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氮含量对Ti-B-C-N薄膜微观结构和性能的影响
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作者 陈向阳 张瑾 +1 位作者 马胜利 胡海霞 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2024年第5期62-66,共5页
采用反应磁控溅射法在高速钢基体上制备氮原子分数分别为10.8%,15.6%,28.1%,36.4%的Ti-B-C-N薄膜,研究了氮含量对薄膜微观结构、硬度和摩擦磨损性能的影响。结果表明:Ti-B-C-N薄膜均由α-Fe和Ti(C,N)纳米晶组成,具有Ti(C,N)纳米晶镶嵌... 采用反应磁控溅射法在高速钢基体上制备氮原子分数分别为10.8%,15.6%,28.1%,36.4%的Ti-B-C-N薄膜,研究了氮含量对薄膜微观结构、硬度和摩擦磨损性能的影响。结果表明:Ti-B-C-N薄膜均由α-Fe和Ti(C,N)纳米晶组成,具有Ti(C,N)纳米晶镶嵌在非晶基体相中的纳米复合结构;随着氮含量增加,非晶相含量增加,Ti(C,N)纳米晶的含量和晶粒尺寸减小;随着氮含量增加,Ti-B-C-N薄膜的显微硬度增大,摩擦因数和磨损率均减小,表面磨痕变浅,磨损机制由剥落和微观犁削转变为微观抛光。 展开更多
关键词 反应磁控溅射 Ti-B-c-n薄膜 纳米复合结构 硬度 摩擦磨损性能
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电弧离子镀法制备高硬度Cr-Si-C-N薄膜 被引量:5
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作者 聂朝胤 Akiro Ando +1 位作者 卢春灿 贾晓芳 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第11期1320-1324,共5页
采用电弧离子反应沉积技术在SCM415渗碳淬火钢基片上沉积了Cr-Si-C-N薄膜,三甲基硅烷(TMS)反应气体作为Si和C掺杂源,通过改变TMS流量实现了薄膜中Si和C含量的调节.利用XPS,XRD,HRTEM和显微硬度计研究了Cr-Si-C-N薄膜的化学状态、显微组... 采用电弧离子反应沉积技术在SCM415渗碳淬火钢基片上沉积了Cr-Si-C-N薄膜,三甲基硅烷(TMS)反应气体作为Si和C掺杂源,通过改变TMS流量实现了薄膜中Si和C含量的调节.利用XPS,XRD,HRTEM和显微硬度计研究了Cr-Si-C-N薄膜的化学状态、显微组织和显微硬度.Cr-Si-C-N薄膜中的Si和C含量随TMS流量的增加而单调增加.在TMS流量小于90 mL/min时,薄膜中Si和C含量较少,薄膜由Cr(C,N)纳米晶与Si_3N_4非晶(nc-Cr(C,N)/a Si_3N_4)组成,薄膜硬度随流量的增加而单调增大,最大至4500 HK.硬度的增加源于固溶强化及薄膜中纳米晶/非晶复合结构的形成;当TMS流量大于90 mL/min时,薄膜中Si和C含量较多,多余的C以游离态形式存在,且随TMS流量的增加而增多,薄膜硬度下降. 展开更多
关键词 电弧离子镀 Cr-Si-c-n薄膜 纳米晶 显微硬度
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团簇沉积C-N薄膜的研究 被引量:1
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作者 陈景升 俞国庆 +5 位作者 张志滨 潘浩昌 朱德彰 徐洪杰 郑志豪 阎逢元 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2001年第6期433-438,共6页
利用荷能团簇沉积装置在高阻硅 ( 111)衬底上沉积了碳氮薄膜。通过红外光谱、拉曼谱和X光电子能谱对薄膜的结构和化学组分进行了分析。结果表明 ,薄膜中存在N -sp3C( β -C3N4 的键合方式 ) ,但以N -sp2 C和C =C双键的结合方式为主。
关键词 团族沉积 碳氮薄膜 结构 制备 表征 硅基底 硬度 光谱
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基体负偏压对W-C-N薄膜摩擦磨损性能的影响 被引量:6
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作者 喻利花 王蕊 许俊华 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第4期166-171,共6页
采用多靶反应磁控溅射设备制备了一系列不同基体负偏压的W-C-N复合膜。采用X射线衍射仪、扫描电镜、能量色散谱仪、纳米压痕仪和摩擦磨损仪对薄膜进行表征。结果表明:当负偏压小于等于80 V时,薄膜表现出六方α-WCN相结构,增加到120 V时... 采用多靶反应磁控溅射设备制备了一系列不同基体负偏压的W-C-N复合膜。采用X射线衍射仪、扫描电镜、能量色散谱仪、纳米压痕仪和摩擦磨损仪对薄膜进行表征。结果表明:当负偏压小于等于80 V时,薄膜表现出六方α-WCN相结构,增加到120 V时,转变为立方β-WCN相,薄膜硬度、弹性模量和膜基结合力出现对应最佳性能点的峰值;随着负偏压的增大,薄膜质量得到改善,磨损率和摩擦系数明显降低,负偏压达到200 V时,磨损率和摩擦系数分别出现最低值4.22×10-6mm3.N-1.m-1和0.27;薄膜的磨损机制主要是磨粒磨损。 展开更多
