氩氢体积比对磁控溅射制备Al_xO_y/PET阻隔膜的影响

采用直流电源,以纯铝为靶,氧气为反应气体,高纯氩气为溅射气体磁控溅射在PET基底上制备高阻隔性AlxOy/PET包装薄膜,并研究不同氩氢体积比对AlxOy薄膜形貌、成分、结构的影响,讨论了镀AlxOy膜后DET力学性能与阻隔性能的变化。FTIR与XPS研究分析表明,反应氧气量直接影响AlxOy薄膜的化学结构,薄膜的红外光谱的峰值、强度和带宽等变化规律均与氧气量有关,并且AlxOy中氧原子的含量越高,Al—O伸缩振动峰的波数越高。测量薄膜的阻隔性与力学性能显示,AlxOy膜化学成分越接近于Al2O3时阻隔性能越好,且薄膜横向、纵向弹性模量及屈服强度越大。此外,镀AlxOy薄膜单向拉伸力学特征有明显变化,其应力-应变曲线有2个明显的拐点。

溅射气氛中O_2/Ar体积比对Al_xO_y薄膜结构及性能的影响

为了研制高阻隔性和适合微波加热的包装材料,在PET基底上采用射频电源,以纯Al为靶,氧气为反应气体,高纯氩气为等离子体,磁控溅射AlxOy/PET包装薄膜。红外光谱(IR)分析表明,氧化铝IR谱的峰值、强度和带宽等规律性的变化与通入的氧气量有关。XPS研究发现,Al-O伸缩振动峰的波数越高,AlxOy中氧原子的含量越高。薄膜的阻隔性测试结果表明,AlxOy膜的y值越大,其阻隔性能越好。

Al_xO_y(x=1—2,y=1—3)分子几何结构与稳定性的DFT研究

用密度泛函理论(DFT)的B31yp方法在6-311++g^(**)水平上对Al_xO_y(x=1—2,y=2—3)分子的几何构型、电子结构、振动频率等性质进行了理论研究.通过对基态结构的几何参数分析发现,它们的基态结构趋于直线或平面结构.对基态结构的绝热电离能讨论表明,金属铝原子数一定时,氧原子数从1增加到3,其气态分子越来越稳定,铝原子数少的分子体系更稳定.系统给出了该系列分子基态的几何参数、电子结构、光谱性质.Al_2O_3的C2V三重态是该分子的能量最低结构.