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Design optimization of broadband extreme ultraviolet polarizer in high-dimensional objective space
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作者 Shang-Qi Kuang Bo-Chao Li +2 位作者 Yi Wang Xue-Peng Gong Jing-Quan Lin 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第7期579-585,共7页
With the purpose of designing the extreme ultraviolet polarizer with many objectives,a combined application of multiobjective genetic algorithms is theoretically proposed.Owing to the multi-objective genetic algorithm... With the purpose of designing the extreme ultraviolet polarizer with many objectives,a combined application of multiobjective genetic algorithms is theoretically proposed.Owing to the multi-objective genetic algorithm,the relationships between different designing objectives of extreme ultraviolet polarizer have been obtained by analyzing the distribution of nondominated solutions in the four-dimensional objective space,and the optimized multilayer design can be obtained by guiding the searching in the desired region based on the multi-objective genetic algorithm with reference direction.Compared with the conventional method of multilayer design,our method has a higher probability of achieving the optimal multilayer design.Our work should be the first research in optimizing the optical multilayer designs in the high-dimensional objective space,and our results demonstrate a potential application of our method in the designs of optical thin films. 展开更多
关键词 extreme ultraviolet polarizer multilayer design multi-objective genetic algorithm
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基于高频率公转速度变化策略的极紫外多层膜均匀性研究
2
作者 徐国华 韩伟明 +1 位作者 王佳兴 宋晓伟 《长春理工大学学报(自然科学版)》 2024年第3期1-9,共9页
应用自研高真空磁控溅射镀膜系统,在高反射率和高均匀性极紫外Mo/Si多层膜方面开展实验研究。采用高速匀速自转和调节公转转速相结合的行星运行式镀膜方法,在高频率公转速度变化策略下,实现了多层膜周期厚度的较高均匀性。实验结果表明... 应用自研高真空磁控溅射镀膜系统,在高反射率和高均匀性极紫外Mo/Si多层膜方面开展实验研究。采用高速匀速自转和调节公转转速相结合的行星运行式镀膜方法,在高频率公转速度变化策略下,实现了多层膜周期厚度的较高均匀性。实验结果表明,通过公转速度高频变化,连续调整基底掠过靶材表面的速度,提高了多层膜周期厚度的均匀性,在150 mm直径范围内,曲面基底上6.92 nm周期厚度的Mo/Si多层膜周期厚度的相对偏差优于±0.3%。同步辐射测试结果表明,在入射角5°时,Mo/Si多层膜在中心波长13.5 nm处反射率达62.2%。 展开更多
