微光学阵列元件离子束刻蚀制作的分析与讨论

阐述了利用离子束刻蚀技术制作微光学阵列元件的工艺条件．研究和实验结果表明，通过光刻热熔法制作的光致抗蚀剂掩模图形经具有不同能量的离子束刻蚀后可以有效地实现向衬底材料上所作的选择性转移，所作的理论分析结果为非球面微光学阵列元件的制作提供了一条可行的技术途径．

用于强功率半导体激光器的石英柱微透镜阵列

采用光刻热熔法及离子束溅射刻蚀制作面阵石英柱微透镜阵列．表面探针和扫描电子显微镜的测试表明，在不同的工艺条件下制成的柱微透镜的表面轮廓具有明显的差异，给出了描述柱微透镜制作过程中的几个重要工艺参量的拟合关系式．

氩离子束刻蚀制作大面阵微透镜阵列

对制作大面阵微透镜阵列的氩离子束刻蚀技术进行了讨论和分析．实验结果表明，衬底材料不同时，制作表面形貌良好并具有预定参数指标要求的微透镜阵列的工艺条件有明显的差异，给出了在几种衬底材料上刻蚀制作面阵微透镜阵列的离子束刻蚀速率与离子束能量之间相互关系的实测结果．

“周代杜撰夏王朝说”考辨

"周代杜撰夏王朝说"是不能成立的。没有任何确切证据表明周代"杜撰"出一个夏王朝。周人"杜撰"夏的推断不合情理。出土文献材料表明,周代之前已有夏。无论是"战国杜撰说"、"东周杜撰说",或是"西周杜撰说",都与历史事实不符。