关键词 W-c-n复合膜 磁控溅射 基体负偏压 摩擦磨损性能
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用不同靶材制备B-C-N薄膜及其红外表征 被引量:1
5
作者 王健 白亦真 +5 位作者 张东 潘丽 柳浩 管昌雨 吴占玲 赵纪军 《吉林大学学报(理学版)》 CAS CSCD 北大核心 2010年第6期1027-1030,共4页
采用射频磁控溅射方法,分别利用六方氮化硼(h-BN)、硼(B)和石墨(C)靶,在氩气和氮气的氛围中,沉积B-C-N薄膜.傅里叶变换红外光谱(FTIR)分析表明:在1200~1800cm-1和1000~1750cm-1处出现了较宽的吸收峰;在2200cm-1处出现了CN键的特征吸收... 采用射频磁控溅射方法,分别利用六方氮化硼(h-BN)、硼(B)和石墨(C)靶,在氩气和氮气的氛围中,沉积B-C-N薄膜.傅里叶变换红外光谱(FTIR)分析表明:在1200~1800cm-1和1000~1750cm-1处出现了较宽的吸收峰;在2200cm-1处出现了CN键的特征吸收峰.表明在沉积的薄膜中,C原子与N原子相结合.分别溅射C和h-BN靶,红外光谱分析表明,B—C键在1100cm-1处未产生吸收峰,即利用h-BN和C靶沉积的B-C-N薄膜倾向于相分离,利用B和C靶沉积的B-C-N薄膜中的原子实现了原子量级的化合. 展开更多
关键词 B-c-n薄膜 N2流量 傅里叶变换红外光谱 射频磁控溅射
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热丝CVD法制备C-N薄膜的结构分析 被引量:3
6
作者 耿东生 杨振江 +1 位作者 刘正堂 张贵锋 《微细加工技术》 1998年第3期72-78,共7页
用热丝 CVD法 ,以甲烷、氮气和氢气为气源 ,在 Si( 1 1 1 )衬底上沉积了C- N薄膜。用 X射线光电子谱 ( xps)、喇曼光谱 ( RS)、X射线衍射 ( XRD)和扫描电镜( SEM) ,对 C- N薄膜的结构及生长速率进行了分析研究。结果表明 :C- N薄膜的结... 用热丝 CVD法 ,以甲烷、氮气和氢气为气源 ,在 Si( 1 1 1 )衬底上沉积了C- N薄膜。用 X射线光电子谱 ( xps)、喇曼光谱 ( RS)、X射线衍射 ( XRD)和扫描电镜( SEM) ,对 C- N薄膜的结构及生长速率进行了分析研究。结果表明 :C- N薄膜的结构为非晶态 ,同时含有金刚石和石墨相 ;氮以三种不同的化学键合状态存在于膜中 ,其中 β键合状态的结合能与晶态 β- C3N4的结合能接近 ;随混合气体中氮气含量增加 ,C- N薄膜的生长速率减小。 展开更多
关键词 热丝CVD c-n薄膜 结构 薄膜材料 金刚石
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Influences of nitrogen flow rate on the structures and properties of Ti and N co-doped diamond-like carbon films deposited by arc ion plating 被引量:1
7
作者 张林 马国佳 +2 位作者 林国强 马贺 韩克昌 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第4期616-621,共6页
In this paper, Ti-C-N nanocomposite films are deposited under different nitrogen flow rates by pulsed bias arc ion plating using Ti and graphite targets in the Ar/N2 mixture gas. The surface morphologies, compositions... In this paper, Ti-C-N nanocomposite films are deposited under different nitrogen flow rates by pulsed bias arc ion plating using Ti and graphite targets in the Ar/N2 mixture gas. The surface morphologies, compositions, microstructures, and mechanical properties of the Ti-C-N films are investigated systematically by field emission scanning electron mi- croscopy (FE-SEM), x-ray photoelectron spectroscopy (XPS), grazing incident x-ray