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Analysis of the resistive switching behaviors of vanadium oxide thin film 被引量:1
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作者 韦晓莹 胡明 +3 位作者 张楷亮 王芳 赵金石 苗银萍 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第3期437-441,共5页
We demonstrate the polarization of resistive switching for a Cu/VOx/Cu memory cell.The switching behaviors of Cu/VOx/Cu cell are tested by using a semiconductor device analyzer(Agilent B1500A),and the relative micro... We demonstrate the polarization of resistive switching for a Cu/VOx/Cu memory cell.The switching behaviors of Cu/VOx/Cu cell are tested by using a semiconductor device analyzer(Agilent B1500A),and the relative micro-analysis of I-V characteristics of VOx/Cu is characterized by using a conductive atomic force microscope(CAFM).The I-V test results indicate that both the forming and the reversible resistive switching between low resistance state(LRS) and high resistance state(HRS) can be observed under either positive or negative sweep.The CAFM images for LRS and HRS directly exhibit evidence for the formation and rupture of filaments based on positive or negative voltage.The Cu/VOx/Cu sandwiched structure exhibits reversible resistive switching behavior and shows potential applications in the next generation of nonvolatile memory. 展开更多
关键词 VOx thin films reversible resistive switching resistive random access memory(RRAM) conductive atomic force microscope
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半导体薄膜表面粘附的非对称性偏压调控
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作者 李保文 轩啸宇 +4 位作者 殷艳 周建新 张助华 易敏 郭万林 《Acta Mechanica Sinica》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第3期1-6,共6页
电调控表面粘附对微机电系统是至关重要的,同时相对于外加电压极性常具有对称性.本文以二硫化钼为研究对象,以石墨烯、氮化硼和n型硅为参照组展示半导体薄膜表面的非对称粘附行为.研究主要通过导电原子力显微镜和理论模拟来揭示金探针... 电调控表面粘附对微机电系统是至关重要的,同时相对于外加电压极性常具有对称性.本文以二硫化钼为研究对象,以石墨烯、氮化硼和n型硅为参照组展示半导体薄膜表面的非对称粘附行为.研究主要通过导电原子力显微镜和理论模拟来揭示金探针与金基底上二硫化钼之间的偏压调控粘附力的行为.结果反映二硫化钼表面偏压对粘附的调控能力远大于参照组材料,这种非对称行为主要来源于半导体薄膜与背电极之间形成的肖特基结中的内建电场. 展开更多
关键词 Surface adhesion Molybdenum disulfide Conductive atomic force microscope Schottky junction
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