关键词 磁控溅射 MO/SI多层膜 极紫外 膜厚均匀性 制备技术
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Effects of dispersion and filtering induced by periodic multilayer mirrors reflection on attosecond pulses
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作者 林承友 尹亮 +2 位作者 陈淑静 陈朝阳 丁迎春 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第9期567-572,共6页
Using temporal and spectral methods,the effects of dispersion and filtering induced by Mo/Si multilayer mirrors reflection on incident attosecond pulses were studied.First,two temporal parameters,the pulse broadening ... Using temporal and spectral methods,the effects of dispersion and filtering induced by Mo/Si multilayer mirrors reflection on incident attosecond pulses were studied.First,two temporal parameters,the pulse broadening factor,and the energy loss factor,were defined to evaluate the effects of dispersion and filtering.Then,by analyzing these temporal parameters,we investigated and compared the dispersion and filtering effects on attosecond pulses.In addition,we explored the origins of pulse broadening and energy loss by analyzing the spectral and temporal characteristics of periodic Mo/Si multilayer mirrors.The results indicate that the filtering effect induced by Mo/Si multilayer mirrors reflection is the dominant reason for pulse broadening and energy loss. 展开更多
关键词 extreme ultraviolet region multilayer mirrors attosecond pulse pulse broadening
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极紫外Mg/SiC、Mg/Co多层膜的稳定性 被引量:8
4
作者 朱京涛 宋竹青 +2 位作者 丁涛 马爽 李浩川 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第6期1380-1386,共7页
