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基于不能直接判定区间灰数大小的灰矩阵博弈的纯策略解及其风险
被引量:
4
1
作者
方志耕
刘思峰
阮爱清
《吉林大学学报(工学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第1期137-142,共6页
运用灰色系统思想和系统工程的理论,揭示了人们在灰信息条件下的博弈心理与博弈决策规则;提出了区间灰数的优势、均势和劣势的概念;证明了与某一区间灰数相对的另一区间的各种灰数势之和为1,且灰数势大小关系的集合是一个全序集。在此...
运用灰色系统思想和系统工程的理论,揭示了人们在灰信息条件下的博弈心理与博弈决策规则;提出了区间灰数的优势、均势和劣势的概念;证明了与某一区间灰数相对的另一区间的各种灰数势之和为1,且灰数势大小关系的集合是一个全序集。在此基础上,定义了灰数势意义下的纯策略解,且证明了这一纯策略解(或称灰势鞍点)存在的充要条件。最后,以煤价在一定范围内波动情况下的某单位冬季取暖用煤贮量的决策为例,对其灰数势意义下的纯策略解及其风险问题进行了研究。
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关键词
数量经济学
区间灰数
大小秩序判定
灰矩阵博弈
灰势
纯策略解
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职称材料
校企合作之实施经验—丰富“订单培养”形式,开展“校企科研合作”
被引量:
4
2
作者
刘耀鹏
张军科
《山东化工》
CAS
2015年第5期112-113,116,共3页
本文结合陕西国防工业职业技术学院化工学院的办学实践,介绍了"订单培养"的两种不同形式和"校企科研合作"实施方法,总结了"订单培养、校企科研"的合作办学经验。
关键词
订单培养
大订单
小订单
校企合作科研
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职称材料
联系数的表示方法及大小顺序
3
作者
冯祥树
《青岛教育学院学报》
2001年第3期53-55,共3页
本文给出联系数的一种表示方法和一种大小顺序关系。并举例说明它们的应用。
关键词
联系度
联系数
阶数
大小顺序
集对分析方法
表示方法
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职称材料
符号大O与符号小o的探究
4
作者
佘梓航
《韩山师范学院学报》
2016年第3期19-22,共4页
文章旨在介绍符号大O及符号小o的定义.通过比较它们的不同,指出学生们在学习大O及小o会遇到的问题,并结合具体的例子探讨如何解决这些问题.
关键词
高阶无穷小
同阶无穷小
符号大O
符号小o
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职称材料
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量:
5
5
作者
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻...
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
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关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
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职称材料
题名
基于不能直接判定区间灰数大小的灰矩阵博弈的纯策略解及其风险
被引量:
4
1
作者
方志耕
刘思峰
阮爱清
机构
南京航空航天大学经济与管理学院
出处
《吉林大学学报(工学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第1期137-142,共6页
基金
国家自然科学基金资助项目(70473037)
江苏省自然科学基金重点资助项目(BK2003211)
南京航空航天大学特聘教授科研创新基金资助项目(1009-260812)
文摘
运用灰色系统思想和系统工程的理论,揭示了人们在灰信息条件下的博弈心理与博弈决策规则;提出了区间灰数的优势、均势和劣势的概念;证明了与某一区间灰数相对的另一区间的各种灰数势之和为1,且灰数势大小关系的集合是一个全序集。在此基础上,定义了灰数势意义下的纯策略解,且证明了这一纯策略解(或称灰势鞍点)存在的充要条件。最后,以煤价在一定范围内波动情况下的某单位冬季取暖用煤贮量的决策为例,对其灰数势意义下的纯策略解及其风险问题进行了研究。
关键词
数量经济学
区间灰数
大小秩序判定
灰矩阵博弈
灰势
纯策略解
Keywords
quantitative economics
interval grey number
determination of big to small order
grey matrix game
grey position
pure strategy solution
分类号
C931 [经济管理—管理学]
F224 [经济管理—国民经济]
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职称材料
题名
校企合作之实施经验—丰富“订单培养”形式,开展“校企科研合作”
被引量:
4
2
作者
刘耀鹏
张军科
机构
陕西国防工业职业技术学院化工学院
出处
《山东化工》
CAS
2015年第5期112-113,116,共3页
文摘
本文结合陕西国防工业职业技术学院化工学院的办学实践,介绍了"订单培养"的两种不同形式和"校企科研合作"实施方法,总结了"订单培养、校企科研"的合作办学经验。
关键词
订单培养
大订单
小订单
校企合作科研
Keywords
order
training
big
order
small
order
school - enterprise scientific research cooperation
分类号
G642 [文化科学—高等教育学]
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职称材料
题名
联系数的表示方法及大小顺序
3
作者
冯祥树
机构
石家庄师范专科学校数学系
出处
《青岛教育学院学报》
2001年第3期53-55,共3页
文摘
本文给出联系数的一种表示方法和一种大小顺序关系。并举例说明它们的应用。
关键词
联系度
联系数
阶数
大小顺序
集对分析方法
表示方法
Keywords
relative degree
relative number
rand
of
relative number
order
of
relative number from
big
to
small
分类号
O156 [理学—基础数学]
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职称材料
题名
符号大O与符号小o的探究
4
作者
佘梓航
机构
韩山师范学院数学与统计学院
出处
《韩山师范学院学报》
2016年第3期19-22,共4页
文摘
文章旨在介绍符号大O及符号小o的定义.通过比较它们的不同,指出学生们在学习大O及小o会遇到的问题,并结合具体的例子探讨如何解决这些问题.
