单模聚焦微波辐射下有机纳米蒙脱土复合聚丙烯酸高吸水性树脂的制备与性能研究

首先以纳米蒙脱土(Nano-MMT)、十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为原料,通过单模聚焦微波辐射法制备了有机纳米蒙脱土,然后利用单模聚焦微波辐射技术合成了有机纳米蒙脱土复合聚丙烯酸高吸水性树脂(SAR),通过X-射线衍射分析(XRD)和傅立叶红外光谱分析(FTIR)对产物结构进行了表征,研究了微波辐射时间、纳米有机蒙脱土的加入量对树脂吸液倍率的影响.结果表明:十六烷基三甲基溴化铵可成功插入纳米蒙脱土片层之间,且微波辐射下有机纳米蒙脱土复合聚丙烯酸高吸水性树脂的制备时间大大缩短,其最大吸水倍率达1 450g·g-1,在质量分数为0.9%的食盐水中的最大吸盐水倍率达150g·g-1.

室温自交联水性聚氨酯分散体的合成与表征

采取新工艺以甲苯二异氰酸酯(TDI-80)、聚醚二元醇(N220)、三羟甲基丙烷(TMP)、二羟甲基丙酸(DMPA)、环氧树脂(E-20)、甲基丙烯酸甲酯(MMA)等原料合成了聚氨酯-丙烯酸酯复合分散体(PUA-1),通过双丙酮丙烯酰胺(DAAM)引入酮羰基和己二酸二酰肼(ADH)引入肼基,合成了室温自交联复合分散体(PUA-2)。探讨了DMPA,MMA,DAAM和ADH的加入量对分散体和涂膜性能的影响。通过傅立叶红外光谱(FTIR)、示差扫描量热仪(DSC)、接触角测量仪对PUA-1及PUA-2进行了表征。结果表明,当DMPA,MMA,DAAM的含量[占聚氨酯(PU)的质量分数]分别为6%,25%,2.5%及ADH与DAAM的摩尔比为1时,分散体和涂膜的综合性能较好;酮肼间发生了交联反应,交联使得胶膜的耐水性和力学性能得到了提高。

NaHSO_3-(NH_4)_2S_2O_8引发体系制备低相对分子质量聚丙烯酸钠

以丙烯酸和氢氧化钠为原料,NaHSO3-（NH4）2 S2 O8为氧化还原引发剂体系,NaHSO3为链转移剂合成低相对分子质量聚丙烯酸钠.研究了单体、引发剂及链转移剂的用量、反应温度和反应时间等对产物相对分子质量的影响.结果表明,反应温度为60℃、w（单体）=25％、w（引发剂）=0.6％、w（链转移剂）=2.0％、反应时间2h,可制得聚丙烯酸钠的粘均相对分子质量在2 000～3 000,单体转化率在98％以上.

有机硅丙烯酸乳液的研制

以丙烯酸酯和有机硅官能单体为原料,合成了有机硅丙烯酸乳液。介绍了乳液及由其制备的涂料的性能。讨论了影响乳液性能的因素。

负离子腈纶的工业化试验

研究了奇冰石纳米复合材料在负离子腈纶生产中的应用,探讨了该添加剂的加入及工艺控制方法。试验结果表明:用这种纳米复合材料作为添加剂制成的负离子纤维的质量与常规纤维无异,初步具备了批量生产的条件。

氟硅改性丙烯酸酯树脂防冰涂料研究

本文利用含氟丙烯酸酯单体和含硅丙烯酸单体,对成膜性很好的丙烯酸酯树脂进行改性,从而在聚合物分子中引入有机硅链段和有机氟链段,降低涂膜的表面能,合成一种表面能低、憎水性强、耐久耐候性好的氟硅改性丙烯酸酯树脂防冰涂料。

基于交联型丙烯酸酯类共聚物的Krf光刻胶分析

阐述在40nm以下技术节点的光刻工艺中,深紫外光刻胶(Krf Photoresist)应用比较广泛,仍是使用量最大的光刻胶种类,但已量产的Krf光刻胶由于开发时间较早,在部分工艺中抗刻蚀性能上存在不足。通过使用交联型单体合成一种交联型丙烯酸酯类共聚物,由于其独特的交联网状结构,该树脂与非交联型的树脂相比,其可以显著增强光刻胶树脂在刻蚀工艺中抗刻蚀性能。将该交联型共聚物配制成Krf光刻胶,经测试该光刻胶满足集成电路芯片制造中耐蚀刻要求,并且满足Dense和ISO光刻图形分辨率达到140nm的工艺要求。

氟改性丙烯酸防覆冰涂料的研制

本文介绍了一种可用于海上平台的低表面能的氟改性丙烯酸防覆冰涂料,通过树脂基料的筛选,利用纳米级与微米级填料的相互交错及针状晶须填料的填充,使涂层表面微结构粗糙化,提高涂层的疏水性能。性能测试结果表明:研制的防覆冰涂层表面的淡水光学接触角可达到127°以上,涂层具有很好的疏水性,同时冰在该涂层表面的附着力仅为常规氟碳面漆的三分之一,体现了涂层具有很好的易除冰性。