者 王金清 刘晓红 +1 位作者 单小东 杨生荣 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2004年第5期669-673,共5页
在单晶硅表面成功地获得了自组装单层薄膜 (MPTS SAM) ,并将薄膜表面的巯基 ( SH)完全氧化成磺酸基 ( SO3H) ,从而获得了磺酸化的MPTS SAM。采用静电自组装技术成功使ZrO2 纳米微粒组装到磺酸化的MPTS SAM表面获得淀积ZrO2 薄膜。将ZrO2... 在单晶硅表面成功地获得了自组装单层薄膜 (MPTS SAM) ,并将薄膜表面的巯基 ( SH)完全氧化成磺酸基 ( SO3H) ,从而获得了磺酸化的MPTS SAM。采用静电自组装技术成功使ZrO2 纳米微粒组装到磺酸化的MPTS SAM表面获得淀积ZrO2 薄膜。将ZrO2 薄膜分别在 5 0 0°C和 80 0°C进行热处理后 ,ZrO2 薄膜的厚度逐渐减小 ,这可能是随着温度的升高薄膜的表面密度逐渐增大所致。对ZrO2 薄膜的力学和抗划伤性能分析发现 :随着温度的升高 ,ZrO2 薄膜的硬度和弹性模量依次增加 ,同时薄膜的抗划伤性能也逐渐提高。摩擦磨损实验表明 :利用该方法制备的ZrO2 薄膜经 80 0°C烧结处理后适于在低负荷、低滑动速度下作为减摩、抗磨保护性涂层。 展开更多
关键词 氧化锆薄膜 力学性能 抗划伤性能 摩擦学性能
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ZrO_2-SiO_2膜的制备和结构研究 被引量:13
4
作者 黄永前 郑昌琼 +1 位作者 胡英 张育林 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第2期204-206,共3页
以正硅酸乙酯和氧氯化锆为原料 ,用溶胶 -凝胶法制备了无支撑ZrO2 -SiO2 膜。应用DTA -TG、XRD、SEM和BET等测试技术对无支撑ZrO2 -SiO2 膜的结构、表面形貌和孔径进行了表征 ,结果表明ZrO2 -SiO2 凝胶膜虽在 46 7℃开始出现少量单斜ZrO... 以正硅酸乙酯和氧氯化锆为原料 ,用溶胶 -凝胶法制备了无支撑ZrO2 -SiO2 膜。应用DTA -TG、XRD、SEM和BET等测试技术对无支撑ZrO2 -SiO2 膜的结构、表面形貌和孔径进行了表征 ,结果表明ZrO2 -SiO2 凝胶膜虽在 46 7℃开始出现少量单斜ZrO2 ,但在 5 0 0℃和 12 0 0℃热处理后的主晶相均为四方ZrO2 ,显然SiO2 的存在阻碍了四方相ZrO2 向单斜相ZrO2 转变的过程 ,ZrO2 -SiO2 膜具有比ZrO2 膜更高的热稳定性 ,在95 0℃烧结的无支撑ZrO2 -SiO2 膜孔径稍呈双峰分布 ,其最可几孔径为 3 .3 5nm。 展开更多
关键词 zro2-SiO2 溶胶-凝胶 制备 结构 热稳定性
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ZrO_2薄膜的XPS分析 被引量:1
5
作者 夏风 刘光葵 +1 位作者 钱晓良 孙尧卿 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第4期408-410,共3页
用射频溅射制备了氧化锆(YSZ)薄膜,用X光电子能谱技术(XPS)分析了YSZ膜的结构,发现低能轰击会引起膜中钇的择优再溅射,造成钇的分布不均匀,导致单斜相的出现。
关键词 溅射 XPS YSZ 薄膜 二氧化锆 陶瓷
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固体电解质ZrO_2薄膜气敏光学特性的研究 被引量:1
6
作者 吴文鹏 郑顺镟 郭斯淦 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第6期744-748,共5页
本文采用溶胶凝胶法制备了 Zr O2 薄膜 ,并研究它在乙醇蒸汽和氨蒸汽中的透射光谱 ,发现当掺入适量的稳定剂后 ,其光学特性显著增大 ,光学透过率随乙醇蒸汽和氨蒸汽的浓度增大而单调上升 ,敏感波段扩展至整个可见光区域 .其气敏光学特... 本文采用溶胶凝胶法制备了 Zr O2 薄膜 ,并研究它在乙醇蒸汽和氨蒸汽中的透射光谱 ,发现当掺入适量的稳定剂后 ,其光学特性显著增大 ,光学透过率随乙醇蒸汽和氨蒸汽的浓度增大而单调上升 ,敏感波段扩展至整个可见光区域 .其气敏光学特性的灵敏度、单调性、可重复性表明了该材料是一种有实用价值的气敏光纤传感器新材料 .本文亦讨论了 Zr O2 展开更多
关键词 溶胶凝胶法 薄膜 固体电解质 气敏光纤传感材料 氧化锆