采用磁控溅射法在Si(100)基底上镀制了膜系结构分别为[Mg/Co]20、[Mg/SiC]20的两组多层膜,以研究Mg基多层膜的稳定性。对放置在室温和80%相对湿度环境下的样品进行显微镜、表面粗糙度和X射线掠入射反射率测试,对比研究了Mg/Co和Mg/SiC... 采用磁控溅射法在Si(100)基底上镀制了膜系结构分别为[Mg/Co]20、[Mg/SiC]20的两组多层膜,以研究Mg基多层膜的稳定性。对放置在室温和80%相对湿度环境下的样品进行显微镜、表面粗糙度和X射线掠入射反射率测试,对比研究了Mg/Co和Mg/SiC两种多层膜结构在相同环境中的损坏状况。对比结果显示:放置4天后,Mg/SiC损坏面积为26.34%,表面粗糙度为10nm;Mg/Co的损坏面积为2.78%,表面粗糙度为5nm。6天后,X射线掠入射反射率测量显示Mg/SiC多层膜一级反射峰完全消失,而Mg/Co多层膜的一级反射峰仍有47.63%的反射率。实验表明,Mg/Co多层膜的表面层和内部多层膜结构的损坏速度较Mg/SiC慢,具有较好的环境稳定性。另外,X射线光电子谱(XPS)测试Mg基多层膜损坏后的产物主要为MgCO3、Mg(OH)2和少量的MgO,且内层Mg(OH)2与MgCO3含量的比值显著高于表面层。分析认为,水汽是造成Mg基多层膜损坏的主要原因,今后Mg基多层膜保护层的研究可主要针对如何防止水汽进入膜层。 展开更多
关键词 极紫外多层膜 多层膜反射镜 稳定性 湿度
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极紫外单色仪波长定标 被引量:12
5
作者 董宁宁 李敏 +2 位作者 刘震 尼启良 陈波 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第9期1660-1665,共6页
给出了一种新的极紫外(EUV)单色仪定标方法。通过测量标准气体He空阴极光源的30.38和58.43nm两条发射光谱和标定过的中心波长为13.90nm的Mo/Si多层膜反射镜的反射率峰值位置,对Mcpherson247型EUV单色仪进行波长定标,将所定的标... 给出了一种新的极紫外(EUV)单色仪定标方法。通过测量标准气体He空阴极光源的30.38和58.43nm两条发射光谱和标定过的中心波长为13.90nm的Mo/Si多层膜反射镜的反射率峰值位置,对Mcpherson247型EUV单色仪进行波长定标,将所定的标准点在单色仪的运动轨迹上做了相应的标识,并用Origin软件进行处理,利用一元二次方程得出拟合曲线。对标定结果做了分析,得出了在12-60nm波段内,用激光等离子体光源软X射线反射率计测量多层膜反射镜反射峰值位置时,测量准确度为0.08nm,测量重复性为±0.04nm。测量误差主要来源是光源的不稳定性和机械转动误差。 展开更多
关键词 EUV单色仪 定标 多层膜反射镜 准确度 重复性
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不同本底真空度下SiC/Mg极紫外多层膜的制备和测试 被引量:8
6
作者 朱京涛 黄秋实 +7 位作者 白亮 蒋晖 徐敬 王晓强 周洪军 霍同林 王占山 陈玲燕 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第12期2946-2951,共6页
为研究不同本底真空度对SiC/Mg极紫外多层膜光学性能的影响,利用直流磁控溅射方法在不同本底真空度条件下制备了峰值反射波长在30.4nm的SiC/Mg周期膜。X射线掠入射反射测试结果表明,不同本底真空度条件下制备的SiC/Mg周期多层膜膜层质... 为研究不同本底真空度对SiC/Mg极紫外多层膜光学性能的影响,利用直流磁控溅射方法在不同本底真空度条件下制备了峰值反射波长在30.4nm的SiC/Mg周期膜。X射线掠入射反射测试结果表明,不同本底真空度条件下制备的SiC/Mg周期多层膜膜层质量有明显差异。用同步辐射测试了SiC/Mg多层膜在工作波长处的反射率,结果表明,本底真空度为6.0×10-5Pa时,SiC/Mg周期膜反射率为43%,而本底真空度在5.0×10-4Pa时,SiC/Mg多层膜反射率仅为30%。同步辐射反射曲线拟合结果表明,反射率随着本底真空度降低是由多层膜Mg膜层中的Mg氧化物含量增多造成的。 展开更多
关键词 极紫外光学 本底真空度 多层膜 反射率 磁控溅射
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极紫外宽带Mo/Si非周期多层膜偏振光学元件(英文) 被引量:4
7
作者 朱京涛 王占山 +9 位作者 王洪昌 张众 王风丽 秦树基 陈玲燕 崔明启 赵屹东 孙丽娟 周洪军 霍同林 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第12期1886-1893,共8页