关键词
高阶无穷小
同阶无穷小
符号大O
符号小o
Keywords
infinitesimal
of
higher
order
infinitesimal
of
the same
order
big
O notation
small
o notation
分类号
G64 [文化科学—高等教育学]
O17 [理学—基础数学]
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职称材料
题名
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量:
5
5
作者
董启明
郭小伟
机构
电子科技大学光电信息学院
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
基金
The National Natural Science Foundation of China(No.60906052)
文摘
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
Keywords
Interference lithography
Surface plasmon plorti
to
n
Kretschmann structureCLCN: TN305.7 Document Code:A Article ID:1004-4213(2012)05-0558-70 IntroductionThere is a growing interest in exploring new nanolithography techniques with high efficiency,low cost and large-area fabrication
to
fabricate nanoscale devices for nanotechnology applications.Conventional pho
to
lithography has remained a useful micr
of
abrication technology because
of
its ease
of
repetition and suitability for large-area fabrication[1].The diffraction limit,however,restricts the fabrication scale
of
pho
to
lithography[2].Potential solutions that have actually been pursued require increasingly shorter illumination wavelengths for replicating
small
er structures.It is becoming more difficult and complicated
to
use the short optical wavelengths
to
reach the desired feature sizes.Other methods such as electron beam lithography[3],ion beam lithography[4],scanning probe lithography[5],nanoimprint lithography(NIL)[6],and evanescent near-field optical lithography(ENFOL)[7] have been developed in
order
to
achieve nanometer-scale features.As we know,the former three techniques need scanning and accordingly are highly inefficient.In NIL,the leveling
of
the imprint template and the substrate during the printing process,which determines the uniformity
of
the imprint result,is a challenging issue
of
this method.ENFOL have the potential
to
produce subwavelength structures with high efficiency,but it encounters the fact that the evanescent field decays rapidly through the aperture,thus attenuating the transmission intensity at the exit plane and limiting the exposure distance
to
the scale
of
a few tens
of
nanometers from the mask.In recent years,the use
of
surface-plasmon polari
to
ns(SPPs) instead
of
pho
to
ns as an exposure source was rapidly developed
to
fabricate nanoscale structures.SPPs are characterized by its near field enhancement so that SPP-based lithography can greatly extend exposure depth and improve pattern contrast.Grating-assisted SPP interference,such as SPP resonant interference nanolithography[8] and SPP-assisted interference nanolithography[9],achieved a sub-100nm interference pattern.The techniques,however,are necessary
to
fabricate a metal grating with a very fine period and only suitable for
small
-area interference.
to
avoid the fabrication
of
the metal grating,a prism-based SPP maskless interference lithography was proposed in 2006,which promises good lithography performance.The approach
of
fers potential
to
achieve sub-65nm and even sub-32nm feature sizes.However,the structure parameters are always not ideal in a real system.One wants
to
know how much influence the parameter variations have on the pattern resolution and what variations
of
the parameters are allowed
to
obtain an effective interference.Thus,it is necessary
to
explore the parameter spaces.1 SPP maskless interference lithography systemThe SPP maskless interference lithography system is shown in Fig.1.A p-polarized laser is divided in
to
two beams by a grating splitter,and then goes in
to
the prism-based multilayer system.Under a given condition,the metal film can exhibit collective electron oscillations known as SPPs which are charge density waves that are characterized by intense electromagnetic fields confined
to
the metallic surface.If the metal layer Fig.1 Schematic for SPP maskless interference lithography systemis sufficiently thin,plasma waves at both metal interfaces are coupled,resulting in symmetric and antisymmetric SPPs.When the thickness h
of
metal film,dielectric constant ε1,ε2,ε3
of
medium above,inside,below the metal film are specified,the coupling equation is shown as followstanh(S2h)(ε1ε3S22+ε22S1S3)+(ε1ε2S2S3+ε2ε3S1S2)=0
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于不能直接判定区间灰数大小的灰矩阵博弈的纯策略解及其风险
方志耕
刘思峰
阮爱清
《吉林大学学报(工学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006
4
下载PDF
职称材料
2
校企合作之实施经验—丰富“订单培养”形式,开展“校企科研合作”
刘耀鹏
张军科
《山东化工》
CAS
2015
4
下载PDF
职称材料
3
联系数的表示方法及大小顺序
冯祥树
《青岛教育学院学报》
2001
0
下载PDF
职称材料
4
符号大O与符号小o的探究
佘梓航
《韩山师范学院学报》
2016
0
下载PDF
职称材料
5
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
5
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职称材料
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