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化学修饰法制备的ZrO_2-SiO_2系凝胶薄膜的感光特性研究 被引量:4
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作者 赵桂荣 赵高扬 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期207-208,211,共3页
本研究采用溶胶 凝胶与化学修饰相结合的方法制备了xZrO2 ·(10 0 -x)SiO2 系薄膜 ,进一步研究了这种薄膜的紫外光谱特性 ,发现了当x >3 0时 ,这种凝胶薄膜在 3 3 5nm附近有较强的吸收峰 ,这一吸收峰对应于与Zr形成配位体的BzAc... 本研究采用溶胶 凝胶与化学修饰相结合的方法制备了xZrO2 ·(10 0 -x)SiO2 系薄膜 ,进一步研究了这种薄膜的紫外光谱特性 ,发现了当x >3 0时 ,这种凝胶薄膜在 3 3 5nm附近有较强的吸收峰 ,这一吸收峰对应于与Zr形成配位体的BzAcH的π π 迁移。当紫外光照射薄膜后 ,随着含Zr螯合物的分解 ,吸收峰也消失 ,并引起薄膜在有机溶剂中的溶解特性的显著变化 ,表现出明显的感光特性。这种薄膜经 40 0℃、3 0min热处理以后 ,薄膜中的有机物消失 ,可获得非晶质的ZrO2 SiO2 系薄膜 ,依据这一特性可以用紫外光对这类薄膜进行微细加工。 展开更多
关键词 熔胶-凝胶法 化学修饰 微细加工 吸光度 氧化锆-氧化硅薄膜
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ZrO_2膜的相结构与显微组织 被引量:1
8
作者 娄彦良 肖文凯 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2001年第1期5-6,19,共3页
用 X射线衍射和扫描电镜研究了 Zr O2 膜的晶体结构和显微组织。结果表明 Zr O2 膜的相结构为立方氧化锆 (c- Zr O2 ) ,晶粒尺寸细微。发现 Zr O2 膜中存在具有 (111)面织构的柱状晶结构 。
关键词 氧化锆膜 晶体结构 相结构 显微组织
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ZrO_2薄膜的表层结构
9
作者 夏风 邹柳娟 +5 位作者 钱晓良 邹道文 翁惠民 黄千峰 周先意 韩荣典 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第6期644-645,共2页
用射频溅射技术制备了ZrO2 薄膜,用慢正电子束分析该薄膜,发现它的表层存在一高正电子吸收区,它与钇的表面富集有关,提出了相应的模型。
关键词 薄膜 慢正电子束 表面结构 YSZ 氧化锆
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介孔Au/ZrO2复合薄膜的制备及其三阶非线性光学性能(英文)
10
作者 陆强 崔方明 +2 位作者 魏晨阳 华子乐 董长青 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第3期327-331,共5页
以尿素为沉淀剂,通过沉积沉淀的方法,制备了高分散的金纳米颗粒负载的介孔氧化锆薄膜;以1064 nm激光为入射光束,通过Z扫描实验测试了复合薄膜的非线性光学折射和吸收,并计算了复合薄膜的非共振三阶非线性光学极化率(~10-10esu),金纳... 以尿素为沉淀剂,通过沉积沉淀的方法,制备了高分散的金纳米颗粒负载的介孔氧化锆薄膜;以1064 nm激光为入射光束,通过Z扫描实验测试了复合薄膜的非线性光学折射和吸收,并计算了复合薄膜的非共振三阶非线性光学极化率(~10-10esu),金纳米颗粒的高分散性和氧化锆薄膜衬底的高线性折射率使复合薄膜显示了增强的三阶非线性极化率. 展开更多
关键词 金纳米颗粒 介孔 氧化锆薄膜 三阶非线性光学性能
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ZrO_2薄膜的X射线光电子能谱分析
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作者 娄彦良 肖文凯 李元科 《郑州工业大学学报》 CAS 2000年第4期39-41,共3页
用X射线光电子能谱 (XPS)对自制ZrO2 薄膜进行了成分分析 .结果发现 ,在基片有负偏压的条件下 ,薄膜发生了氧缺位现象 ,退火处理可以补偿氧缺位 .在膜表面存在一个Y的偏聚层 .