研究了极紫外宽带多层膜偏振光学元件,包括反射式检偏器与透射式相移片。基于Mo/Si非周期多层膜结构,采用解析与数值优化相结合的方法进行了多层膜的设计;采用磁控溅射技术制备了多层膜。利用X射线衍射仪对非周期多层膜的结构进行了表征... 研究了极紫外宽带多层膜偏振光学元件,包括反射式检偏器与透射式相移片。基于Mo/Si非周期多层膜结构,采用解析与数值优化相结合的方法进行了多层膜的设计;采用磁控溅射技术制备了多层膜。利用X射线衍射仪对非周期多层膜的结构进行了表征,利用德国BESSY-II同步辐射实验室的偏振测量仪对多层膜的偏振特性进行了测试。测量结果表明,在13 ~19 nm波段,s偏振分量的反射率高于15 %;在15 ~17 nm波段,获得了37 %的反射率。宽带多层膜同样可作为宽角偏振光学元件,在13 .8 ~15 .5 nm波段,宽带透射相移片的平均相移为41 .7°。采用所研制的宽带多层膜相移片与检偏器,建立了宽带偏振分析系统,并对BESSY-II的UE56/1 PGM1光束线的偏振特性进行了系统研究。这种宽带多层膜偏振光学元件可以极大地简化极紫外偏振测量。 展开更多
关键词 偏振光学元件 多层膜 相移片 检偏器 极紫外 同步辐射
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应用于极紫外光刻系统多层膜的研究进展 被引量:4
8
作者 秦娟娟 董伟伟 +2 位作者 周曙 游利兵 方晓东(指导) 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2014年第1期1-11,共11页
极紫外光刻是采用波长为13.5 nm的极紫外光作为光源,实现半导体集成电路工艺22 nm以及更窄线宽节点的主要候选光刻技术。性能优越稳定的多层膜技术是构建整个极紫外光刻系统的重要技术之一、从高反射率、波长匹配、控制面形以及稳定性... 极紫外光刻是采用波长为13.5 nm的极紫外光作为光源,实现半导体集成电路工艺22 nm以及更窄线宽节点的主要候选光刻技术。性能优越稳定的多层膜技术是构建整个极紫外光刻系统的重要技术之一、从高反射率、波长匹配、控制面形以及稳定性和寿命方面总结了极紫外光刻系统中多层膜的性能要求和最新的研究进展,叙述了制备高性能多层膜的方法和沉积设备,讨论了多层膜制备技术存在的问题和发展的方向。 展开更多
关键词 激光技术 极紫外光刻 极紫外多层膜 沉积方法
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极紫外光刻机多层膜反射镜表面碳污染的清洗 被引量:3
9
作者 宋源 卢启鹏 +2 位作者 龚学鹏 王依 彭忠琦 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第11期2835-2844,共10页
针对极紫外(EUV)光刻机工作过程中,多层膜反射镜表面沉积碳污染造成的反射率下降问题展开研究,讨论了多层膜反射镜表面碳污染清洗方法。首先描述了在EUV曝光过程中多层膜表面的碳污染形成过程,简单阐述了碳污染对多层膜反射镜的危害。... 针对极紫外(EUV)光刻机工作过程中,多层膜反射镜表面沉积碳污染造成的反射率下降问题展开研究,讨论了多层膜反射镜表面碳污染清洗方法。首先描述了在EUV曝光过程中多层膜表面的碳污染形成过程,简单阐述了碳污染对多层膜反射镜的危害。然后从清洗机理、速率以及效果等方面详细描述了多种EUV多层膜表面碳污染清洗方法,分析对比了各清洗技术在清洗速率和效果等方面的优缺点。分析表明:离子体氧和活化氧清洗速率相差不多,可达到2nm/min,但清洗过程中容易造成表面氧化;等离子体氢和原子氢的清洗速率相对较慢,一般在0.37nm/min左右,但清洗过程中不易产生氧化。最后针对不同方法应用于在线清洗EUV多层膜反射镜过程中将遇到的问题和难点进行了讨论。 展开更多
关键词 极紫外光刻机 碳污染 清洗技术 多层膜反射镜
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极紫外多层膜制备工艺研究 被引量:7
10
作者 王占山 马月英 《光学技术》 CAS CSCD 2001年第6期532-534,共3页
介绍了用平面磁控溅射方法制备极紫外多层膜的研究工作。围绕极紫外多层膜技术 ,重点探讨了多层膜膜厚定标和工艺过程对多层膜结构和内部成分的影响。为深入研究多层膜制备工艺指明了方向。
关键词 极紫外 多层膜 磁控溅射 制备 光学薄膜
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极紫外宽带多层膜反射镜离散化膜系的设计与制备 被引量:2
11
作者 匡尚奇 李硕 +2 位作者 杨海贵 霍同林 周洪军 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第10期2395-2406,共12页