diffraction (GIXRD), Raman spectra, and nano-indentation. The results show that the nanocrystalline Ti(C,N) phase precipitates in the film from GIXRD and XPS analysis, and Raman spectra prove the presence of diamond-like carbon, indicating the formation of nanocomposite film with microstructures comprising nanocrystalline Ti(C,N) phase embedded into a diamond-like matrix. The nitrogen flow rate has a significant effect on the composition, structure, and properties of the film. The nano-hardness and elastic modulus first increase and then decrease as nitrogen flow rate increases, reaching a maximum of 34.3 GPa and 383.2 GPa, at a nitrogen flow rate of 90 sccm, respectively. 展开更多
关键词 arc ion plating Ti-c-n film nitrogen flow rate microstructure
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脉冲偏压电弧离子镀C-N-Cr薄膜的成分、结构与性能
8
作者 李红凯 刘琪 +1 位作者 林国强 董闯 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第5期610-614,共5页
用脉冲偏压电弧离子镀设备在保持偏压一致和工作气压恒定的条件下,控制不同氮(N)流量,在硬质合金基体上制备了不同成分的C-N-Cr薄膜.用SEM,XPS,GIXRD,激光Raman谱和纳米压入等方法分别研究了薄膜的表面形貌、成分、结构与性能.结果表明... 用脉冲偏压电弧离子镀设备在保持偏压一致和工作气压恒定的条件下,控制不同氮(N)流量,在硬质合金基体上制备了不同成分的C-N-Cr薄膜.用SEM,XPS,GIXRD,激光Raman谱和纳米压入等方法分别研究了薄膜的表面形貌、成分、结构与性能.结果表明,随着N流量增加,薄膜中N含量先是线性增加然后趋于平缓,Cr含量先是基本保持不变然后线性减少.在N流量不超过20 mL/min时,薄膜保持较高的硬度(>30 GPa)与弹性模量(>500 GPa);当N流量超过20 mL/min时,薄膜硬度与弹性模量急剧下降,在N流量为100 mL/min时硬度与弹性模量仅为13.6与190.8 GPa. 展开更多
关键词 c-n-Cr薄膜 脉冲偏压 电弧离子镀 结构 性能
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C-N化合物薄膜的PE-HFCVD合成研究
9
作者 程国安 刘洪刚 +2 位作者 郑瑞廷 赵勇 刘华平 《北京师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2004年第4期475-480,共6页
对等离子体增强热丝化学气相沉积 (PE HFCVD)Si衬底上合成的C N薄膜进行了研究 .利用X射线衍射 (XRD)、反射式高能电子衍射 (RHEED)、扫描电子显微镜 (SEM)等对C N薄膜的物相、形貌以及沉积层结构进行了分析 .结果证实 :在Si衬底上能形... 对等离子体增强热丝化学气相沉积 (PE HFCVD)Si衬底上合成的C N薄膜进行了研究 .利用X射线衍射 (XRD)、反射式高能电子衍射 (RHEED)、扫描电子显微镜 (SEM)等对C N薄膜的物相、形貌以及沉积层结构进行了分析 .结果证实 :在Si衬底上能形成了α C3N4 和 β C3N4 混合相 ,且气流中V(NH3)∶V(CH4 )的比值直接影响C N薄膜中混合相的含量 .由于α C3N4 和 β C3N4 相之间存在的竞相生长 ,导致晶粒很难长大 ,从而形成聚晶结构 ,每个聚晶由大量的纳米晶组成 . 展开更多
关键词 PE-HFCVD c-n化合物 薄膜
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不同对摩条件Ti-B-C-N薄膜摩擦学性能
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作者 陈向阳 张瑾 +1 位作者 马胜利 胡海霞 《安徽理工大学学报(自然科学版)》 CAS 2020年第4期8-12,共5页