关键词 氧化锆薄膜 X射线光电子能谱 成分
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慢正电子技术研究ZrO_2(Y_2O_3)薄膜的温度效应
12
作者 邹柳娟 夏风 +1 位作者 翁惠民 邹道文 《华中理工大学学报》 CSCD 北大核心 2000年第3期99-101,共3页
用慢正电子技术研究了在溅射时不加偏压 ,纯 Ar气氛 ,基片分别为加热 3 0 0℃和不加热的情况下制备的 No.2系列和 No.7系列的用 Y2 O3稳定的 Zr O2 薄膜 (简称 YSZ膜 ) .研究发现 :YSZ膜心部区 S参数随退火温度升高而降低 ;YSZ膜的过渡... 用慢正电子技术研究了在溅射时不加偏压 ,纯 Ar气氛 ,基片分别为加热 3 0 0℃和不加热的情况下制备的 No.2系列和 No.7系列的用 Y2 O3稳定的 Zr O2 薄膜 (简称 YSZ膜 ) .研究发现 :YSZ膜心部区 S参数随退火温度升高而降低 ;YSZ膜的过渡区宽度随退火温度升高而变窄 ;基片加热 ,有助于获得稳定、均匀。 展开更多
关键词 慢正电子技术 氧化锆薄膜 YSZ膜 温度效应
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沉积温度对ZrO_(2)薄膜相结构和透射率的影响 被引量:4
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作者 刘建华 徐可为 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期321-323,328,共4页
利用射频反应磁控溅射在显微玻璃、单晶硅片、NaCl片和石英上沉积ZrO2 薄膜。薄膜厚度 80nm~ 10 0nm。利用X射线衍射仪、透射电子显微镜、X射线能谱仪、分光光度计和原子力显微镜研究了沉积温度对薄膜相结构和O/Zr、透射率的影响。研... 利用射频反应磁控溅射在显微玻璃、单晶硅片、NaCl片和石英上沉积ZrO2 薄膜。薄膜厚度 80nm~ 10 0nm。利用X射线衍射仪、透射电子显微镜、X射线能谱仪、分光光度计和原子力显微镜研究了沉积温度对薄膜相结构和O/Zr、透射率的影响。研究发现 ,沉积温度升高 ,非晶相减少 ,结晶相增多 ;晶粒尺寸增大 ;沉积温度为 370℃ ,透射率明显下降。 展开更多
关键词 沉积温度 zro2薄膜 透射率 薄膜厚度 单晶硅片 相结构 反应磁控溅射 非晶相 晶粒尺寸 X射线衍射仪
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还原氮化对ZrO2薄膜SERS性能的影响研究
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作者 裴媛 王学沛 +7 位作者 刘燕梅 羡皓晗 吴明明 魏颖娜 刘海勇 陈颖 吴振刚 魏恒勇 《人工晶体学报》 EI CAS 北大核心 2020年第9期1609-1613,共5页
以八水氧氯化锆(ZrOCl2·8H2O)为原料制备前驱体溶液,采用旋涂工艺制备ZrO2薄膜,并对其进行还原氮化。利用XRD、FE-SEM、UV-Vis-Nir和Raman测试薄膜结构、光学性能及SERS效应。结果表明,还原氮化后薄膜中出现了氮氧化合物,颗粒明显... 以八水氧氯化锆(ZrOCl2·8H2O)为原料制备前驱体溶液,采用旋涂工艺制备ZrO2薄膜,并对其进行还原氮化。利用XRD、FE-SEM、UV-Vis-Nir和Raman测试薄膜结构、光学性能及SERS效应。结果表明,还原氮化后薄膜中出现了氮氧化合物,颗粒明显,薄膜厚度约为0.77μm。薄膜的紫外可见近红外光谱在350~650 nm附近展现出较强的吸收。利用R6G作为探针分子研究了薄膜的SERS效应,结果表明,还原氮化后的氧化锆薄膜拉曼增强效应显著提升,拉曼增强因子为2.479×10^2。 展开更多
关键词 氧化锆薄膜 还原氮化 表面增强拉曼散射 拉曼增强因子
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Preparation and tribological properties of Sol-Gel TiO_2-ZrO_2 composite thin films 被引量:3
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作者 CHEN Yunxia ZHOU Jinfang LIU Weimin State Key Laboratory of Solid Lubrication, Lanzhou Institute of Chemical, Physics, Chinese Academy of Sciences, Lanzhou 730000, China 《Science China Mathematics》 SCIE 2001年第S1期381-386,共6页