极紫外(EUV)宽带多层膜的光谱性能对膜厚控制精度要求较高,仅由时间控制膜厚的镀膜系统难以满足其精度控制要求。本文提出了基于进化算法的宽带EUV多层膜离散化膜系设计方法,与传统膜系设计相比,离散化膜系所制备多层膜具有更为优良的EU... 极紫外(EUV)宽带多层膜的光谱性能对膜厚控制精度要求较高,仅由时间控制膜厚的镀膜系统难以满足其精度控制要求。本文提出了基于进化算法的宽带EUV多层膜离散化膜系设计方法,与传统膜系设计相比,离散化膜系所制备多层膜具有更为优良的EUV反射光谱性能。为验证离散化膜系设计在宽带EUV多层膜研制中的优越性,采用磁控溅射方法对具有离散化膜系的宽带多层膜反射镜进行了制备和测试。测试结果表明:研制的宽角度多层膜反射镜可实现入射角带宽为0°~17°,高于41%的反射率;研制的堆栈宽角度多层膜反射镜可实现入射角带宽为0°~18.5°,高于35%的反射率;研制的宽光谱多层膜反射镜可实现波长带宽为12.9~14.9 nm,高于21%的反射率。 展开更多
关键词 多层膜设计 极紫外 离散化设计 宽带多层膜
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13.9和19.6nm正入射Mo/Si多层膜反射镜的反射率测量 被引量:3
12
作者 李敏 董宁宁 +6 位作者 刘震 刘世界 李旭 范鲜红 王丽辉 马月英 陈波 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第9期1666-1672,共7页
为了进一步研究13.9 nm类镍银和19.6 nm类氖锗X射线激光,制备了工作在上述两个波长的Mo/Si多层膜反射镜。设计了结构简单、操作方便的小型反射率计,将其安装在Mcpherson247单色仪出射狭缝附近,以铜靶激光等离子体辐射源为极紫外光源,组... 为了进一步研究13.9 nm类镍银和19.6 nm类氖锗X射线激光,制备了工作在上述两个波长的Mo/Si多层膜反射镜。设计了结构简单、操作方便的小型反射率计,将其安装在Mcpherson247单色仪出射狭缝附近,以铜靶激光等离子体辐射源为极紫外光源,组建了一套适合反射率测量的实验装置,利用此装置测量了实验室制备的多层膜反射镜的反射率。测量之前对单色仪进行了标定并对光源稳定性进行了测量,结果显示,波长准确度是0.08 nm,光源信号抖动范围<5%,光源稳定性好。反射率测量结果显示,实验室能够制备出中心波长分别是13.91和19.60 nm的Mo/Si多层膜反射镜,相应反射率分别为41.9%和22.6%,半宽度为0.56和1.70 nm。同时还用WYKO测量得到13.9和19.6 nmMo/Si多层膜的表面粗糙度分别为0.52和0.55 nm。 展开更多
关键词 Mo/Si多层膜反射镜 反射率测量 表面粗糙度 极紫外光源 激光等离子体光源
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23.4nm软X射线多层膜反射镜研制 被引量:1
13
作者 刘震 李旭 +2 位作者 马月英 陈波 曹健林 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第4期1138-1141,共4页
为了满足类氖-锗X射线激光研究的需要,设计制备了23.4 nm软X射线多层膜反射镜。依据多层膜选材原则并考虑材料的物理化学特性选择新的材料Ti与Si组成材料对。设计优化材料多层膜的周期厚度(d),材料比例(Γ),周期数(N),计算出Ti/Si反射... 为了满足类氖-锗X射线激光研究的需要,设计制备了23.4 nm软X射线多层膜反射镜。依据多层膜选材原则并考虑材料的物理化学特性选择新的材料Ti与Si组成材料对。设计优化材料多层膜的周期厚度(d),材料比例(Γ),周期数(N),计算出Ti/Si反射率曲线。通过实验优化各种镀膜工艺参数,制备出了23.4 nm的Ti/Si多层膜反射镜。利用X射线衍射仪和软X射线反射率计对Ti/Si多层膜结构和反射率进行检测,测量结果为Ti/Si多层膜反射镜中心波长0λ=23.2nm,正入射峰值反射率为R=25.8%。将Ti/Si多层膜反射镜与软X射线波段常用的Mo/Si多层膜反射镜相比,在23.4 nm处,Ti/Si多层膜反射镜的反射率提高10%,而带宽减小1.8 nm,光学性能显著提高。 展开更多
关键词 极紫外 多层膜反射镜 磁控溅射 X射线衍射仪 反射率计
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极紫外正入射光学系统研究进展 被引量:1
14
作者 张哲 伊圣振 +4 位作者 黄秋实 陈晟昊 李文斌 张众 王占山 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第21期2678-2687,共10页
