碳化硼球面薄膜及空心微球的制备

采用电子束蒸发镀膜技术,结合磁控滚动方法在φ1 mm的钢球基底上制备碳化硼球面膜层,通过退火、打孔及腐蚀获得碳化硼空心微球.主要研究了球面膜层的宏观形貌、微观结构、成分及初步探讨了不同退火温度（800~1100℃）对核膜结构空心化的影响.利用扫描电子显微镜（SEM）、X射线光电子能谱分析（XPS）、原子力显微镜（AFM）对球面薄膜表面形态和薄膜元素组成进行了分析.结果表明：磁控滚动模式制备的球面膜层表面平整,没有裂纹和孔洞,元素分布均匀.核膜结构（镀膜时间在5~70 h）经900℃以上温度退火,空心化后的球面膜层可实现自支撑,900℃退火的微球表面形貌最好,壁厚可达10μm以上.