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Preparation of Sn nano-film by direct current magnetron sputtering and its performance as anode of lithium ion battery 被引量:5
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作者 赵灵智 胡社军 +4 位作者 李伟善 侯贤华 李昌明 曾荣华 汝强 《中国有色金属学会会刊:英文版》 CSCD 2007年第A02期907-910,共4页
Sn thin film on Cu foil substrate as the anode of lithium ion battery was prepared by direct current magnetron sputtering(DCMS). The surface morphology,composition and thickness and the electrochemical behaviors of th... Sn thin film on Cu foil substrate as the anode of lithium ion battery was prepared by direct current magnetron sputtering(DCMS). The surface morphology,composition and thickness and the electrochemical behaviors of the prepared Sn thin film were characterized by scanning electron microscopy(SEM),X-ray diffraction(XRD),inductively coupled plasma atomic emission spectrometry(ICP),cyclic voltammetry(CV) and galvanostatic charge/ discharge(GC) measurements. It is found that the Sn film is consists of pure Sn with an average particle diameter of 100 nm. The thickness of the film is about 320 nm. The initial lithium insertion capacity of the Sn film is 771 mA·h/g. The reversible capacity of the film is 570 mA·h/g and kept at 270 mA·h/g after 20 cycles. 展开更多
关键词 锂离子电池 阳极 直流磁电管反应溅射法 锡纳米薄膜
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Fabrication and Characterization of VO_2 Thin Films by Direct Current Facing Targets Magnetron Sputtering and Low Temperature Oxidation
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作者 梁继然 胡明 +2 位作者 刘志刚 韩雷 陈涛 《Transactions of Tianjin University》 EI CAS 2008年第3期173-177,共5页
Low valence vanadium oxide(VO2-x) thin films were prepared on SiO2/Si substrates at room temperature by direct current facing targets reactive magnetron sputtering, and then proc- essed through rapid thermal annealing... Low valence vanadium oxide(VO2-x) thin films were prepared on SiO2/Si substrates at room temperature by direct current facing targets reactive magnetron sputtering, and then proc- essed through rapid thermal annealing. The effects of the annealing on the structure and phase transition property of VO2 were discussed. X-ray photoelectron spectroscopy, X-ray