为了研究不同载荷和对磨速率Ti-B-C-N薄膜的摩擦学性能,用反应磁控溅射(RMS)方法在高速钢基体上制备了Ti-B-C-N纳米复合薄膜,用高分辨透射电镜(HRTEM)、扫描电镜(SEM)、摩擦仪、结合力测试仪、表面粗糙度测试仪和显微硬度计等方法研究... 为了研究不同载荷和对磨速率Ti-B-C-N薄膜的摩擦学性能,用反应磁控溅射(RMS)方法在高速钢基体上制备了Ti-B-C-N纳米复合薄膜,用高分辨透射电镜(HRTEM)、扫描电镜(SEM)、摩擦仪、结合力测试仪、表面粗糙度测试仪和显微硬度计等方法研究了载荷和对磨速率对Ti-B-C-N纳米复合薄膜的摩擦学性能的影响.结果 表明:Ti-B-C-N纳米复合薄膜的摩擦系数和磨损率随着载荷增加呈降低趋势,随对磨速率的增加,Ti-B-C-N纳米复合薄膜的摩擦系数和磨损率呈降低趋势.在不同载荷和对磨速率条件下,Ti-B-C-N薄膜均显示出了较好的耐磨和减摩性能.分析认为,Ti-B-C-N薄膜优异的力学性能是薄膜在不同载荷和对磨速率条件下具有较好的耐磨和减摩性能的主要原因. 展开更多
关键词 Ti-B-c-n 纳米复合薄膜 摩擦学 载荷 对磨速率
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Fe-C-N合金板条马氏体的组织构成
11
作者 陈士仁 唐电 《金属科学与工艺》 CAS CSCD 北大核心 1990年第2期47-52,共6页
采用适射电子显微镜对五种Fc—C—N合金的板条马氏体的束内和束界区进行详细的观察和分析。研究发现板条马氏体组织中存在填塞马氏体。板条马氏体组织是由一簇簇平行排列的大小板条,以及填充在马氏体板条间,束界和界隅内的不定外形的填... 采用适射电子显微镜对五种Fc—C—N合金的板条马氏体的束内和束界区进行详细的观察和分析。研究发现板条马氏体组织中存在填塞马氏体。板条马氏体组织是由一簇簇平行排列的大小板条,以及填充在马氏体板条间,束界和界隅内的不定外形的填塞马氏体和条间残余奥氏体薄膜或膜片所构成。 展开更多
关键词 Fe-c-n合金 马氏体 板条
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多元Cr-Mo-Si-C-N系列薄膜结构及摩擦学特性研究进展
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作者 张懋达 付永强 +1 位作者 王谦之 周飞 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2019年第4期136-148,共13页
从三元含Mo的Cr-Mo-N、Mo-Si-N、Mo-C-N薄膜到四元Cr-Mo-Si-N、Mo-Si-C-N薄膜,综述多元系列薄膜的结构、力学及摩擦学性能的研究进展;分析在不同气体压力、制备方法与参数、不同元素含量下薄膜结构的变化,阐述薄膜结构与其力学性能和摩... 从三元含Mo的Cr-Mo-N、Mo-Si-N、Mo-C-N薄膜到四元Cr-Mo-Si-N、Mo-Si-C-N薄膜,综述多元系列薄膜的结构、力学及摩擦学性能的研究进展;分析在不同气体压力、制备方法与参数、不同元素含量下薄膜结构的变化,阐述薄膜结构与其力学性能和摩擦学特性的关联。指出:多元Cr-Mo-Si-C-N系列薄膜结构、硬度、摩擦因数强烈受到薄膜中Mo、Si、C、N元素含量的影响,其中力学特性还与薄膜微结构紧密相关;薄膜的摩擦学特性与晶粒生长细化和作为润滑剂的无定形基质有关;在摩擦过程中发生的摩擦化学反应也有效地提高了薄膜的耐磨性。对于四元Cr-Mo-C-N和多元Cr-Mo-Si-C-N薄膜,建议进一步研究在水润滑与非润滑的不同条件下,例如在海水或者空气干摩擦环境下,是否由于薄膜结构组分的不同而有效地形成含Mo的氧化物的自润滑膜,以提高薄膜在更多场合下的适应性和减摩性。 展开更多
关键词 磁控溅射 Cr-Mo-Si-c-n薄膜 薄膜结构 摩擦学特性
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B-C-N薄膜的制备及其红外光谱表征
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作者 贾福超 白亦真 +4 位作者 庄春强 屈芳 邢娇杨 赵纪军 姜辛 《材料研究与应用》 CAS 2009年第1期19-22,共4页
采用射频磁控溅射方法.以石墨和六方氮化硼(h-BN)为复合靶,在氩气和氮气的氛围中。在室温和673K的条件下,分别改变N2流量,沉积BCN薄膜.经傅立叶变换红外光谱(FTIR)分析表明,在1000-1800cm-1和2200cm-1处分别出现了C=N键和弱的... 采用射频磁控溅射方法.以石墨和六方氮化硼(h-BN)为复合靶,在氩气和氮气的氛围中。在室温和673K的条件下,分别改变N2流量,沉积BCN薄膜.经傅立叶变换红外光谱(FTIR)分析表明,在1000-1800cm-1和2200cm-1处分别出现了C=N键和弱的C≡N键的特征吸收峰.表明沉积的薄膜组分当中,少量碳原子与氮原子结合.而分别溅射石墨和h-BN靶,红外光谱分析显示1100cm-1处不是B--C键.说明采用射频磁控溅射方法得到的薄膜倾向于相分离. 展开更多
关键词 BCN薄膜 傅立叶变换红外光谱 射频磁控溅射
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Magnetic properties and structure of (001)-oriented [CoPt/C]_n /Ag nanocomposite films on the glass substrates 被引量:3
