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A CAD oriented quasi-analytical large-signal drain current model for 4H-SiC MESFETs 被引量:3
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作者 曹全君 张义门 +4 位作者 张玉明 吕红亮 王悦湖 常远程 汤晓燕 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2007年第4期1097-1100,共4页
This paper reports that a 4H-SiC MESFET (Metal Semiconductor Field Effect Transistor) large signal drain current model based on physical expressions has been developed to be used in CAD tools. The form of drain curr... This paper reports that a 4H-SiC MESFET (Metal Semiconductor Field Effect Transistor) large signal drain current model based on physical expressions has been developed to be used in CAD tools. The form of drain current model is based on semi-empirical MESFET model, and all parameters in this model are determined by physical parameters of 4H-SiC MESFET. The verification of the present model embedded in CAD tools is made, which shows a good agreement with measured data of large signal DC I-V characteristics, PAE (power added efficiency), output power and gain. 展开更多
关键词 4H-SiC MESFET drain current model CAD large signal
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Improved power simulation of AlGaN/GaN HEMT at class-AB operation via an RF drain–source current correction method
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作者 林体元 庞磊 +1 位作者 袁婷婷 刘新宇 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第12期428-434,共7页
A new modified Angelov current–voltage characteristic model equation is proposed to improve the drain–source current(Ids) simulation of an Al Ga N/Ga N-based(gallium nitride) high electron mobility transistor(A... A new modified Angelov current–voltage characteristic model equation is proposed to improve the drain–source current(Ids) simulation of an Al Ga N/Ga N-based(gallium nitride) high electron mobility transistor(Al Ga N/Ga N-based HEMT) at high power operation. Since an accurate radio frequency(RF) current simulation is critical for a correct power simulation of the device, in this paper we propose a method of Al Ga N/Ga N high electron mobility transistor(HEMT)nonlinear large-signal model extraction with a supplemental modeling of RF drain–source current as a function of RF input power. The improved results of simulated output power, gain, and power added efficiency(PAE) at class-AB quiescent bias of Vgs =-3.5 V, Vds= 30 V with a frequency of 9.6 GHz are presented. 展开更多
关键词 AlGaN/GaN HEMT RF drain–source current RF dispersion effect power-added efficiency
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Performance enhancement of CMOS terahertz detector by drain current