diffraction tech- nique and Fourier transform infrared spectroscopy were employed to study the phase composition and structure of the thin films. The resistance-temperature property was measured. The results show that VO2 thin film is obtained after annealed at 320 ℃ for 3 h, its phase transition tempera- ture is 56 ℃, and the resistance changes by more than 2 orders. The vanadium oxide thin films are applicable in thermochromic smart windows, and the deposition and annealing process is compatible with micro electromechanical system process. 展开更多
关键词 vanadium dioxide direct current facing targets magnetron sputtering low temperature oxidation: microstructure
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Effects of the sputtering power on the crystalline structure and optical properties of the silver oxide films deposited using direct-current reactive magnetron sputtering
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作者 郜小勇 张增院 +3 位作者 马姣民 卢景霄 谷锦华 杨仕娥 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第2期370-375,共6页
This paper reports that a series of silver oxide (AgzO) films are deposited on glass substrates by direct-current reactive magnetron sputtering at a substrate temperature of 250 ℃ and an oxygen flux ratio of 15:18... This paper reports that a series of silver oxide (AgzO) films are deposited on glass substrates by direct-current reactive magnetron sputtering at a substrate temperature of 250 ℃ and an oxygen flux ratio of 15:18 by modifying the sputtering power (SP). The AgxO films deposited apparently show a structural evolution from cubic biphased (AgO + Ag20) to cubic single-phased (Ag20), and to biphased (Ag20 + AgO) structure. Notably, the cubic single-phased Ag20 fihn is deposited at the SP = 105 W and an AgO phase with (220) orientation discerned in the Ag^O films deposited using the SP 〉 105 W. The transmissivity and refiectivity of the AgxO films in transparent region decrease with the increase the SP, whereas the absorptivity inversely increases with the increase of the SP. These results may be due to the structural evolution and the increasing film thickness. A redshift of the films' absorption edges determined in terms of Tauc formula clearly occurs from 3.1 eV to 2.73 eV with the increase of the SP. 展开更多
