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终端带单一场环的P^+N结击电压分析 被引量:4
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作者 张颖 赵野 +1 位作者 高嵩 石广元 《辽宁大学学报(自然科学版)》 CAS 2001年第2期148-152,共5页
利用了平面结击穿电压的归一化表达式 ,研究了终端带单一场环的P+N结击穿电压特性 ,通过解峰值电场方程 ,给出了确定主结与单浮场环最佳间距的简便方法 ,得到了在未穿通情况下 。
关键词 P+N结 场保护环 击穿电压 主结-环间距 柱面结 功率器件 终端带 单一场环
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新型结终端技术 被引量:1
2
作者 石广源 李永亮 +1 位作者 李严 高嵩 《辽宁大学学报(自然科学版)》 CAS 2006年第2期172-174,共3页
提出了一种新型的场板和保护环相结合的结终端技术,并讨论了此终端结构的工作原理和优越性.
关键词 场板 保护环 结终端技术
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新型PN结终端技术的研究
3
作者 石广源 永福 +3 位作者 宋文斌 赵贵勇 王莉 宋哲 《辽宁大学学报(自然科学版)》 CAS 2005年第2期127-130,共4页
在场板工作机理的基础上阐述了一种新型的场板和保护环相结合的P-N结终端技术的工作原理.最后讨论了此终端结构的可行性.
关键词 场板 保护环 结终端技术
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10A/600V大功率硅基JBS肖特基二极管的制备 被引量:1
4
作者 陈菩祥 高桦 +1 位作者 李海蓉 刘肃 《电子器件》 CAS 北大核心 2014年第6期1026-1029,共4页
为了弥补传统肖特基二极管漏电流大和反向耐压低的不足,采用栅条P+-N结和肖特基结嵌套形成结势垒肖特基二极管(JBS),终端结构由7道场限环和1道切断环构成。通过模拟确定最优参数后流片试验,同步制备肖特基二极管(SBD)和Pi N二极管作为... 为了弥补传统肖特基二极管漏电流大和反向耐压低的不足,采用栅条P+-N结和肖特基结嵌套形成结势垒肖特基二极管(JBS),终端结构由7道场限环和1道切断环构成。通过模拟确定最优参数后流片试验,同步制备肖特基二极管(SBD)和Pi N二极管作为对比。结果表明:制备的JBS二极管兼备SBD二极管正偏和Pi N二极管反偏的优点。在漏电流密度小于1×10-5A/cm2时,反向耐压达到600 V;正向电流10 A(80.6 A/cm2)时,导通压降仅为1.1V。 展开更多
关键词 肖特基二极管 结势垒肖特基二极管 栅条结构 场限环 反向耐压600 V
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小型活性靶时间投影室性能研究 被引量:3
5
作者 许金艳 阳黎升 +4 位作者 李奇特 叶沿林 韩家兴 白世伟 高见 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第6期1068-1073,共6页
本文设计了使用64路一维读出条的小型活性靶时间投影室,并对其性能进行了测试,其气体室的灵敏体积为10cm×10cm×14cm,通过连接2层厚气体电子倍增器进行电子放大.为改善场笼边缘的电场不均匀性,引入场笼环的设计结构.当场笼环... 本文设计了使用64路一维读出条的小型活性靶时间投影室,并对其性能进行了测试,其气体室的灵敏体积为10cm×10cm×14cm,通过连接2层厚气体电子倍增器进行电子放大.为改善场笼边缘的电场不均匀性,引入场笼环的设计结构.当场笼环加高压为-950 V时,测得α粒子沿漂移电场方向的径迹位置分辨小于0.2 mm,径迹角度分辨小于0.6°,时间分辨小于20 ns.活性靶时间投影室的工作气体为96%He+4%CO2.实验中也观察到了清晰的α粒子在He气上的弹性散射事件. 展开更多
关键词 活性靶时间投影室 场笼环 漂移电场分布 位置分辨 α+α弹性散射
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1.4 kV 4H-SiC PiN diode with a robust non-uniform floating guard ring termination 被引量:1
6
作者 陈思哲 盛况 王珏 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2014年第5期32-35,共4页
This paper presents the design and fabrication of an effective, robust and process-tolerant floating guard ring termination on high voltage 4H-SiC PiN diodes. Different design factors were studied by numerical simulat... This paper presents the design and fabrication of an effective, robust and process-tolerant floating guard ring termination on high voltage 4H-SiC PiN diodes. Different design factors were studied by numerical simulations and evaluated by device fabrication and measurement. The device fabrication was based on a 12 μm thick drift layer