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作者 张行行 纪小丽 +3 位作者 廖轶明 彭静宇 朱晨昕 闫锋 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第9期491-495,共5页
In this paper, we study the effect of the drain current on terahertz detection for Si metal-oxide semiconductor fieldeffect transistors(MOSFETs) both theoretically and experimentally. The analytical model, which is ... In this paper, we study the effect of the drain current on terahertz detection for Si metal-oxide semiconductor fieldeffect transistors(MOSFETs) both theoretically and experimentally. The analytical model, which is based on the smallsignal equivalent circuit of MOSFETs, predicts the significant improvement of the voltage responsivity Rv with the bias current. The experiment on antennas integrated with MOSFETs agrees with the analytical model, but the Rv improvement is accompanied first by a decrease, then an increase of the low-noise equivalent power(NEP) with the applied current. We determine the tradeoff between the low-NEP and high-Rv for the current-biased detectors. As the best-case scenario, we obtained an improvement of about six times in Rv without the cost of a higher NEP. We conclude that the current supply scheme can provide high-quality signal amplification in practical CMOS terahertz detection. 展开更多
关键词 drain current CMOS terahertz detectors voltage responsivity noise equivalent power
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Temperature-Dependent Drain Current Characteristics and Low Frequency Noises in Indium Zinc Oxide Thin Fihn Transistors
4
作者 刘远 吴为敬 +3 位作者 强蕾 王磊 恩云飞 李斌 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2015年第8期208-211,共4页
The I-V characteristics and low frequency noises for indium zinc oxide thin film transistor are measured between 250 K and 430 K. The experimental results show that drain currents are thermally activated following the... The I-V characteristics and low frequency noises for indium zinc oxide thin film transistor are measured between 250 K and 430 K. The experimental results show that drain currents are thermally activated following the Meyer Neldel rule, which can be explained by the multiple-trapping process. Moreover, the field effect electron mobility firstly increases, and then decreases with the increase of temperature, while the threshold voltage decreases with increasing the temperature. The activation energy and the density of localized gap states are extracted. A noticeable increase in the density of localized states is observed at the higher temperatures. 展开更多
关键词 TFT Temperature-Dependent drain current Characteristics and Low Frequency Noises in Indium Zinc Oxide Thin Fihn Transistors
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Anomalous Channel Length Dependence of Hot-Carrier-Induced Saturation Drain Current Degradation in n-Type MOSFETs
