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双还原剂SHP和DMAB对ABS表面化学镀铜的影响
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作者 宋晅 符冬琴 +7 位作者 陈怀军 朱皓 程熠 赵文霞 刘欣 回凯宏 李鑫巍 赵伟 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2023年第5期18-25,共8页
为进一步改善以次磷酸盐作为还原剂的化学镀铜溶液的沉积速率,采用次磷酸钠(SHP)和二甲胺基甲硼烷(DMAB)构成双还原剂用于化学镀铜溶液中,研究了两种还原剂复合添加浓度对聚丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABS)表面化学镀铜的影响。利用网... 为进一步改善以次磷酸盐作为还原剂的化学镀铜溶液的沉积速率,采用次磷酸钠(SHP)和二甲胺基甲硼烷(DMAB)构成双还原剂用于化学镀铜溶液中,研究了两种还原剂复合添加浓度对聚丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABS)表面化学镀铜的影响。利用网格设计法,探讨化学镀铜溶液中两种还原剂复合的适宜浓度配比,通过恒温加热测试,研究两种还原剂的复合添加浓度对化学镀铜溶液稳定性的影响,并采用场发射扫描电子显微镜和X射线能谱分析仪对化学镀铜层的微观形貌和组成进行表征。研究结果表明,在DMAB和SHP的添加浓度分别为0.50 g·L^(-1)和90 g·L^(-1)时,DMAB和SHP具有良好的协同作用,此时化学镀铜溶液的稳定性好,化学镀铜的沉积速率最大,为3.14μm·h^(-1)。化学镀铜层表面铜晶粒排列致密,表面平整,且镀层中铜含量达到97.4%,ABS表面与化学镀铜层之间的粘结强度最高,达到0.95 kN·m^(-1)。 展开更多
关键词 化学镀铜 次磷酸钠 二甲胺基甲硼烷 沉积速率 粘结强度
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铝合金化学镀Ni-P-B的研究 被引量:4
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作者 康忠明 彭秋波 +1 位作者 代明江 况敏 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 2005年第2期11-14,共4页
以二甲基胺硼烷(DMAB)为还原剂,在铝合金上获得了化学镀镍低磷低硼镀层,研究了硫酸镍、次磷酸钠、 DMAB、络合剂、pH值和稳定剂对镀层的沉积速度、显微硬度和微观形貌的影响。通过正交实验和单因素实验,确定了最 佳工艺配方为:24 g/L... 以二甲基胺硼烷(DMAB)为还原剂,在铝合金上获得了化学镀镍低磷低硼镀层,研究了硫酸镍、次磷酸钠、 DMAB、络合剂、pH值和稳定剂对镀层的沉积速度、显微硬度和微观形貌的影响。通过正交实验和单因素实验,确定了最 佳工艺配方为:24 g/L硫酸镍,适量DMAB,12 g/L次磷酸钠,3 mg/L硫脲,30 mL/L络合剂。所获得的化学镀镍镀层中 P、B、Ni的质量分数分别为:1.81%、0.26%和97.93%。该镀层与基体的结合力良好,硬度在550~710HV范围内,在铝 质活塞上应用获得了满意的效果。 展开更多
关键词 铝合金 化学镀Ni-P-B 二甲基胺硼烷(dmab) 正交实验
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