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作者 JIN Tao XU Xiaohong WANG Fang LI Xiaoli JIANG Fengxian YANG Zhiguang 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2006年第3期265-269,共5页
The highly (1301) oriented triple system of [CoPt/C]n/Ag films was deposited on glass substrates by DC and RF magnetron sputtering. After annealing at 600℃ for 30 min, thin films become magnetically hard with coerc... The highly (1301) oriented triple system of [CoPt/C]n/Ag films was deposited on glass substrates by DC and RF magnetron sputtering. After annealing at 600℃ for 30 min, thin films become magnetically hard with coercivities in the range of 160-875 kA/m because of high anisotropy associated with the L10 ordered phase. C doping plays an important role in improving (001) texture and reducing the intergrain interactions. The oriented growth of CoPt films was influenced strongly by the number of repetitions (n) of CoPt/C. By controlling the C content and the number of repetitions (n) of CoPt/C, nearly perfect (001) orientation can be obtained in the [CoPt3nm/C3nm]5/Ag50 nm. 展开更多
关键词 [CoPt/C]n/Ag multilayer films (001) orientation C content number of repetition
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Preparation and characterization of thick cubic boron nitride films 被引量:1
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作者 王明娥 马国佳 +1 位作者 董闯 巩水利 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第6期462-467,共6页
Cubic boron nitride (c-BN) films are prepared by the radio frequency magnetron sputtering technique. The stresses and crystallinities of the films are estimated by the Fourier transform infrared spectroscopy of c-BN... Cubic boron nitride (c-BN) films are prepared by the radio frequency magnetron sputtering technique. The stresses and crystallinities of the films are estimated by the Fourier transform infrared spectroscopy of c-BN samples, including the peak shifts and varieties of full widths at half maximum. The effects of the B-C-N interlayer and the two-stage deposition method on the c-BN films are investigated. Then the thick and stable c-BN films are prepared by a combination of the two methods. The properties of the interlayer and film are also characterized. 展开更多
关键词 cubic BN films B-c-n interlayer stress HARDNESS
