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衬底温度对CuI薄膜微结构与性能的影响
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作者 赵海花 方玲 +3 位作者 卢志超 阎有花 赵栋梁 王先友 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A04期1505-1507,共3页
采用喷射沉积技术,探讨不同的衬底温度对CuI薄膜的微结构与性能的影响。通过x射线衍射谱,场发射扫描电子显微镜,霍尔测试仪和紫外.可见光分光光度计等测试了CuI薄膜的微结构、表面形貌和光电性能。研究结果表明,衬底温度为120℃时... 采用喷射沉积技术,探讨不同的衬底温度对CuI薄膜的微结构与性能的影响。通过x射线衍射谱,场发射扫描电子显微镜,霍尔测试仪和紫外.可见光分光光度计等测试了CuI薄膜的微结构、表面形貌和光电性能。研究结果表明,衬底温度为120℃时CuI薄膜的结晶性较好,薄膜表面相对均匀致密。可见光透过率随着衬底温度升高先增大后减小,在衬底温度为120℃时最高,近76%,适合作Al:ZnO/p-CuI/n-CIS薄膜太阳能电池的缓冲层。 展开更多
关键词 CuI薄膜 衬底温度 缓冲层 太阳能电池
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