关键词 Ag2O film direct-current reactive magnetron sputtering x-ray diffraction optical prop-erties
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磁控溅射制备碳化硼薄膜的结构与成分分析
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作者 朱京涛 刘扬 +3 位作者 周健荣 周晓娟 孙志嘉 崔明启 《光学仪器》 2024年第2期63-68,共6页
近年来国际上^(3)He资源的短缺造成了基于^(3)He的中子探测器高昂的成本,而以碳化硼薄膜作为中子转换层的硼基中子探测器逐渐成为了最有前景的替代方案。通过直流磁控溅射制备了Ti/B_(4)C多层膜,并使用透射电子显微镜(TEM)、飞行时间二... 近年来国际上^(3)He资源的短缺造成了基于^(3)He的中子探测器高昂的成本,而以碳化硼薄膜作为中子转换层的硼基中子探测器逐渐成为了最有前景的替代方案。通过直流磁控溅射制备了Ti/B_(4)C多层膜,并使用透射电子显微镜(TEM)、飞行时间二次离子质谱(ToF-SIMS)、X射线光电子能谱(XPS)等手段对薄膜的结构与成分进行表征。结果表明:Ti层存在结晶情况;H、O、N元素为薄膜内部的主要杂质,且多分布于Ti层与B_(4)C-on-Ti过渡层中;更高的本底真空度能够降低碳化硼薄膜内的杂质含量,提高B含量占比;中子探测效率测试结果证明本底真空度的提高能够有效提高碳化硼中子转换层的效率。 展开更多
关键词 中子光学 碳化硼薄膜 直流磁控溅射 透射电子显微镜(TEM) X射线光电子能谱(XPS) 中子探测
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溅射功率对直流磁控溅射TiAlN涂层组织和摩擦学性能的影响
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作者 孙琛扬 王疆瑛 +1 位作者 张高会 徐欣 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2024年第5期116-122,共7页
在室温下采用直流磁控溅射技术在304L不锈钢表面制备TiAlN涂层,研究了溅射功率(80,100,120,140,160 W)对TiAlN涂层组织和摩擦学性能的影响。结果表明:TiAlN涂层由面心立方结构的TiAlN相以及少量TiN和AlN相组成。随着溅射功率的增加,TiAl... 在室温下采用直流磁控溅射技术在304L不锈钢表面制备TiAlN涂层,研究了溅射功率(80,100,120,140,160 W)对TiAlN涂层组织和摩擦学性能的影响。结果表明:TiAlN涂层由面心立方结构的TiAlN相以及少量TiN和AlN相组成。随着溅射功率的增加,TiAlN涂层变厚,表面晶粒更加致密,但溅射功率160 W下制备的涂层表面大颗粒较多,晶粒尺寸先变小后变大,结合力先增大后减小,平均摩擦因数和比磨损率均整体呈先减小后增大的趋势;溅射功率140 W下制备的涂层具有最小的晶粒尺寸、最强的结合力、最小的平均摩擦因数和比磨损率,磨痕较平整且仅有少量磨屑,磨损机制为轻微的黏着磨损。 展开更多
关键词 TIALN涂层 直流磁控溅射 溅射功率 摩擦学性能
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靶电流对高功率脉冲磁控溅射WS_(2)-Ti固体润滑涂层微观组织及力学性能的影响研究
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作者 孙含影 殷俊 +6 位作者 张平 应普友 吴建波 黄敏 林长红 杨涛 Vladimir Levchenko 《工具技术》 北大核心 2023年第10期44-48,共5页
过渡金属硫化物涂层的耐磨性能与其微观结构、力学性能有关,而其结构与溅射能量有关。高能脉冲磁控溅射(HiPIMS)具有离化率高和沉积能量高的特性,其沉积能量受控于靶电流。采用HiPIMS技术,通过改变Ti靶电流制备了WS_(2)-Ti涂层,并利用... 过渡金属硫化物涂层的耐磨性能与其微观结构、力学性能有关,而其结构与溅射能量有关。高能脉冲磁控溅射(HiPIMS)具有离化率高和沉积能量高的特性,其沉积能量受控于靶电流。采用HiPIMS技术,通过改变Ti靶电流制备了WS_(2)-Ti涂层,并利用扫描电镜、能谱仪、X射线衍射仪和纳米压痕仪表征涂层的微观组织结构和力学性能。分析结果表明,采用HiPIMS制备WS_(2)-Ti涂层可以有效细化晶粒并抑制其柱状生长,所制备的涂层结构致密且以非晶态为主;随着靶电流的增加,可进一步细化WS_(2)-Ti涂层晶粒,提高其致密度;涂层硬度随靶电流的增大呈先上升再下降的趋势,而其约化弹性模量先下降再上升;相应塑性因子H/E_(r)和H_(3)/E_(r)^(2)先变大后变小,在靶电流为50A时达到最高。 展开更多
关键词 高功率脉冲磁控溅射 WS_(2)-Ti涂层 靶电流 微观结构 力学性能
