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Electrochemical micromachining of micro-dimple arrays on cylindrical inner surfaces using a dry-film photoresist 被引量:15
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作者 Qu Ningsong Chen Xiaolei +1 位作者 Li Hansong Zeng Yongbin 《Chinese Journal of Aeronautics》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第4期1030-1036,共7页
The application of surface textures has been employed to improve the tribological performance of various mechanical components. Various techniques have been used for the application of surface textures such as micro-d... The application of surface textures has been employed to improve the tribological performance of various mechanical components. Various techniques have been used for the application of surface textures such as micro-dimple arrays, but the fabrication of such arrays on cylindrical inner surfaces remains a challenge. In this study, a dry-film photoresist is used as a mask during through-mask electrochemical micromachining to successfully prepare micro-dimple arrays with dimples 94 lm in diameter and 22.7 lm deep on cylindrical inner surfaces, with a machining time of 9 s and an applied voltage of 8 V. The versatility of this method is demonstrated, as are its potential low cost and high efficiency. It is also shown that for a fixed dimple depth, a smaller dimple diameter can be obtained using a combination of lower current density and longer machining time in a passivating sodium nitrate electrolyte. 展开更多
关键词 dry-film photoresist Electrochemical machining Electrochemical micromachining Inner surface Micro-dimple arrays Texture
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丙烯酸酯干膜光刻胶曝光特性及其应用 被引量:8
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作者 秦健 刘泽文 +1 位作者 钟艳 王太宏 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2011年第7期454-459,共6页
对一种新型的丙烯酸酯干膜光刻胶(DFP)的曝光及显影特性进行了研究,采用该干胶制作出微沟道结构,进行微流道实验研究。在4英寸(1英寸=2.54cm)硅片上实现了厚度为50μm的干胶完好贴敷,从而解决了干胶在硅衬底上的贴敷问题。利用改变曝光... 对一种新型的丙烯酸酯干膜光刻胶(DFP)的曝光及显影特性进行了研究,采用该干胶制作出微沟道结构,进行微流道实验研究。在4英寸(1英寸=2.54cm)硅片上实现了厚度为50μm的干胶完好贴敷,从而解决了干胶在硅衬底上的贴敷问题。利用改变曝光时间设定曝光剂量梯度的方法,研究了干胶的曝光特性。采用不同质量分数的显影液,研究干胶的显影特性,获得了优化的结果。采用干胶系统进行了微流体沟道制作,得到了侧壁陡直的微沟道结构。实验发现,65mJ/cm2及以上的曝光剂量可使厚度为50μm的干膜光刻胶充分曝光并获得形貌效果良好的微结构,质量分数为5%的显影液具有最快的显影速度。 展开更多
关键词 干膜光刻胶(DFP) 微电子机械系统(MEMS) 曝光 显影 微流道
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一种基于感光干膜-铟锡氧化物电极的简易细胞阻抗传感器实现细胞形态学和阻抗信息同时检测 被引量:4
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作者 李远 胡帆 +2 位作者 廖娟 胡礼仪 刘北忠 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2015年第6期779-786,共8页