极紫外正入射光学系统广泛应用于生物结构显微成像、等离子体诊断、太阳物理观测和极紫外光刻等领域中,对其开展深入研究具有重要意义。本文对同济大学精密光学工程研究所在极紫外正入射光学系统方面的最新进展进行介绍,列举了应用于超... 极紫外正入射光学系统广泛应用于生物结构显微成像、等离子体诊断、太阳物理观测和极紫外光刻等领域中,对其开展深入研究具有重要意义。本文对同济大学精密光学工程研究所在极紫外正入射光学系统方面的最新进展进行介绍,列举了应用于超热电子诊断、微纳成像、极紫外辐照损伤及Z箍缩等离子体诊断等不同场景中的多套正入射光学系统。这些系统分别在相应的应用中实现了优异的性能表现:毫米级视场内微米级的空间分辨;几十微米级视场内亚微米的超高空间分辨;大数值孔径下的超高能量密度极紫外辐照及多能点多通道的时空间诊断。研究所在极紫外正入射光学系统研究中取得的进展为我国等离子体诊断设备的自主可控及高端制造装备的技术储备提供了有力支持。 展开更多
关键词 极紫外 多层膜 Schwarzschild系统 等离子体诊断 成像系统 聚焦系统
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14nm低原子序数材料多层膜的设计和制备 被引量:1
15
作者 吴文娟 张众 +4 位作者 朱京涛 王风丽 陈玲燕 周洪军 霍同林 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第6期1192-1198,共7页
为了减小常规多层膜的带宽,提高其光谱分辨率,对采用低原子序数材料组成的适用于极紫外和软X射线波段的多层膜进行了研究。首先,在14nm波长处选取3种低原子序数材料对Si/B4C,Si/C和Si/SiC组成多层膜,用随机搜索的方法优化设计了这3种多... 为了减小常规多层膜的带宽,提高其光谱分辨率,对采用低原子序数材料组成的适用于极紫外和软X射线波段的多层膜进行了研究。首先,在14nm波长处选取3种低原子序数材料对Si/B4C,Si/C和Si/SiC组成多层膜,用随机搜索的方法优化设计了这3种多层膜以及在此波段常用的Mo/Si多层膜。然后,用直流磁控溅射的方法制备Si/B4C,Si/C,Si/SiC和Mo/Si多层膜,并用X射线衍射仪测量拟合多层膜的周期厚度。最后,用同步辐射测试多层膜的反射率。同步辐射测试结果显示,Mo/Si多层膜的带宽最大,为0.57nm;Si/SiC多层膜的带宽最小,为0.18nm,结果与理论基本一致。实验结果表明,低原子序数材料多层膜的带宽要比常规Mo/Si多层膜窄,使用低原子序数材料组成多层膜可以提高多层膜的光谱分辨率。 展开更多
关键词 极紫外与软X射线 多层膜 低原子序数材料 磁控溅射 光谱分辨率
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基于云模型量子进化算法的薄膜微观结构表征 被引量:3
16
作者 王一名 张超 +2 位作者 孙秀平 匡尚奇 杨海贵 《长春理工大学学报(自然科学版)》 2018年第4期20-24,30,共6页
掠入射X射线反射(GIXR)是光学薄膜表征的优选方法,但它需要建立相应的物理模型并采用一定的算法进行拟合求解。针对目前普遍使用的进化算法存在着种群规模大、收敛速度慢和拟合精度差的问题,本文将云模型与量子进化算法相结合,提出了一... 掠入射X射线反射(GIXR)是光学薄膜表征的优选方法,但它需要建立相应的物理模型并采用一定的算法进行拟合求解。针对目前普遍使用的进化算法存在着种群规模大、收敛速度慢和拟合精度差的问题,本文将云模型与量子进化算法相结合,提出了一种基于云模型量子进化算法(CQEA)的薄膜微观结构表征方法,并将该算法应用于Si单层膜和周期极紫外Mo/Si多层膜的表征之中,并将其拟合结果与基于进化算法的拟合结果进行对比。分析表明,CQEA具有种群规模小、收敛速度快和拟合精度高的优势,同时给出的薄膜结构参数值精度更高。相关研究工作体现了CQEA应用于薄膜微观结构表征中的可行性与优越性,为基于GIXR的薄膜微观结构表征提供一种更优选的拟合求解方法。 展开更多
关键词 薄膜光学 薄膜表征 掠入射X射线反射 云模型量子进化算法 极紫外多层膜 单层膜
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极端远紫外光刻技术 被引量:4
17
作者 谢常青 叶甜春 《半导体情报》 2001年第5期28-32,共5页
