高精度控制光电光栅刻划机的光栅外差干涉仪

为提高光电式光栅刻划机的控制精度,设计了一种自准直式激光光栅外差干涉仪的新型测量系统。以光栅衍射和偏振光学为理论基础,结合电子学的相关知识对系统进行了理论分析,设计了基准光栅,并进行了大量的实验研究。由实验研究可知,这种利用光栅的自准直衍射和以光栅栅距作为计量基准的干涉测量系统,具有受环境因素的影响低,结构简单、装调方便等优点;采用双频激光得到的测量信号增益大,信噪比高;该系统用于光栅刻划,得到的栅线间距刻划偏差优于10nm,在3mm行程内累积误差约为0.3μm。结果表明,该系统具有纳米级分辨力,用于实时测量控制系统,测量误差很小,完全达到了中阶梯光栅等特种光栅对刻划机的高精度分度要求。

精密测距仪——μ—base测距精度测试方法与分析

新型μ-base精密测距仪是一款高精度基线测距仪，它采用ADM测距原理，在使用角隅棱镜（CCR1．5“，RRR1．5”）时，其在160m的范围内的测距精度优于10μm。本文在分析ADM测距原理的基础上，利用双频激光干涉仪校准装置，采用“平面镜反射扩大量程”的方法，对仪器的测距精度、测程等指标进行测试，对测量的结果进行了评定和分析，并给出一些可较大程度保证其精度的使用条件和使用方法。