加工一种基于感光干膜-铟锡氧化物DFP-ITO(Dry Film Photoresist-Indium Tin Oxide)电极的细胞阻抗生物传感器并实现细胞形态学和阻抗信息同时检测。35μm厚的感光干膜层压在ITO导电玻璃表面上作为绝缘层,通过照相制版技术在感光干膜绝... 加工一种基于感光干膜-铟锡氧化物DFP-ITO(Dry Film Photoresist-Indium Tin Oxide)电极的细胞阻抗生物传感器并实现细胞形态学和阻抗信息同时检测。35μm厚的感光干膜层压在ITO导电玻璃表面上作为绝缘层,通过照相制版技术在感光干膜绝缘层上蚀刻不同直径圆孔;以DFP-ITO作为工作电极,通过夹具和测量小池与Ag/Ag Cl参比电极、Pt丝对电极相连构成三电极阻抗测量系统;考察了不同直径DFP-ITO工作电极阻抗谱特征;通过细胞粘附实验及细胞毒性实验考察了感光干膜细胞生物相容性;通过光学显微镜和阻抗谱技术分别对接种在DFP-ITO电极上人肺癌细胞株A549粘附、增殖过程中的形态学和阻抗信息进行检测和分析。研究结果发现不同直径DFP-ITO电极具有相似的阻抗特性;充分固化的感光干膜表面适宜A549细胞粘附且无明显的细胞毒性;基于DFP-ITO电极构建的细胞阻抗传感器能够通过光学显微镜获取A549细胞形态学数据,同时通过阻抗谱技术能够解析A549细胞粘附、增殖过程中的细胞质膜电容、细胞-细胞间隙电阻、细胞-ITO电极间隙电阻变化。本文发展了基于DEP-ITO电极的细胞阻抗传感器结构简单,可实现细胞形态学和阻抗信息的双通道获取,未来可用于细胞生理病理学行为和药物细胞毒性研究。 展开更多
关键词 生物传感器 电化学阻抗检测 感光干膜 铟锡氧化物 阻抗 细胞形态学
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基于光致抗蚀干膜的掩膜制备及其应用研究
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作者 曾永彬 蔡伟伟 +2 位作者 李寒松 陈晓磊 张西方 《电加工与模具》 2014年第5期24-27,40,共5页
在传统工艺流程中,必须先将干膜贴于工件表面,然后进行光刻,但干膜不可重复使用。现提出一种新型干膜光刻工艺流程,在干膜贴于工件表面之前,先对干膜单独进行光刻试验研究。基于该新型工艺流程,研究了杜邦干膜GPM220的曝光及显影特性。... 在传统工艺流程中,必须先将干膜贴于工件表面,然后进行光刻,但干膜不可重复使用。现提出一种新型干膜光刻工艺流程,在干膜贴于工件表面之前,先对干膜单独进行光刻试验研究。基于该新型工艺流程,研究了杜邦干膜GPM220的曝光及显影特性。经过对曝光量(曝光时间)及显影时间的参数优化,最终在干膜上获得了平均直径为99.7μm的通孔阵列,并将其作为掩膜应用于微细电解加工,通过选择合理的加工参数,在工件表面获得了平均直径为125μm、平均深度为10μm的微坑阵列。电解实验后的干膜易与工件分离,可实现重复使用,提高了干膜的利用率。 展开更多
关键词 光致抗蚀剂(干膜) 曝光 显影 掩膜电解
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水溶性丙烯酸酯类感光干膜的制备及其性能研究 被引量:2
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作者 李伟杰 周光大 李伯耿 《影像科学与光化学》 CAS CSCD 北大核心 2016年第2期172-180,共9页
用溶液聚合法合成了水溶性丙烯酸树脂,并以该树脂为成膜物质制备了水溶性感光干膜。傅立叶-红外光谱和1 HNMR分析表明,丙烯酸树脂中不含C=C不饱和双键,基本不参与紫外光固化反应。感光干膜性能测试表明,干膜中丙烯酸树脂的酸值及重均分... 用溶液聚合法合成了水溶性丙烯酸树脂,并以该树脂为成膜物质制备了水溶性感光干膜。傅立叶-红外光谱和1 HNMR分析表明,丙烯酸树脂中不含C=C不饱和双键,基本不参与紫外光固化反应。感光干膜性能测试表明,干膜中丙烯酸树脂的酸值及重均分子量会影响干膜的解析度和附着力等性能。进一步的研究表明,曝光能量、感光级数和显影时间也会直接影响干膜的性能。以30μm厚度干膜Ⅱ为例,为获得较好的性能,丙烯酸树脂中甲基丙烯酸含量范围为21.5%-23.8%,重均分子量范围为6.00×10^4-7.54×10^4,曝光能量设定40-60mJ/cm^2,感光级数为18-23/41ST,显影时间40-50s,在此条件下,干膜的解析度可以达到30μm,附着力为20μm,干膜线路的侧边形貌和尺寸稳定性良好。此外,感光干膜中丙烯酸酯的比例和种类也会影响干膜的各方面性能,通过调节干膜中各组分含量的比例可以优化干膜性能。 展开更多
关键词 感光干膜 水溶性丙烯酸树脂 曝光能量 解析度
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夺氢型BCIM增感体系引发二甲基丙烯酸酯类单体的光聚合动力学 被引量:1
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作者 丁艳花 邹应全 《广州化工》 CAS 2021年第1期15-19,共5页
采用实时红外研究了聚乙二醇(400)二甲基丙烯酸酯和乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯单体在复合光引发体系BCIM/EMK/NPG中的光聚合动力学。考察了复合光引发体系各组分的不同配比、光源、复合光引发体系浓度对两种单体的聚合动力学影响。结... 采用实时红外研究了聚乙二醇(400)二甲基丙烯酸酯和乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯单体在复合光引发体系BCIM/EMK/NPG中的光聚合动力学。考察了复合光引发体系各组分的不同配比、光源、复合光引发体系浓度对两种单体的聚合动力学影响。结果表明:当BCIM、EMK、NPG质量比为2:1:1时,单体的聚合性能最好;两种单体的光聚合性能均在汞灯光源下最好,LED@365 nm次之,LED@400 nm最差;复合光引发体系浓度越大,两种单体的双键转化率越高,聚合速率越快。 展开更多