High oriented TiO_2-ZrO_2 composite thin films on Si (100) and glass sheet were suc- cessfully prepared by sol-gel process followed by dip-coating the ethanol solution of zirconium oxychloride and titanium tetrachlori... High oriented TiO_2-ZrO_2 composite thin films on Si (100) and glass sheet were suc- cessfully prepared by sol-gel process followed by dip-coating the ethanol solution of zirconium oxychloride and titanium tetrachloride. The sol-gel process, microstructure, morphology and tri- bological properties of TiO_2 -ZrO_2 films were investigated using TGA, DSC, XPS, XRD, AFM and dynamic-static tribometer. The results show that the TiO_2-ZrO_2films are dense, homogeneous and at a complete tetragonal phase with an excellent antiwear and friction reduction performance. Un- der 0.5N applied load, the friction coefficient is 0.14-0.20 and the antiwear life is more than 5000 sliding cycles for both TiO_2-ZrO_2/ AISI 52100 steel and TiO_2-ZrO_2/ Si_3N_4. SEM observation sug- gests that wear mechanism of TiO_2 -ZrO_2 composite film under low load was fatigue wear, and under high load was adhesive wear. The TiO_2 -ZrO_2 films show potential applications as coatings for antiwear and friction reduction under the harsh condition. 展开更多
关键词 TiO_2-zro_2 composite thin films SOL-GEL CHARACTERIZATION tribological properties
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ZrO_2薄膜残余应力实验研究 被引量:29
16
作者 邵淑英 范正修 +1 位作者 范瑞瑛 邵建达 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期437-441,共5页
采用ZYGOMarkⅢ GPI数字波面干涉仪对电子束蒸发方法制备的ZrO2 薄膜中的残余应力进行了研究 ,讨论了沉积温度、沉积速率等工艺参量对ZrO2 薄膜残余应力的影响。实验结果表明 :随着沉积温度及沉积速率的升高 ,ZrO2 薄膜中残余应力状态... 采用ZYGOMarkⅢ GPI数字波面干涉仪对电子束蒸发方法制备的ZrO2 薄膜中的残余应力进行了研究 ,讨论了沉积温度、沉积速率等工艺参量对ZrO2 薄膜残余应力的影响。实验结果表明 :随着沉积温度及沉积速率的升高 ,ZrO2 薄膜中残余应力状态由张应力变为压应力 ,且压应力值随着沉积温度升高而增大。同时用X射线衍射技术测量分析了不同沉积条件下ZrO2 薄膜的微结构组织 ,探讨了ZrO2 展开更多
关键词 二氧化锆薄膜 薄膜物理 残余应力实验 沉积温度 沉积速率 电子束蒸发法 X射线衍射技术
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沉积温度对电子束蒸发沉积ZrO_2薄膜性质的影响 被引量:20
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作者 邵淑英 范正修 +2 位作者 范瑞瑛 贺洪波 邵建达 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期701-704,共4页