5
作者 张春伟 刘斯扬 +7 位作者 孙伟锋 周雷雷 张艺 苏巍 张爱军 刘玉伟 胡久利 何骁伟 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2015年第8期193-195,共3页
The dependencies of hot-carrier-induced degradations on the effective channel length Lch,eff are investigated for n-type metal-oxide-semiconductor field effect transistor (MOSFETs). Our experiments find that, with d... The dependencies of hot-carrier-induced degradations on the effective channel length Lch,eff are investigated for n-type metal-oxide-semiconductor field effect transistor (MOSFETs). Our experiments find that, with decreasing Lch,eff, the saturation drain current (Iasat ) degradation is unexpectedly alleviated. The further study demonstrates that the anomalous Lch,eff dependence of Idsat degradation is induced by the increasing influence of the substrate current degradation on the lazar degradation with Lch,eff reducing. 展开更多
关键词 Anomalous Channel Length Dependence of Hot-Carrier-Induced Saturation drain current Degradation in n-Type MOSFETs
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AlN/β-Ga_(2)O_(3)HEMT直流特性仿真
6
作者 贺小敏 唐佩正 +4 位作者 张宏伟 张昭 胡继超 李群 蒲红斌 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2024年第5期766-772,共7页
本文利用器件仿真软件对AlN/β-Ga_(2)O_(3)高电子迁移率晶体管(HEMT)器件的直流特性进行研究。由于AlN具有很强的极化效应,在AlN/β-Ga_(2)O_(3)异质结界面处产生高浓度二维电子气(2DEG),使AlN/β-Ga_(2)O_(3)异质结基HEMT具有更加优... 本文利用器件仿真软件对AlN/β-Ga_(2)O_(3)高电子迁移率晶体管(HEMT)器件的直流特性进行研究。由于AlN具有很强的极化效应,在AlN/β-Ga_(2)O_(3)异质结界面处产生高浓度二维电子气(2DEG),使AlN/β-Ga_(2)O_(3)异质结基HEMT具有更加优越的器件性能。理论计算得到AlN/β-Ga_(2)O_(3)异质结界面处产生的面电荷密度为2.75×10^(13) cm^(-2)。通过分析器件的能带结构、沟道电子浓度分布,研究AlN势垒层厚度、栅极长度、栅漏间距,以及金属功函数等参数对器件转移特性和输出特性的影响。结果表明:随着AlN势垒层厚度的增大,阈值电压减小,最大跨导减小,沟道电子浓度增大使饱和漏电流增大;随着栅极长度缩短,跨导增大,当栅极长度缩短至0.1μm时,器件出现了短沟道效应,并且随着栅极长度的缩短,栅下沟道区电子浓度增大,而电子速度基本不变,导致饱和漏电流增大,导通电阻减小,并且器件的饱和特性变差;随着栅漏间距的增大,跨导增大,沟道区电子浓度不变,而电子速度略有增加,导致饱和漏电流增大;肖特基栅金属功函数的增加会增大阈值电压,不会改变器件跨导,沟道电子浓度减小导致饱和漏电流减小。上述结论为后面的器件的优化改进提供了理论依据。 展开更多
关键词 β-Ga_(2)O_(3) ALN HEMT 阈值电压 跨导 饱和漏电流
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GaN功率器件应用可靠性增长研究 被引量:2
7
作者 江元俊 王卫华 郑新 《微波学报》 CSCD 北大核心 2023年第1期62-67,共6页
GaN功率器件是雷达T/R组件或发射功放组件中的核心元器件,随着器件的输出功率和功率密度越来越高,器件的长期可靠性成为瓶颈。文章对雷达脉冲工作条件下GaN功率器件的失效机理进行了分析和研究,指出高漏源过冲电压、栅源电压的稳定性以... GaN功率器件是雷达T/R组件或发射功放组件中的核心元器件,随着器件的输出功率和功率密度越来越高,器件的长期可靠性成为瓶颈。文章对雷达脉冲工作条件下GaN功率器件的失效机理进行了分析和研究,指出高漏源过冲电压、栅源电压的稳定性以及GaN管芯的沟道温度的高低是影响GaN功率器件长期应用可靠性的主要因素,同时给出了降低漏源过冲电压、提高栅源电压稳定性以及改善GaN管芯的沟道温度的措施和方法。 展开更多
关键词 GaN功率器件 应用可靠性 漏源偏置电压 电压过冲 栅流 管芯结温 加速寿命试验
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一种混合型杂散电流排除方法 被引量:1
8
作者 高崇林 杨春生 +5 位作者 陈虹锦 熊娟 汤雨霖 熬波 蔡强 陈彬源 《天然气与石油》 2023年第6期117-121,154,共6页