关键词 邻氯代六芳基双咪唑 光聚合性能 实时红外 感光干膜
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感光干膜相关技术研究进展 被引量:4
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作者 江叔福 吴雅 郑伟 《应用技术学报》 2023年第1期38-42,共5页
感光干膜又称光致抗蚀干膜,是一种固态负性光刻胶,作为生产印制电路板(printed circuit board,PCB)的重要原材料之一,市场规模巨大。随着电子产品精密和微型化需求的日益增长,传统的PCB生产技术,图形转移技术无法满足生产需求;激光直接... 感光干膜又称光致抗蚀干膜,是一种固态负性光刻胶,作为生产印制电路板(printed circuit board,PCB)的重要原材料之一,市场规模巨大。随着电子产品精密和微型化需求的日益增长,传统的PCB生产技术,图形转移技术无法满足生产需求;激光直接成像(laser direct imaging,LDI)技术具有高精度特点,被广泛应用于感光干膜生产中。从感光干膜的性能和特征、感光干膜行业的技术壁垒及感光感膜的发展现状和应用领域等方面综述了感光干膜相关技术的研究进展,为相关行业工作者提供理论参考。 展开更多
关键词 感光干膜 光刻胶 激光直接成像技术 负性光刻胶
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一种简易的用于检测细胞凋亡的微流控芯片分析技术 被引量:4
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作者 李远 肖文海 +2 位作者 廖娟 刘严 米永华 《军事医学》 CAS CSCD 北大核心 2016年第5期430-436,共7页
目的针对微流控芯片的加工、细胞培养及细胞响应分析发展一套易于被普通生物学实验室实施的微流控芯片细胞分析技术,以天然抗癌药物重楼皂苷Ⅰ促人肺癌细胞A549凋亡作用分析对该技术进行验证。方法微流控芯片加工采用了基于感光干膜的... 目的针对微流控芯片的加工、细胞培养及细胞响应分析发展一套易于被普通生物学实验室实施的微流控芯片细胞分析技术,以天然抗癌药物重楼皂苷Ⅰ促人肺癌细胞A549凋亡作用分析对该技术进行验证。方法微流控芯片加工采用了基于感光干膜的软光刻工艺;微流控芯片结构设计为储液池加直微通道,通过ANSYS软件对芯片的流体动力学行为进行分析;细胞培养采用间歇式细胞动态培养技术;重楼皂苷Ⅰ对A549细胞的促凋亡作用通过细胞形态学改变、活/死细胞荧光染色及乳酸脱氢酶(LDH)释放进行定性和定量分析。结果感光干膜软刻工艺加工微流控芯片简单易行;储液池加微通道结构的微流控芯片适合各类贴壁细胞培养;形态学和荧光染色实验提示重楼皂苷Ⅰ具有促A549细胞凋亡作用,且促凋亡效率与浓度呈正比关系;微流控芯片上LDH释放定量分析结果与传统96孔板实验结果吻合。结论该文展示的技术操作简单、低试剂消耗,能实现定性和定量分析相结合,可在无相关微流控技术经验的生物医学实验室中推广使用。 展开更多
关键词 微流控芯片 软刻工艺 感光干膜 细胞培养 细胞凋亡 重楼皂苷Ⅰ 芯片分析技术
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国内外感光干膜市场初探 被引量:3
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作者 王海霞 《精细与专用化学品》 CAS 2018年第9期1-2,共2页
感光干膜是印制电路板行业的重要原料,其主体部分是光致抗蚀剂,属高端化学品。2017年,世界感光干膜市值约15.4亿美元,预计2022年将达22.75亿美元。介绍了国内外感光干膜的生产现状。
关键词 印制电路板 感光干膜 光致抗蚀剂
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光致抗蚀干膜用水溶性丙烯酸树脂的优化合成 被引量:1
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作者 邓秉明 叶代勇 《热固性树脂》 CAS CSCD 北大核心 2011年第1期25-30,共6页
以甲基丙烯酸甲酯(MMA)、丙烯酸丁酯(BA)、丙烯酸(AA)为主要原料,合成了应用于水性光致抗蚀干膜的水溶性丙烯酸树脂。采用正交试验法通过GPC、红外、热重分析及拉伸实验研究了引发剂用量、引发剂滴加时间、亲水性功能单体AA的用量、软单... 以甲基丙烯酸甲酯(MMA)、丙烯酸丁酯(BA)、丙烯酸(AA)为主要原料,合成了应用于水性光致抗蚀干膜的水溶性丙烯酸树脂。采用正交试验法通过GPC、红外、热重分析及拉伸实验研究了引发剂用量、引发剂滴加时间、亲水性功能单体AA的用量、软单体BA的用量、中和度对树脂水溶性,树脂相对分子质量以及漆膜性能的影响。研究表明,优化合成反应条件如下:引发剂质量分数1.4%、引发剂滴加时间3 h、AA单体质量分数30%、BA单体质量分数5%、中和度45%,产物的单体转化率高于95%且能在常温下稳定贮存12个月以上,树脂水溶性达到85%以上;树脂数均分子质量n<45 000且分布系数PD﹤2。树脂漆膜拉伸强度>1.368 MPa,在350℃开始分解直至450℃分解完全。 展开更多
关键词 光致抗蚀干膜 水溶性 丙烯酸树脂 合成 正交试验 分子质量 拉伸强度 耐热性
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