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不同偏压下DCMS和DCMS/HiPIMS共溅射铜薄膜的结构和性能
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作者 黄敏 易勇 +2 位作者 刘艳松 谢春平 何智兵 《西南科技大学学报》 CAS 2023年第3期1-7,29,共8页
采用DCMS(直流磁控溅射)和DCMS/HiPIMS(直流磁控溅射/高功率脉冲磁控溅射)共溅射在不同负偏压下沉积铜薄膜,使用X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜、白光干涉仪、纳米压痕技术和四点探针法对薄膜的晶体取向、形貌、粗糙度、力学和电学... 采用DCMS(直流磁控溅射)和DCMS/HiPIMS(直流磁控溅射/高功率脉冲磁控溅射)共溅射在不同负偏压下沉积铜薄膜,使用X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜、白光干涉仪、纳米压痕技术和四点探针法对薄膜的晶体取向、形貌、粗糙度、力学和电学性能进行表征。结果表明:与DCMS铜薄膜相比,随着负偏压增加,DCMS/HiPIMS共溅射铜薄膜晶粒尺寸先减小后增大,Cu(111)取向减弱,硬度逐渐增大,电阻率逐渐降低;高负偏压(100 V)下Cu(111)向Cu(220)转变,薄膜致密,表面粗糙度减小,硬度增大(约3.5 GPa),电阻率降低(约2μΩ·cm)。铜薄膜的结构和性能强烈依赖于由HiPIMS和负偏压共同决定的铜离子通量和能量。 展开更多
关键词 直流磁控溅射 高功率脉冲磁控溅射 铜薄膜 衬底偏压 硬度 电阻率
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功率对直流磁控溅射氧化钒薄膜电学性能的影响
8
作者 李兆营 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2023年第4期45-50,共6页
采用直流磁控溅射方法在长有300 nm厚的Si_(3)N_(4)薄膜的Si(100)晶圆上制备了氧化钒薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)和探针法分析了不同功率对薄膜结晶结构、成分、表面形貌和电学性能的影响。结... 采用直流磁控溅射方法在长有300 nm厚的Si_(3)N_(4)薄膜的Si(100)晶圆上制备了氧化钒薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)和探针法分析了不同功率对薄膜结晶结构、成分、表面形貌和电学性能的影响。结果表明:不同功率沉积的氧化钒薄膜均为非晶结构,薄膜主要成分为VO_(2)和V_(2)O_(5);随着功率的提高,薄膜的平均粗糙度降低,V_(2)O_(5)的含量升高,进而导致电阻温度系数绝对值也随之增大。 展开更多
关键词 氧化钒薄膜 功率 直流磁控溅射 电阻温度系数
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直流磁控溅射制备TiAlCN薄膜及其性能研究 被引量:7
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作者 郑建云 郝俊英 +2 位作者 刘小强 龚秋雨 刘维民 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第1期85-90,共6页
采用直流磁控溅射技术制备TiAlCN薄膜,研究了直流电流对TiAlCN薄膜的薄膜成分、微观结构、机械性能和摩擦性能的影响.研究表明:随着直流电流的增加,薄膜中C元素含量逐渐降低;薄膜中无定形碳含量减少,而(Ti,Al)CxN1-x晶粒增加.另外,在低... 采用直流磁控溅射技术制备TiAlCN薄膜,研究了直流电流对TiAlCN薄膜的薄膜成分、微观结构、机械性能和摩擦性能的影响.研究表明:随着直流电流的增加,薄膜中C元素含量逐渐降低;薄膜中无定形碳含量减少,而(Ti,Al)CxN1-x晶粒增加.另外,在低于3.0 A直流电流范围内薄膜的表面粗糙度无明显变化,而当直流电流高于3.0 A时,薄膜的表面粗糙度随直流电流的增加而显著上升.随着直流电流的增大,薄膜的硬度先增加后降低,而薄膜的摩擦系数则先降低后升高.在直流电流为3.5 A时,薄膜的硬度和摩擦系数分别约为22.2 GPa和0.16. 展开更多
关键词 直流磁控溅射 TiAlCN薄膜 微观结构 硬度 摩擦行为
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直流磁控溅射法在管道内壁镀TiZrV薄膜 被引量:7
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作者 张波 王勇 +4 位作者 尉伟 范乐 王建平 张玉方 李为民 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第9期2124-2128,共5页