长输管道运行管理中,对于直流杂散电流干扰和交流杂散电流干扰对管道造成的影响,通常采取相应的排流设施分别排除,无法使用同一套排流设施同时排除。为解决这一问题,对某输气管道受到的两种干扰影响进行综合分析,提出了一种混合型杂散... 长输管道运行管理中,对于直流杂散电流干扰和交流杂散电流干扰对管道造成的影响,通常采取相应的排流设施分别排除,无法使用同一套排流设施同时排除。为解决这一问题,对某输气管道受到的两种干扰影响进行综合分析,提出了一种混合型杂散电流排除方法,采用“交直流两用排流器+专用排流地床”构成混合型排流设施,来同时排除管道受到的交流杂散电流干扰和直流杂散电流干扰,保障管道安全运行。混合型杂散电流排除方法可同步排除两种不同性质的杂散电流,减少项目征地面积以及对环境的影响。通过现场试验和测试,混合型杂散电流排除方法取得了显著效果,研究成果可推广应用。 展开更多
关键词 交流杂散电流干扰 直流杂散电流干扰 混合型排流设施
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Single-event-transient effect in nanotube tunnel field-effect transistor with bias-induced electron–hole bilayer
9
作者 王雪珂 孙亚宾 +3 位作者 刘子玉 刘赟 李小进 石艳玲 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第6期290-297,共8页
The single event transient(SET)effect in nanotube tunneling field-effect transistor with bias-induced electron–hole bilayer(EHBNT-TFET)is investigated by 3-D TCAD simulation for the first time.The effects of linear e... The single event transient(SET)effect in nanotube tunneling field-effect transistor with bias-induced electron–hole bilayer(EHBNT-TFET)is investigated by 3-D TCAD simulation for the first time.The effects of linear energy transfer(LET),characteristic radius,strike angle,electrode bias and hit location on SET response are evaluated in detail.The simulation results show that the peak value of transient drain current is up to 0.08 m A for heavy ion irradiation with characteristic radius of 50 nm and LET of 10 Me V·cm^(2)/mg,which is much higher than the on-state current of EHBNTTFET.The SET response of EHBNT-TFET presents an obvious dependence on LET,strike angle,drain bias and hit location.As LET increases from 2 Me V·cm^(2)/mg to 10 Me V·cm^(2)/mg,the peak drain current increases monotonically from 0.015 mA to 0.08 mA.The strike angle has an greater impact on peak drain current especially for the smaller characteristic radius.The peak drain current and collected charge increase by 0.014 mA and 0.06 fC,respectively,as the drain bias increases from 0.1 V to 0.9 V.Whether from the horizontal or the vertical direction,the most sensitive hit location is related to wt.The underlying physical mechanism is explored and discussed. 展开更多
关键词 heavy ion strike EHBNT-TFET single event transient(SET) transient drain current
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碳纳米管场效应晶体管紧凑模型研究进展
10
作者 杨可 左石凯 +2 位作者 王尘 蒋见花 陈铖颖 《微电子学》 CAS 北大核心 2023年第2期286-294,共9页
随着摩尔定律逼近极限,碳纳米管场效应晶体管(CNTFET)被认为是5 nm以下CMOS晶体管的有力替代者。CNTFET具有准一维结构,栅极可有效控制导电沟道的导通/关断;同时,载流子在沟道内可实现近弹道输运,具有极高的迁移率。因此,CNTFET在低电... 随着摩尔定律逼近极限,碳纳米管场效应晶体管(CNTFET)被认为是5 nm以下CMOS晶体管的有力替代者。CNTFET具有准一维结构,栅极可有效控制导电沟道的导通/关断;同时,载流子在沟道内可实现近弹道输运,具有极高的迁移率。因此,CNTFET在低电压环境下,可提供较大的电流传输能力,为实现纳米级超大规模模拟/逻辑电路提供了解决方案。文章综述了CNTFET紧凑模型的发展现状,分析了现阶段面临的漏极电流精确模型、隧穿效应、寄生效应、多纳米管模型等存在的问题,重点探讨了针对这些问题的解决方案。最后对该紧凑模型未来的应用前景进行了讨论。 展开更多
关键词 碳纳米管 漏极电流 隧穿效应 寄生效应 紧凑模型
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温度对SiC MOSFET电流和电压变化率影响分析 被引量:5