半导体器件与集成电路的不断小型化要求特征尺寸越来越小 ,极端远紫外光刻是 5种下一代光刻技术候选者之一 ,它的目标是瞄准 70纳米及 70纳米以下的特征尺寸光刻。本文从极端远紫外光源、极端远紫外光学系统、反射掩模、光刻胶、光刻机... 半导体器件与集成电路的不断小型化要求特征尺寸越来越小 ,极端远紫外光刻是 5种下一代光刻技术候选者之一 ,它的目标是瞄准 70纳米及 70纳米以下的特征尺寸光刻。本文从极端远紫外光源、极端远紫外光学系统、反射掩模、光刻胶、光刻机等方面对极端远紫外光刻技术进行了分析论述 。 展开更多
关键词 极端远紫外线光刻 半导体工艺 集成电路
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极紫外多层膜技术研究进展 被引量:11
18
作者 张立超 《中国光学与应用光学》 2010年第6期554-565,共12页
在极紫外波段,任何材料都表现出极强的吸收特性,因此,采用多层膜实现高反射率是构建正入射式光学系统的唯一途径。本文总结了极紫外多层膜的发展进程,叙述了制备极紫外多层膜的关键技术(磁控溅射、电子束蒸发、离子束溅射)以及它们涉及... 在极紫外波段,任何材料都表现出极强的吸收特性,因此,采用多层膜实现高反射率是构建正入射式光学系统的唯一途径。本文总结了极紫外多层膜的发展进程,叙述了制备极紫外多层膜的关键技术(磁控溅射、电子束蒸发、离子束溅射)以及它们涉及的相关设备。由于多层膜反射式光学元件主要应用于极紫外光刻与极紫外天文观测,文中重点讨论了极紫外光刻系统对多层膜性能的要求,镀膜过程中的面形精度和热稳定性等问题;同时介绍了极紫外天文观测中使用的多层膜的特点,特别讨论了多层膜光栅的制备技术和亟待解决的问题。 展开更多
关键词 极紫外多层膜 极紫外光刻 多层膜光栅
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基于量子遗传算法的宽带离散化极紫外多层膜的研制
19
作者 匡尚奇 张超 +3 位作者 李硕 杨海贵 霍同林 周洪军 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第4期46-54,共9页
提出了一种基于量子遗传算法的宽带极紫外多层膜的离散化设计方法,解决了在膜系设计中普遍采用的遗传算法存在求解精度低的问题.同时在基于量子遗传算法的膜系设计方法中对膜系进行了离散化设计,解决了在仅由时间控制膜厚且沉积速率较... 提出了一种基于量子遗传算法的宽带极紫外多层膜的离散化设计方法,解决了在膜系设计中普遍采用的遗传算法存在求解精度低的问题.同时在基于量子遗传算法的膜系设计方法中对膜系进行了离散化设计,解决了在仅由时间控制膜厚且沉积速率较大的镀膜系统中的膜厚高精度控制的问题.依据量子遗传算法的膜系设计结果采用磁控溅射镀膜系统镀制宽带极紫外多层膜.测试结果表明,宽角度极紫外多层膜的入射角为0°~15°,反射率达45%以上;宽光谱极紫外多层膜的入射波长为13~15nm,反射率达20%以上.相关研究工作为宽带极紫外多层膜的研发提供了另一种可供选择的且较优的搜索优化算法,同时该算法结合实验,实现膜厚的离散化设计,使镀制出的多层膜具有较好的光谱性能. 展开更多
关键词 光学多层膜 膜系设计 量子遗传算法 宽带极紫外多层膜 离散化设计
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在19.5nm处高反在30.4nm处抑制的双功能薄膜
20
作者 蒋励 王晓强 +5 位作者 谭默言 黄秋实 李浩川 周斯卡 朱京涛 王占山 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第5期1299-1302,共4页
研究了极紫外波段的双功能光学元件。采用周期膜叠加的思想,运用遗传方法优化设计了在19.5 nm处高反,在30.4 nm处抑制的双功能多层膜。采用磁控溅射技术制备了多层膜,利用X射线衍射仪测试了多层膜的结构,在国家同步辐射实验室测试了双... 研究了极紫外波段的双功能光学元件。采用周期膜叠加的思想,运用遗传方法优化设计了在19.5 nm处高反,在30.4 nm处抑制的双功能多层膜。采用磁控溅射技术制备了多层膜,利用X射线衍射仪测试了多层膜的结构,在国家同步辐射实验室测试了双功能多层膜的反射特性。结果表明:制备出的双功能膜性能与设计相符,在入射角13,°19.5 nm处的反射率达到33.3%,接近传统的19.5 nm周期高反膜的反射率,并且在30.4 nm附近将反射率由1.1%降到9.6×10-4。 展开更多
关键词 双功能 多层膜 极紫外 直流磁控溅射 同步辐射
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