用氩气作为放电气体,采用直流磁控溅射法,成功地在不锈钢管道内壁获得了TiZrV薄膜。分别利用能量弥散X射线谱和X射线光电子能谱测量薄膜的成分组成,应用扫描电子显微镜和X射线衍射仪对薄膜进行了测试,并对TiZrV的二次电子产额进行了测... 用氩气作为放电气体,采用直流磁控溅射法,成功地在不锈钢管道内壁获得了TiZrV薄膜。分别利用能量弥散X射线谱和X射线光电子能谱测量薄膜的成分组成,应用扫描电子显微镜和X射线衍射仪对薄膜进行了测试,并对TiZrV的二次电子产额进行了测量。测试结果表明:TiZrV的成分基本保持在Ti原子分数为30%,Zr原子分数为30%,V原子分数为40%左右,位于"低激活温度区"内;薄膜具有无定形的结构,由微小的纳米晶粒组成;加热激活后TiZrV的二次电子产额有所下降,其峰值由2.03降到1.55,低于不锈钢和无氧铜。 展开更多
关键词 TiZrV薄膜 非蒸散型吸气剂 直流磁控溅射 粒子加速器
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工作气压对直流磁控溅射Mo薄膜的影响 被引量:7
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作者 曹德峰 万小波 +8 位作者 邢丕峰 易泰民 杨蒙生 郑凤成 徐导进 王昆黍 楼建设 孔泽斌 祝伟明 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第1期71-74,共4页
利用直流磁控溅射技术在单晶Si(110)基底上制备Mo薄膜,分析了工作气压对沉积速率、表面质量及微观结构的影响。结果表明:薄膜的沉积速率随压强的增大而增加;低气压下沉积的Mo薄膜表面质量较好且结构致密,高气压下沉积的Mo薄膜表面质量... 利用直流磁控溅射技术在单晶Si(110)基底上制备Mo薄膜,分析了工作气压对沉积速率、表面质量及微观结构的影响。结果表明:薄膜的沉积速率随压强的增大而增加;低气压下沉积的Mo薄膜表面质量较好且结构致密,高气压下沉积的Mo薄膜表面质量较差且结构疏松;在工作气压为0.8 Pa时,制备的Mo薄膜晶粒尺寸与微观应力值最小。 展开更多
关键词 MO薄膜 直流磁控溅射 工作气压 晶粒尺寸 微观应力
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真空室内表面镀TiZrV抽气层的性能研究 被引量:8
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作者 蒙峻 杨晓天 +7 位作者 张军辉 杨伟顺 何源 赵玉刚 胡振军 郭迪周 马向利 侯生军 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第6期678-681,共4页
采用直流磁控反溅射法在不锈钢真空管道内表面均匀镀上一层TiZrV薄膜。该薄膜经过激活后具有抽气效应,能够使真空管道由原来的系统气载转变成为管道泵。该薄膜激活温度很低,最低激活温度为180℃。在经过激活后,实验装置远端的真空度与... 采用直流磁控反溅射法在不锈钢真空管道内表面均匀镀上一层TiZrV薄膜。该薄膜经过激活后具有抽气效应,能够使真空管道由原来的系统气载转变成为管道泵。该薄膜激活温度很低,最低激活温度为180℃。在经过激活后,实验装置远端的真空度与泵口真空度相同,因此压力分布呈直线型。 展开更多
关键词 直流磁控溅射 TiZrV抽气层 低温激活 压力分布
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Si基底磁控溅射制备CrN薄膜的表面形貌与生长机制 被引量:6
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作者 谈淑咏 张旭海 +1 位作者 吴湘君 蒋建清 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第6期1367-1372,共6页
在Si基底上采用直流磁控溅射法制备CrN薄膜,利用原子力显微镜(AFM)、扫描电镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)分析薄膜表面形貌和物相成分,探讨薄膜生长的动力学过程。结果表明:只有当生长时间足够(1 800 s)时,才能形成具有CrN相的薄膜。随着Cr... 在Si基底上采用直流磁控溅射法制备CrN薄膜,利用原子力显微镜(AFM)、扫描电镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)分析薄膜表面形貌和物相成分,探讨薄膜生长的动力学过程。结果表明:只有当生长时间足够(1 800 s)时,才能形成具有CrN相的薄膜。随着CrN薄膜的生长,薄膜表面晶粒由三棱锥发展为三棱锥与胞状共存状,薄膜表面粗糙度逐渐增大,动力学生长指数β=0.50。 展开更多
关键词 直流磁控溅射 表面形貌 粗糙度 生长指数
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溅射功率及压强对磁控溅射Mo薄膜电学性能和表面形貌的影响 被引量:4