11
作者 廖兴林 李辉 +3 位作者 黄樟坚 王坤 胡姚刚 曾正 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第8期2368-2375,共8页
由于SiC MOSFET的半导体物理和器件内部参数会随着温度的变化而发生变化,导致温度变化也会影响SiC MOSFET的动态特性。该文以其漏极电流变化率dID/dt、漏源极电压变化率dVDS/dt这2个动态性能参数为例,重点从实验的角度分析其随温度变化... 由于SiC MOSFET的半导体物理和器件内部参数会随着温度的变化而发生变化,导致温度变化也会影响SiC MOSFET的动态特性。该文以其漏极电流变化率dID/dt、漏源极电压变化率dVDS/dt这2个动态性能参数为例,重点从实验的角度分析其随温度变化的规律。首先,搭建基于电感钳位双脉冲的SiC MOSFET动态特性测试电路,测试不同温度下漏极电流和漏源极电压,得到温度对其的影响规律;其次,基于器件物理方程建立SiC MOSFET漏极电流变化率dID/dt、漏源极电压变化率dVDS/dt的温度特性解析模型,且通过实验测试得到SiC MOSFET的阈值电压VTH、跨导gm的温度特性;最后,根据所建立的SiC MOSFET dID/dt、dVDS/dt温度特性解析模型及其VTH、gm的温度特性从理论上对实验所得结果进行定性解释。所得结果对SiC MOSFET器件选型、建立准确的器件模型及实际系统的设计具有指导意义。 展开更多
关键词 碳化硅 MOSFET 温度 漏极电流 漏源极电压
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InP基HEMTs器件16参数小信号模型(英文) 被引量:1
12
作者 钟英辉 李凯凯 +5 位作者 李梦珂 王文斌 孙树祥 李慧龙 丁鹏 金智 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2018年第2期163-167,共5页
针对InAlAs/InGaAsInP基HEMTs提出了一种16参数小信号拓扑结构.拓扑结构中引入栅源电阻(R_(gs))表征短栅沟间距引起的栅泄漏电流效应.另外还引入输出跨导(gds)和漏延迟(τ_(ds))描述漏端电压对沟道电流的影响以及漏源电容(C_(ds))引起... 针对InAlAs/InGaAsInP基HEMTs提出了一种16参数小信号拓扑结构.拓扑结构中引入栅源电阻(R_(gs))表征短栅沟间距引起的栅泄漏电流效应.另外还引入输出跨导(gds)和漏延迟(τ_(ds))描述漏端电压对沟道电流的影响以及漏源电容(C_(ds))引起的相位变化,从而提高了S_(22)参数拟合精度.外围寄生参数通过open和short拓扑结构计算得出,本征部分利用去除外围寄生参数后的Y参数计算得出,最终模型参数值经过优化以达到最佳拟合状态而确定.结果表明,s参数和频率特性的仿真值与测试数据拟合程度很好,R_(gs)和τ_(ds)的引入降低了模型误差.准确合适的InP基HEMTs小信号模型对于高频电路设计非常重要. 展开更多
关键词 InP基高电子迁移率晶体管 小信号模型 栅泄漏电流 漏端延时
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钢质燃气管道动态直流杂散电流干扰的防护设计 被引量:2
13
作者 高佳伟 尹志彪 +2 位作者 邹健 王生平 杜艳霞 《腐蚀与防护》 CAS 北大核心 2022年第9期79-83,98,共6页
某高压燃气管道受紧邻的直流轨道交通系统动态杂散电流干扰严重,管道阴极保护效果较差,排流电流需求量较大。采用数据记录仪进行长时间连续的通、断电电位监测,对管道的阴极保护的有效性和杂散电流干扰情况进行了评价,并对外加电流阴极... 某高压燃气管道受紧邻的直流轨道交通系统动态杂散电流干扰严重,管道阴极保护效果较差,排流电流需求量较大。采用数据记录仪进行长时间连续的通、断电电位监测,对管道的阴极保护的有效性和杂散电流干扰情况进行了评价,并对外加电流阴极保护排流的位置进行了优化设计。该方法可以作为钢质燃气管道动态直流杂散电流干扰的评价与防护的借鉴。 展开更多
关键词 阴极保护 动态杂散电流干扰 排流 馈电试验
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TF SOI PMOSFET的导电机理及漏电流的二维解析模型 被引量:1
14
作者 张海鹏 魏同立 宋安飞 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2003年第1期18-22,共5页
从薄膜积累型 (TF AM) SOIPMOSFET的栅下硅膜物理状态随外加正栅压和漏压的变化出发 ,对其在 -5 .0 V背栅偏压下的导电机理进行了比较深入的理论分析 ,推导出了各种正栅压和漏压偏置条件下漏电流的二维解析模型 ,为高温 TF AM SOIPMOSFE... 从薄膜积累型 (TF AM) SOIPMOSFET的栅下硅膜物理状态随外加正栅压和漏压的变化出发 ,对其在 -5 .0 V背栅偏压下的导电机理进行了比较深入的理论分析 ,推导出了各种正栅压和漏压偏置条件下漏电流的二维解析模型 ,为高温 TF AM SOIPMOSFET和 CMOS数字电路的实验研究奠定了一定的理论基础 ,也为设计高温 SOI PMOSFET和 CMOS数字电路提供了一定的理论依据。 展开更多
关键词 SOI PMOSFET 导电机理 漏电流 二维解析模型 薄膜积累型 P沟道金属-氧化物-半导体场效应晶体管
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一种高精度曲率补偿带隙基准电压源设计 被引量:5
15
作者 陈睿 丁召 +1 位作者 杨发顺 鲁冬梅 《现代电子技术》 2014年第12期140-142,147,共4页
根据带隙基准电压源的原理,基于CSMC0.5μm工艺设计了一种高精度二阶曲率补偿带隙基准电压源。利用MOS管工作在亚闽值区时漏电流和栅极电压的指数关系,在高温段对温度特性曲线进行补偿。通过Spectre仿真,得到输出基准电压为2.5V的... 根据带隙基准电压源的原理,基于CSMC0.5μm工艺设计了一种高精度二阶曲率补偿带隙基准电压源。利用MOS管工作在亚闽值区时漏电流和栅极电压的指数关系,在高温段对温度特性曲线进行补偿。通过Spectre仿真,得到输出基准电压为2.5V的电压基准源。工作电压范围为3.35~7.94V,1kHz时电源抑制比为-71.73dB,温度从-25~125℃之间变化时温度系数为7.003×10^-6℃^-1。 展开更多