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A New Method to Obtain TiN-Ti(C,N)Composite Film
16
作者 冯钟潮 侯万良 +2 位作者 韩健 王亚庆 佟百运 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 1992年第5期339-342,共4页
A new method has been studied to obtain TiN-Ti(C,N)composite film by laser-induced re- action in order to modify the surface properties of substrate.An apparatus for this new technology has been developed.The main rea... A new method has been studied to obtain TiN-Ti(C,N)composite film by laser-induced re- action in order to modify the surface properties of substrate.An apparatus for this new technology has been developed.The main reaction,the influence of main processing parameters on the formation, composition,microstructure and properties of the film have been researched.The average hardness of the film is up to HK 2700-2800.The wear resist- ance of the film is higher than that of the substrate by a factor of 9-11;and the film has good adhesive strength with the substrate. 展开更多
关键词 laser-induced reaction TiNTi(C N)composite film
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电弧增强磁控溅射制备的纳米复合Si-C-N超硬薄膜的结构与性能
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作者 郑凤新 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2013年第3期55-57,1-2,共3页
耐磨、韧性好的超硬薄膜工程应用价值大。采用电弧增强磁控溅射(AEMS)技术在GCr15轴承钢表面制备了纳米复合Si-C-N超硬薄膜,研究了薄膜的形貌、相组成、硬度、韧性和摩擦磨损性能。结果表明:薄膜中纳米SiC与Si3N4晶体弥散分布于C-C,C=C... 耐磨、韧性好的超硬薄膜工程应用价值大。采用电弧增强磁控溅射(AEMS)技术在GCr15轴承钢表面制备了纳米复合Si-C-N超硬薄膜,研究了薄膜的形貌、相组成、硬度、韧性和摩擦磨损性能。结果表明:薄膜中纳米SiC与Si3N4晶体弥散分布于C-C,C=C以及N-C组成的非晶相基体中,形成了纳米晶/非晶复合组织结构,显著提高了薄膜的硬度和韧性,增强了薄膜的抗摩擦磨损性能;薄膜的硬度为(36.5±3.9)GPa,断裂韧性为(4.15±0.28)MPa.m1/2,稳定摩擦系数为0.27左右。 展开更多
关键词 AEMS 纳米复合Si-c-n超硬薄膜 显微结构 硬度 断裂韧性 摩擦系数
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Advanced Treatment of Wastewater Treatment Plant Effluent by Using Biofilms on Filamentous Bamboo 被引量:3
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作者 SUN Jun-wei HE Zheng-guang +3 位作者 CAO Wen-ping LI Lei YAN Xiao-le JIA Sheng-yong 《Meteorological and Environmental Research》 CAS 2012年第8期40-42,52,共4页
