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双还原剂SHP和DMAB对ABS表面化学镀铜的影响
1
作者
宋晅
符冬琴
+7 位作者
陈怀军
朱皓
程熠
赵文霞
刘欣
回凯宏
李鑫巍
赵伟
《电镀与精饰》
CAS
北大核心
2023年第5期18-25,共8页
为进一步改善以次磷酸盐作为还原剂的化学镀铜溶液的沉积速率,采用次磷酸钠(SHP)和二甲胺基甲硼烷(DMAB)构成双还原剂用于化学镀铜溶液中,研究了两种还原剂复合添加浓度对聚丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABS)表面化学镀铜的影响。利用网...
为进一步改善以次磷酸盐作为还原剂的化学镀铜溶液的沉积速率,采用次磷酸钠(SHP)和二甲胺基甲硼烷(DMAB)构成双还原剂用于化学镀铜溶液中,研究了两种还原剂复合添加浓度对聚丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABS)表面化学镀铜的影响。利用网格设计法,探讨化学镀铜溶液中两种还原剂复合的适宜浓度配比,通过恒温加热测试,研究两种还原剂的复合添加浓度对化学镀铜溶液稳定性的影响,并采用场发射扫描电子显微镜和X射线能谱分析仪对化学镀铜层的微观形貌和组成进行表征。研究结果表明,在DMAB和SHP的添加浓度分别为0.50 g·L^(-1)和90 g·L^(-1)时,DMAB和SHP具有良好的协同作用,此时化学镀铜溶液的稳定性好,化学镀铜的沉积速率最大,为3.14μm·h^(-1)。化学镀铜层表面铜晶粒排列致密,表面平整,且镀层中铜含量达到97.4%,ABS表面与化学镀铜层之间的粘结强度最高,达到0.95 kN·m^(-1)。
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关键词
化学镀铜
次磷酸钠
二甲胺基甲硼烷
沉积速率
粘结强度
下载PDF
职称材料
铝合金化学镀Ni-P-B的研究
被引量:
4
2
作者
康忠明
彭秋波
+1 位作者
代明江
况敏
《电镀与涂饰》
CAS
CSCD
2005年第2期11-14,共4页
以二甲基胺硼烷(DMAB)为还原剂,在铝合金上获得了化学镀镍低磷低硼镀层,研究了硫酸镍、次磷酸钠、 DMAB、络合剂、pH值和稳定剂对镀层的沉积速度、显微硬度和微观形貌的影响。通过正交实验和单因素实验,确定了最 佳工艺配方为:24 g/L...
以二甲基胺硼烷(DMAB)为还原剂,在铝合金上获得了化学镀镍低磷低硼镀层,研究了硫酸镍、次磷酸钠、 DMAB、络合剂、pH值和稳定剂对镀层的沉积速度、显微硬度和微观形貌的影响。通过正交实验和单因素实验,确定了最 佳工艺配方为:24 g/L硫酸镍,适量DMAB,12 g/L次磷酸钠,3 mg/L硫脲,30 mL/L络合剂。所获得的化学镀镍镀层中 P、B、Ni的质量分数分别为:1.81%、0.26%和97.93%。该镀层与基体的结合力良好,硬度在550~710HV范围内,在铝 质活塞上应用获得了满意的效果。
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关键词
铝合金
化学镀Ni-P-B
二甲基胺硼烷(
dmab
)
正交实验
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职称材料
题名
双还原剂SHP和DMAB对ABS表面化学镀铜的影响
1
作者
宋晅
符冬琴
陈怀军
朱皓
程熠
赵文霞
刘欣
回凯宏
李鑫巍
赵伟
机构
宁夏师范学院化学化工学院
海南经贸职业技术学院国际贸易学院
出处
《电镀与精饰》
CAS
北大核心
2023年第5期18-25,共8页
基金
宁夏自然科学基金(2022AAC03298、2020AAC03266)
六盘山资源工程技术研究中心(HGZD-18)
宁夏高等学校一流学科建设(教育学学科)(NXYLXK2017B11)资助。
文摘
为进一步改善以次磷酸盐作为还原剂的化学镀铜溶液的沉积速率,采用次磷酸钠(SHP)和二甲胺基甲硼烷(DMAB)构成双还原剂用于化学镀铜溶液中,研究了两种还原剂复合添加浓度对聚丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABS)表面化学镀铜的影响。利用网格设计法,探讨化学镀铜溶液中两种还原剂复合的适宜浓度配比,通过恒温加热测试,研究两种还原剂的复合添加浓度对化学镀铜溶液稳定性的影响,并采用场发射扫描电子显微镜和X射线能谱分析仪对化学镀铜层的微观形貌和组成进行表征。研究结果表明,在DMAB和SHP的添加浓度分别为0.50 g·L^(-1)和90 g·L^(-1)时,DMAB和SHP具有良好的协同作用,此时化学镀铜溶液的稳定性好,化学镀铜的沉积速率最大,为3.14μm·h^(-1)。化学镀铜层表面铜晶粒排列致密,表面平整,且镀层中铜含量达到97.4%,ABS表面与化学镀铜层之间的粘结强度最高,达到0.95 kN·m^(-1)。
关键词
化学镀铜
次磷酸钠
二甲胺基甲硼烷
沉积速率
粘结强度
Keywords
electroless copper plating
sodium hypophosphite(SHP)
borane
dimethylamine
complex
(
dmab
)
deposition rate
adhesion strength
分类号
TQ153.1 [化学工程—电化学工业]
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职称材料
题名
铝合金化学镀Ni-P-B的研究
被引量:
4
2
作者
康忠明
彭秋波
代明江
况敏
机构
广州有色金属研究院表面中心
出处
《电镀与涂饰》
CAS
CSCD
2005年第2期11-14,共4页
文摘
以二甲基胺硼烷(DMAB)为还原剂,在铝合金上获得了化学镀镍低磷低硼镀层,研究了硫酸镍、次磷酸钠、 DMAB、络合剂、pH值和稳定剂对镀层的沉积速度、显微硬度和微观形貌的影响。通过正交实验和单因素实验,确定了最 佳工艺配方为:24 g/L硫酸镍,适量DMAB,12 g/L次磷酸钠,3 mg/L硫脲,30 mL/L络合剂。所获得的化学镀镍镀层中 P、B、Ni的质量分数分别为:1.81%、0.26%和97.93%。该镀层与基体的结合力良好,硬度在550~710HV范围内,在铝 质活塞上应用获得了满意的效果。
关键词
铝合金
化学镀Ni-P-B
二甲基胺硼烷(
dmab
)
正交实验
Keywords
aluminium alloy
electroless Ni-P-B plating
boron dimethylamine complex (dmab)
orthogonal test
分类号
TQ153.12 [化学工程—电化学工业]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
双还原剂SHP和DMAB对ABS表面化学镀铜的影响
宋晅
符冬琴
陈怀军
朱皓
程熠
赵文霞
刘欣
回凯宏
李鑫巍
赵伟
《电镀与精饰》
CAS
北大核心
2023
0
下载PDF
职称材料
2
铝合金化学镀Ni-P-B的研究
康忠明
彭秋波
代明江
况敏
《电镀与涂饰》
CAS
CSCD
2005
4
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
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引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
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