关键词 带隙基准电压源 曲率补偿 亚阈值区 漏极电流
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基于MOSFET漏电流温度特性的室温红外探测器 被引量:2
16
作者 董良 岳瑞峰 刘理天 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2002年第6期534-539,共6页
基于MOSFET的漏电流温度特性,提出了一种可与CMOS工艺兼容的新型室温红外探测器。它采用在SOI衬底上实现的MOSFET作为探测红外灵敏元,在MOSFET的钝化层上制作可提高红外吸收率的光学谐振腔,并利用硅微机械加工技术将SOI的隐埋氧化层悬空... 基于MOSFET的漏电流温度特性,提出了一种可与CMOS工艺兼容的新型室温红外探测器。它采用在SOI衬底上实现的MOSFET作为探测红外灵敏元,在MOSFET的钝化层上制作可提高红外吸收率的光学谐振腔,并利用硅微机械加工技术将SOI的隐埋氧化层悬空,形成热绝缘微桥结构。MOSFET在担当探测红外辐射灵敏元的同时,又作为放大处理电路的一部分,简化了电路。分析表明,探测器的探测率可高达109~1010cmHz1/2W-1。 展开更多
关键词 MOSFET 漏电流温度特性 室温红外探测器 SOI
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HgI_2探测器中晶体表面处理的研究 被引量:1
17
作者 李莹 史伟民 +1 位作者 潘美军 郭燕明 《上海大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 2003年第2期167-171,共5页
该文研究了HgI2晶体表面状况对晶体电学性质的影响,主要探讨在不同的腐蚀条件下KI溶液腐蚀HgI2晶体时,得到不同的表面状况,从而对HgI2晶体电学性质产生的影响.扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)及微电流计分析表明,通过化学腐蚀,在0... 该文研究了HgI2晶体表面状况对晶体电学性质的影响,主要探讨在不同的腐蚀条件下KI溶液腐蚀HgI2晶体时,得到不同的表面状况,从而对HgI2晶体电学性质产生的影响.扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)及微电流计分析表明,通过化学腐蚀,在0℃时,用浓度为10%~20%KI溶液,腐蚀时间2min左右,可以得到较好的晶体表面状况.上述工艺条件,能够很大程度上优化HgI2晶体的电学参数,从而提高HgI2核探测器的性能. 展开更多
关键词 核探测器 HgI2晶体 表面处理 漏电流 电学性质 半导体探测器 碘化汞 化学腐蚀
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短沟道MOSFET解析物理模型 被引量:2
18
作者 杨谟华 于奇 +2 位作者 肖兵 谢晓峰 李竞春 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第11期84-86,92,共4页
本文基于修正的二维泊松方程导出了适用于深亚微米MOSFET的阈值电压解析模型,并进而通过反型区电荷统一表达式并考虑到载流子速度饱和、DIBL、相关迁移率、反型层电容和沟道长度调制等主要小尺寸与高场效应,最后得到了较为准确、连续和... 本文基于修正的二维泊松方程导出了适用于深亚微米MOSFET的阈值电压解析模型,并进而通过反型区电荷统一表达式并考虑到载流子速度饱和、DIBL、相关迁移率、反型层电容和沟道长度调制等主要小尺寸与高场效应,最后得到了较为准确、连续和可缩小的漏极电流模型.模型输出与华晶等样品测试MINIMOS模拟结果较为吻合。 展开更多
关键词 短沟道 MOSFET 解析物理模型 VLSI/ULSI
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半绝缘GaAs衬底中AB微缺陷对MESFET器件性能的影响 被引量:1
19
作者 徐岳生 付生辉 +3 位作者 刘彩池 王海云 魏欣 郝景臣 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期72-77,共6页
研究了LEC法生长SI GaAs衬底上的AB微缺陷对相应的MESFET器件性能 (跨导、饱和漏电流、夹断电压 )的影响 .用AB腐蚀液显示AB微缺陷 (AB EPD :10 3 ~ 10 4cm-2 量级 ) ,用KOH腐蚀液显示位错 (EPD :10 4cm-2 量级 ) ,发现衬底上的AB微缺... 研究了LEC法生长SI GaAs衬底上的AB微缺陷对相应的MESFET器件性能 (跨导、饱和漏电流、夹断电压 )的影响 .用AB腐蚀液显示AB微缺陷 (AB EPD :10 3 ~ 10 4cm-2 量级 ) ,用KOH腐蚀液显示位错 (EPD :10 4cm-2 量级 ) ,发现衬底上的AB微缺陷对器件性能及均匀性有显著影响 .随着AB EPD的增大 ,跨导、饱和漏电流变小 ,夹断电压的绝对值也变小 .利用扫描光致发光光谱 (PLmapping)对衬底质量进行了测量 ,结果表明衬底参数好的样品 ,PL参数好 ,相应器件的参数也好 。 展开更多
关键词 LEC SI-GAAS 位错 AB-EPD 跨导 饱和漏电流 夹断电压
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高频电刀的安全控制技术 被引量:2
20
作者 王明刚 孙延泉 《中国医疗器械杂志》 CAS 2004年第6期442-443,共2页
从高频电刀的原理入手,分析了高频电刀安全控制的要求,并对其安全性能指标及其检定方法作了介绍。
关键词 高频 安全控制 漏电流 耐压 检定
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