[ Objective ] The study aimed at treating wastewater treatment plant (WWTP) effluent by using bio-film reactor with filamentous bamboo as bio-carrier. [ Method] With the aid of a continuous flow reactor, a bio-film ... [ Objective ] The study aimed at treating wastewater treatment plant (WWTP) effluent by using bio-film reactor with filamentous bamboo as bio-carrier. [ Method] With the aid of a continuous flow reactor, a bio-film reactor using filamentous bamboo as bio-carrier was used to treat WWTP effluent with low C/N ratio, and the removal effects of CODc,, TN (total nitrogen), and NO3--N in the wastewater were analyzed.[ Result ] The average removal rates of CODcr, TN, and NO3- -N reached 47.7%, 23.6% and 34.5% when the C/N ratio of influent was around 2. In addi- tion, a stable bio-film was formed very well in the secondary effluent with low C/N ratio and hardly degradable organic pollutants. The pollutants could be removed effectively because of the excellent surface characteristics and compositions of filamentous bamboo. [ Conclusion] The research provides a new method to treat WWTP effluent with low C/N ratio. 展开更多
关键词 Filamentous bamboo Bio-film process Wastewater treatment plant (WWTP) effluent Low C/N ratio China
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Ti(C,N)复合膜和TiN/Ti(C,N)多层膜组织和显微硬度 被引量:15
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作者 汪蕾 董师润 +3 位作者 尤建飞 喻利花 李学梅 许俊华 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第2期113-118,共6页
采用非平衡反应磁控溅射的方法在Si(100)基片上沉积Ti(C,N)复合膜和不同调制周期、调制比的TiN/Ti(C,N)纳米多层薄膜。薄膜的微观结构和力学性能采用X射线衍射仪(XRD)、显微硬度计进行表征。结果表明,Ti(C,N)复合膜的微观结构和力学性... 采用非平衡反应磁控溅射的方法在Si(100)基片上沉积Ti(C,N)复合膜和不同调制周期、调制比的TiN/Ti(C,N)纳米多层薄膜。薄膜的微观结构和力学性能采用X射线衍射仪(XRD)、显微硬度计进行表征。结果表明,Ti(C,N)复合膜的微观结构和力学性能与掺入C的含量有关;TiN/Ti(C,N)纳米多层膜的微观结构和力学性能与调制周期和调制比有关,其显微硬度在一定的调制周期和调制比范围内出现了超硬现象。Ti(C,N)、TiN/Ti(C,N)均为δ-NaCl面心立方结构;Ti(C,N)复合膜显微硬度提高是因为固溶强化,TiN/Ti(C,N)纳米多层膜硬度的提高主要是共格外延生长在界面处产生的交变应力场。 展开更多
关键词 Ti(C N)复合膜 TiN/Ti(C N)纳米多层膜 显微硬度 组织 超硬效应
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Ti(C,N)薄膜的复合硬度与本征硬度的研究 被引量:17
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作者 徐可为 白辰东 何家文 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1995年第9期B429-B434,共6页
本文对不同性质的膜─基体系通过确定C的具体取值对Joensson-Hogmark模型予以修正,研究厂等离子体增强化学气相沉积Ti(C,N)薄膜的硬度及其随成分组织的变化。Ti(C、N)薄膜具有较小的晶粒尺寸和较高的残... 本文对不同性质的膜─基体系通过确定C的具体取值对Joensson-Hogmark模型予以修正,研究厂等离子体增强化学气相沉积Ti(C,N)薄膜的硬度及其随成分组织的变化。Ti(C、N)薄膜具有较小的晶粒尺寸和较高的残余压应力,其硬度远高于一般的整体材料,在确定的。工艺条件下,其值上要取决于膜的含碳量,大体成线性增加关系。 展开更多
关键词 薄膜 复合硬度 本征硬度 化学气相沉积
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