ZrO2 薄膜样品在不同的沉积温度下用电子束蒸发的方法沉积而成。利用X射线衍射 (XRD)仪和原子力显微镜 (AFM)检测了ZrO2 薄膜的晶体结构和表面形貌 ,发现室温下沉积ZrO2 薄膜样品为非晶结构 ,随着沉积温度升高 ,ZrO2 薄膜出现明显的结... ZrO2 薄膜样品在不同的沉积温度下用电子束蒸发的方法沉积而成。利用X射线衍射 (XRD)仪和原子力显微镜 (AFM)检测了ZrO2 薄膜的晶体结构和表面形貌 ,发现室温下沉积ZrO2 薄膜样品为非晶结构 ,随着沉积温度升高 ,ZrO2 薄膜出现明显的结晶现象 ,在薄膜中同时存在四方相及单斜相。薄膜表现为自由取向生长 ,晶粒尺寸随沉积温度升高而增大。同时发现薄膜中的残余应力随沉积温度的升高 ,由张应力状态变为压应力状态 ,这一变化主要是薄膜结构变化引起的内应力的作用结果。同时讨论了不同沉积温度对ZrO2 薄膜光学性质的影响。 展开更多
关键词 薄膜物理学 zro2薄膜 电子束蒸发 沉积温度
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HfO_2中ZrO_2含量对266nmHfO_2/SiO_2多层膜反射率的影响 被引量:2
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作者 袁景梅 范瑞瑛 +2 位作者 杨健 邵建达 范正修 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期747-750,共4页
用两种不同纯度的HfO2 材料与同一纯度的SiO2 材料组合 ,沉积λ/ 4规整膜系 (HL) 11H形成 2 6 6nm的紫外反射镜 ,发现反射率相差 0 .7%左右。用X光电子能谱法分析了高反膜中表层HfO2 中的成分 ,发现ZrO2 的含量相差一个数量级左右。为... 用两种不同纯度的HfO2 材料与同一纯度的SiO2 材料组合 ,沉积λ/ 4规整膜系 (HL) 11H形成 2 6 6nm的紫外反射镜 ,发现反射率相差 0 .7%左右。用X光电子能谱法分析了高反膜中表层HfO2 中的成分 ,发现ZrO2 的含量相差一个数量级左右。为确定形成这种差别的原因 ,用辉光放电质谱法测定了这两种HfO2 材料中锆 (Zr)及其钛(Ti)、铁 (Fe)的含量 ,发现Zr是其中的最主要的杂质 ,两种HfO2 材料中Zr含量有一个数量级的差别。说明在 2 6 6nm波段 ,HfO2 中ZrO2 的含量会对HfO2 /SiO2 高反膜的反射率造成影响。根据HfO2 单层膜的光谱曲线 ,推算出了这两种材料的消光系数的差别 ,并用Tfcalc膜系设计软件进行理论和镀制结果的模拟 ,得到与实验测试一致的结果。 展开更多
关键词 二氧化铪薄膜 二氧化锆薄膜 光学性质 反射率 辉光放电质谱法 激光薄膜
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第2系列ZrO_2(Y_2O_3)薄膜的慢正电子研究 被引量:1
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作者 邹柳娟 夏风 +4 位作者 邹道文 翁惠民 黄千峰 周先意 韩荣典 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2000年第7期1352-1355,共4页
用慢正电子技术研究了在溅射时不加偏压 ,衬底加热 30 0℃ ,纯Ar气氛下制备的用Y2 O3 稳定的ZrO2 薄膜材料 (简称YSZ薄膜 ) ,发现了YSZ薄膜在不同深度处的缺陷分布情况 ,退火温度对YSZ薄膜缺陷有影响 .简要讨论了致密、优质YSZ薄膜的制... 用慢正电子技术研究了在溅射时不加偏压 ,衬底加热 30 0℃ ,纯Ar气氛下制备的用Y2 O3 稳定的ZrO2 薄膜材料 (简称YSZ薄膜 ) ,发现了YSZ薄膜在不同深度处的缺陷分布情况 ,退火温度对YSZ薄膜缺陷有影响 .简要讨论了致密、优质YSZ薄膜的制备方法 . 展开更多
关键词 慢正电子束 表面缺陷 zro2薄膜 Y2O3
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在粗糙基片上成膜的物理模拟
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作者 夏风 钱晓良 +1 位作者 刘光葵 孙尧卿 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 1999年第4期54-57,共4页
用射频溅射法在粗糙基底上制备了ZrO2 膜,模拟了在该种条件下膜的表面形貌、空腔的形成规律,提出了在粗糙基底上镀制性能均匀、稳定薄膜的对策.
关键词 薄膜 射频溅射法 物理模拟 氧化锆膜 粗糙基片
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