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顶栅共面结构非晶氧化物薄膜晶体管的低成本制备及性能研究
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作者 岳兰 孟繁新 《半导体光电》 CAS 北大核心 2024年第2期242-246,共5页
将溶液法制备的不含镓的非晶InAlZnO薄膜和有机聚甲基丙烯酸甲酯薄膜分别作为沟道层和介质层,制备了顶栅共面结构的非晶氧化物薄膜晶体管(TFT)器件,探讨了沟道层中Al含量对器件性能的影响。结果表明:Al对InZnO薄膜中氧空位的形成能起到... 将溶液法制备的不含镓的非晶InAlZnO薄膜和有机聚甲基丙烯酸甲酯薄膜分别作为沟道层和介质层,制备了顶栅共面结构的非晶氧化物薄膜晶体管(TFT)器件,探讨了沟道层中Al含量对器件性能的影响。结果表明:Al对InZnO薄膜中氧空位的形成能起到一定抑制作用,增加Al含量即可降低沟道层中的电子载流子浓度,使得InAlZnO TFT器件阈值电压正向移动、关态电流减小,以有利于器件开关比的提升。此外,基于沟道层中Al含量的调整可通过优化沟道层/介质层界面状态来促进器件阈值电压滞回稳定性的提升。当沟道层中Al含量为30%时,制备的器件具有最佳综合性能。 展开更多
关键词 薄膜晶体管 铟铝锌氧化物 溶液法 顶栅共面结构 低成本
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电泳法制备平栅极碳纳米管场发射阴极及场发射特性研究
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作者 赵文中 祁康成 +1 位作者 文永亮 李鹏 《电子器件》 CAS 北大核心 2012年第1期15-17,共3页
采用电泳法在ITO玻璃基板上选择性制备了碳纳米管(CNTs)阴极薄膜,采用电子扫描(SEM)分析了CNTs薄膜的表面形貌,并测试了碳纳米管阴极的场致发射特性。结果表明,利用电泳法制得的碳纳米管阴极薄膜均匀性、致密性良好,且具有较大发射电流... 采用电泳法在ITO玻璃基板上选择性制备了碳纳米管(CNTs)阴极薄膜,采用电子扫描(SEM)分析了CNTs薄膜的表面形貌,并测试了碳纳米管阴极的场致发射特性。结果表明,利用电泳法制得的碳纳米管阴极薄膜均匀性、致密性良好,且具有较大发射电流密度;通过控制共面栅控CNTs场发射阴极的栅极电位能够有效控制阴极的场发射电流密度。当阳极电压为450 V,栅极电压230 V时,发射电流密度达到7.6 mA/cm2。 展开更多
关键词 场致发射 碳纳米管 电泳法 平栅结构
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平面双栅型离子栅晶体管的逻辑功能研究
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作者 桑旭慧 胡硕豪 +1 位作者 刘尚剑 邵枫 《电子元件与材料》 CAS 北大核心 2023年第4期451-457,共7页
离子栅晶体管作为一种新型半导体器件,因其低电压、可多栅调控的特点以及在化学传感和类脑器件方面的运用而备受关注。由于离子栅具有侧向长程调控的能力,十分有利于制备成平面双栅的结构,进一步利用两个栅极输入对离子与沟道内电子耦... 离子栅晶体管作为一种新型半导体器件,因其低电压、可多栅调控的特点以及在化学传感和类脑器件方面的运用而备受关注。由于离子栅具有侧向长程调控的能力,十分有利于制备成平面双栅的结构,进一步利用两个栅极输入对离子与沟道内电子耦合情况的调控,可以实现独特的逻辑输出。为了更好地实现该功能,采用射频磁控溅射制备了铟镓锌氧(IGZO)沟道和铟锌氧(IZO)电极,以聚电解质材料——聚苯乙烯磺酸钠(PSSNa)作为离子栅介质制备了平面双栅型离子栅晶体管。在测量其晶体管基本电学特性的基础上,通过对双栅调控机制的研究,首先实现了与逻辑(AND)的输出,再利用负载电阻后反相器的非门(NOT)作用,将两者结合,形成与非逻辑(NAND)输出,从而证明离子栅晶体管在平面双栅结构下仅需简单的器件和电路就能实现多种基本逻辑功能。 展开更多
关键词 离子栅晶体管 聚苯乙烯磺酸钠 平面双栅 逻辑功能
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A W-band two-stage cascode amplifier with gain of 25.7 dB
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作者 钟英辉 张玉明 +6 位作者 张义门 曹玉雄 姚鸿飞 王显泰 吕红亮 刘新宇 金智 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2013年第12期72-76,共5页
AW-bandtwo-stageamplifierMMIChasbeendevelopedusingafullypassivated 2 × 20 μm gate-width and 0.15 μm gate-length InP-based high electron mobility transistor (HEMT) technology. The two-stage amplifier has been ... AW-bandtwo-stageamplifierMMIChasbeendevelopedusingafullypassivated 2 × 20 μm gate-width and 0.15 μm gate-length InP-based high electron mobility transistor (HEMT) technology. The two-stage amplifier has been realized in combination with a coplanar waveguide technique and cascode topology, thus leading to a compact chip-size of 1.85 × 0.932 mm^2 and an excellent small-signal gain of 25.7 dB at 106 GHz. Additionally, an inter-digital coupling capacitor blocks low-frequency signal, thereby enhancing the stability of the amplifier. The successful design of the two-stage amplifier MMIC indicates that InP HEMT technology has a great potential for W-band applications. 展开更多
关键词 CASCODE coplanar waveguide HEMT gate-LENGTH
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