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作者 王天兴 夏存军 +4 位作者 李超 李苗苗 杨海刚 宋桂林 常方高 《河南师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2011年第3期36-39,共4页
采用直流磁控溅射的方法在普通玻璃衬底上沉积Mo薄膜,研究了工作压强、溅射功率对Mo薄膜的电学性能、表面形貌的影响.实验表明,在我们所使用的压强范围内(0.2~2.0 Pa),溅射压强低时,沉积速率较快,制备出的薄膜导电性能亦较好;0.4 Pa时... 采用直流磁控溅射的方法在普通玻璃衬底上沉积Mo薄膜,研究了工作压强、溅射功率对Mo薄膜的电学性能、表面形貌的影响.实验表明,在我们所使用的压强范围内(0.2~2.0 Pa),溅射压强低时,沉积速率较快,制备出的薄膜导电性能亦较好;0.4 Pa时达到最佳值,电阻率为1.22×10-4Ω.cm,且扫描电镜(SEM)图显示薄膜具有致密、平整的表面形貌;在压强固定时(0.2 Pa),沉积速率随溅射功率(50~150 W)基本呈线性增加,且随溅射功率的增加,制备的Mo薄膜更加致密,显示出连续降低的电阻率;148 W时,电阻率为7.6×10-5Ω.cm. 展开更多
关键词 直流磁控溅射 溅射Ar气压强 溅射功率 表面形貌 导电性
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直流反应磁控溅射制备氧化铝薄膜 被引量:12
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作者 唐秀凤 罗发 +1 位作者 周万城 朱冬梅 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2011年第14期120-123,共4页
采用直流反应磁控溅射,以高纯Al为靶材,高纯O2为反应气体,在镍基合金和单晶硅基片上制备了氧化铝薄膜,并对氧化铝薄膜的沉积速率和表面形貌进行了研究。结果表明,氧化铝薄膜的沉积速率随溅射功率的增大先几乎呈线性增大而后增速趋缓;随... 采用直流反应磁控溅射,以高纯Al为靶材,高纯O2为反应气体,在镍基合金和单晶硅基片上制备了氧化铝薄膜,并对氧化铝薄膜的沉积速率和表面形貌进行了研究。结果表明,氧化铝薄膜的沉积速率随溅射功率的增大先几乎呈线性增大而后增速趋缓;随溅射气压的增加,沉积速率先增大,在1.0Pa时达到峰值,而后随气压继续增大而减小;随Ar/O2流量比的不断增加,沉积速率也随之不断增大,但是随着负偏压的增大,沉积速率先急剧减小而后趋于平缓。用扫描电子显微镜对退火处理前后的氧化铝薄膜表面形貌进行观察,发现在500℃退火1h能够使氧化铝薄膜致密化和平整化。 展开更多
关键词 直流反应磁控溅射 氧化铝薄膜 沉积速率 退火 表面形貌
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钼薄膜的制备、力学性能和磨损性能 被引量:5
16
作者 许世红 王金清 +1 位作者 刘维民 阎鹏勋 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2003年第12期11-13,共3页
 采用直流磁控溅射技术在GCr15轴承钢底材上沉积了钼薄膜。利用XRD,AFM对不同负偏压下沉积的钼薄膜的结构和表面形貌进行了表征;利用纳米压痕仪对薄膜的硬度和膜基结合强度进行了测定;最后利用DF PM型动静摩擦系数精密测定仪和扫描电镜...  采用直流磁控溅射技术在GCr15轴承钢底材上沉积了钼薄膜。利用XRD,AFM对不同负偏压下沉积的钼薄膜的结构和表面形貌进行了表征;利用纳米压痕仪对薄膜的硬度和膜基结合强度进行了测定;最后利用DF PM型动静摩擦系数精密测定仪和扫描电镜(SEM)研究了薄膜的硬度、残余模量与负偏压的关系。结果表明:利用直流磁控溅射法制备的钼薄膜的硬度随负偏压的变化存在最大值,另外负偏压还影响薄膜的微结构、粗糙度以及膜基结合力,但负偏压的改变对钼薄膜的摩擦系数影响不大。 展开更多
关键词 摩擦学 钼薄膜 薄膜硬度 力学性能 磨损性能 微结构 纳米压入 直流磁控溅射法 表面改性
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磁控溅射镀钽及其镀层性能的研究 被引量:4
17
作者 单玉桥 于晓中 +1 位作者 李力 田晓飞 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 2005年第6期5-7,共3页
 利用直流磁控溅射法,在铝基片、玻璃基片上制备了钽膜。研究了氩气压力、阴极电流、系统本底真空度、溅射时间等工艺条件对钽膜性能及厚度的影响,并对钽膜的物理性能及电学性能进行了研究。结果表明,钽镀层的厚度主要与钽靶功率、氩...  利用直流磁控溅射法,在铝基片、玻璃基片上制备了钽膜。研究了氩气压力、阴极电流、系统本底真空度、溅射时间等工艺条件对钽膜性能及厚度的影响,并对钽膜的物理性能及电学性能进行了研究。结果表明,钽镀层的厚度主要与钽靶功率、氩气分压及溅射时间有关;当氩气压力、电流一定时,钽镀层的厚度与溅射时间近似地成正比关系。利用3A/(8min)、4A/(6min)、5A/(3min)各5片铝基片镀钽的样品制成了医用CT检测器信号接受盒,获得的X ray电信号分别为30万、32万、34万单位,达到并超过了国际同类产品的技术指标。 展开更多