with an N-type doping concentration of 8 × 10^15 cm^-3. P^+ regions in the termination structure and anode layer were formed by multiple aluminum implantations. The fabricated devices present a highest breakdown voltage of 1.4 kV, which is higher than the simulated value. For the fabricated 15 diodes in one chip, all of them exceeded the breakdown voltage of 1 kV and six of them reached the desired breakdown value of 1.2 kV. 展开更多
关键词 silicon carbide PiN diode field guarding rings edge termination
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一种600V VDMOS终端保护环结构的设计 被引量:5
7
作者 高东岳 《中国集成电路》 2009年第8期58-61,共4页
本文详细讨论了VDMOS终端保护环结构各部分,即保护环、保护环间隙和场板的作用及设计方法。结合600V VDMOS的外延电阻率和厚度,一种600V VDMOS终端保护环结构被成功设计出来。
关键词 保护环 保护环间隙和场板
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乳腺电阻抗扫描中电极屏蔽环对检测电场边缘效应的影响
8
作者 王威 史学涛 季振宇 《中国医疗设备》 2020年第11期61-65,共5页
目的研究屏蔽环对乳腺电阻抗扫描(Electrical Impedance Scanning,EIS)检测电场边缘效应的影响,为屏蔽环宽度设计提供依据和乳腺EIS临床应用提供指导。方法在EIS仿真模型基础上,分析屏蔽环的宽度对EIS检测电场边缘效应的影响规律,利用EI... 目的研究屏蔽环对乳腺电阻抗扫描(Electrical Impedance Scanning,EIS)检测电场边缘效应的影响,为屏蔽环宽度设计提供依据和乳腺EIS临床应用提供指导。方法在EIS仿真模型基础上,分析屏蔽环的宽度对EIS检测电场边缘效应的影响规律,利用EIS物理模型,在均匀背景下、扰动目标体存在的情况下,评估屏蔽环对EIS成像结果的影响。通过对健康乳房进行初步实验,分析屏蔽环对EIS测量数据的影响。结果屏蔽环宽度小于5 mm时或与被测体接触不均匀时,电场边缘效应对EIS检测结果影响较大;屏蔽环宽度为5 mm以上且与被测体均匀接触时可显著抑制边缘效应对EIS成像的影响。结论屏蔽环宽度设计是EIS检测电极设计的一个重要因素,优化的设计可降低电场边缘效应对成像结果的影响。 展开更多
关键词 电阻抗扫描 电极 屏蔽环 电场边缘效应 物理模型
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Fabrication and characteristics of a 4H-SiC junction barrier Schottky diode 被引量:2
9
作者 陈丰平 张玉明 +3 位作者 吕红亮 张义门 郭辉 郭鑫 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第6期33-35,共3页
4H-SiC junction barrier Schottky(JBS)diodes with four kinds of design have been fabricated and characterized using two different processes in which one is fabricated by making the P-type ohmic contact of the anode i... 4H-SiC junction barrier Schottky(JBS)diodes with four kinds of design have been fabricated and characterized using two different processes in which one is fabricated by making the P-type ohmic contact of the anode independently,and the other is processed by depositing a Schottky metal multi-layer on the whole anode.The reverse performances are compared to find the influences of these factors.The results show that JBS diodes with field guard rings have a lower reverse current density and a higher breakdown voltage,and with independent P-type ohmic contact manufacturing,the reverse performance of 4H-SiC JBS diodes can be improved effectively. Furthermore,the P-type ohmic contact is studied in this work. 展开更多
关键词 4H-SIC junction barrier Schottky field guard ring
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