关键词 磁控溅射 直流 镀钽 医用CT 信号接受盒
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氧化银薄膜的微结构对其反射率和透射率的影响 被引量:5
18
作者 冯红亮 粱艳 +5 位作者 郜小勇 林清耿 张增院 马姣民 卢景霄 宁皓 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第2期211-214,共4页
保持150℃的衬底温度不变,通过调节氧氩比(OFR=[O2]/[Ar]),利用直流反应磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了一系列氧化银薄膜。利用X射线衍射谱、扫描电子显微镜和分光光度计重点研究了薄膜的微结构对其反射率和透射率的影响。研究表明随着... 保持150℃的衬底温度不变,通过调节氧氩比(OFR=[O2]/[Ar]),利用直流反应磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了一系列氧化银薄膜。利用X射线衍射谱、扫描电子显微镜和分光光度计重点研究了薄膜的微结构对其反射率和透射率的影响。研究表明随着OFR的升高,氧化银薄膜呈现了从Ag+Ag2O多晶结构到Ag2O多晶结构的演变。薄膜的表面相应地呈现了从疏松的多孔结构到类金字塔结构的演变。较高的Ag2O含量和致密的表面形貌有利于薄膜可见和红外区的透光性,而较高的银含量和疏松的多孔结构则造成对光的强烈吸收,急剧地降低了薄膜的透射率和反射率。特别是在OFR为0.5条件下成功制备了具有(111)择优取向的Ag2O多晶薄膜,有效地将氧化银热分解的临界温度降低到200℃左右。 展开更多
关键词 氧化银薄膜 直流反应磁控溅射 Ag2O薄膜 快速热处理
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直流溅射ZnO导电靶制备ZnO:Al透明导电薄膜 被引量:5
19
作者 方斌 官文杰 +1 位作者 陈欣 陈志强 《武汉理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第4期52-54,共3页
利用直流(DC)磁控溅射导电率良好的ZnO:Al陶瓷制备ZnO:Al透明导电薄膜。在不同的温度下对靶的溅射得到的薄膜进行X-ray、AFM、霍尔系数的测量等的分析,研究了溅射温度对膜的薄膜结构电学和光学性能的影响。制得的薄膜均为(002)面的单一... 利用直流(DC)磁控溅射导电率良好的ZnO:Al陶瓷制备ZnO:Al透明导电薄膜。在不同的温度下对靶的溅射得到的薄膜进行X-ray、AFM、霍尔系数的测量等的分析,研究了溅射温度对膜的薄膜结构电学和光学性能的影响。制得的薄膜均为(002)面的单一择优取向,且当温度为300℃时,有最低的电阻率为6.33×10-4Ωcm。薄膜在可见光部分的透射率都在80%以上。 展开更多
关键词 ZnO:Al(ZAO)薄膜 直流(DC)磁控溅射 电学性能
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透明导电薄膜在不同衬底上的性能对比研究 被引量:3
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作者 陆峰 徐成海 +3 位作者 闻立时 曹洪涛 裴志亮 孙超 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2005年第7期5-7,共3页
为了对比研究不同透明衬底上ZnO:Al(ZAO)薄膜的性能,采用直流反应溅射法制备薄膜,并对其作EDS、XRD和电学测试分析。结果表明:所制备的ZAO薄膜具有典型的ZnO晶体结构;沉积在玻璃基片上的ZAO薄膜,Al,O含量高于沉积在透明聚酯塑料基片上的... 为了对比研究不同透明衬底上ZnO:Al(ZAO)薄膜的性能,采用直流反应溅射法制备薄膜,并对其作EDS、XRD和电学测试分析。结果表明:所制备的ZAO薄膜具有典型的ZnO晶体结构;沉积在玻璃基片上的ZAO薄膜,Al,O含量高于沉积在透明聚酯塑料基片上的,而Zn的含量则相反;在两种衬底上获得的ZAO薄膜电阻率分别为4.5×10-4Ω·cm和9.73×10-4Ω·cm,可见光透射率分别达到87.7%和81.5%。由此可见:用直流反应磁控溅射法在不同衬底上都能获得可见光透射率达到80%以上的ZAO薄膜;相比而言,在玻璃衬底上获得的ZAO薄膜电阻率低,而在透明聚酯塑料上沉积的ZAO薄膜透射性好。 展开更多
关键词 ZAO薄膜 衬底 直流磁控溅射 性能 XRD衍射分析 电阻率 透射率
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