X波段三维异构片式收发SiP模块设计

采用硅基三维异构集成技术,在极小的体积内,将多个微波单片集成电路(MMIC)和无源功分网络一体化集成,实现了一种X波段4通道片式收发系统级封装(SiP)。该SiP由2个体硅堆叠封装(PoP)而成,不同封装通过球栅阵列(BGA)方式互连,单层封装的内部腔体上下面均贴装芯片,封装内部采用硅通孔技术(TSV)实现垂直互连,SiP尺寸为14 mm×14 mm×3.2 mm。测试结果表明,在8~12 GHz内,SIP 4个通道的发射饱和输出功率≥30.5 dBm,接收增益≥24.5 dB,噪声系数≤3 dB,接收输入P-1≥-26 dBm,同时具备6位数控移相和6位数控衰减功能,重量约1 g,可广泛用于微波收发系统。

基于基因荧光检测的长波通滤光片研制

光学滤光片是滤去杂质光干扰的重要光学器件,不同波段的滤光片在基因检测得到广泛应用。基于膜系设计理论与薄膜制备工艺,利用电子束蒸发离子辅助沉积技术,以Ta_(2)O_(5)和SiO_(2)为镀膜材料,在JGS1基底玻璃上设计并制备了一种截止中心λ_(0)=520 nm的高反射,透射带λ为530~750 nm的高透射长波通滤光片。通过分析膜层敏感度和电场分布,设置合理的晶控方案,调整工艺参数,避免监控高敏感膜层时石英晶控灵敏度下降,解决光谱透过率降低的问题。研制的滤光片在520 nm处反射率为99.77%,在530~750 nm波段平均透过率为98.58%,可满足应用需求。

胶膜与芳纶纸蜂窝自动化叠合工艺适应性研究

近年来,国产间位芳纶纸广泛用于蜂窝材料制备。同时,为了提高芳纶纸蜂窝制造自动化水平,蜂窝自动叠合技术也得到了迅速发展。因此,有必要选择一款与国产芳纶纸工艺匹配性更好的低黏性胶膜用于国产间位芳纶纸蜂窝自动化制备。本文通过对胶膜基本力学性能、工艺适应性及其制备的蜂窝性能进行对比研究,发现JM-A型胶膜常温剪切性能优于JM-B型胶膜,其更加适用于自动化叠合工艺,且制备蜂窝性能可满足标准要求。

碳纤维织物增强聚苯硫醚复合材料的制备及性能

采用薄膜叠压法制备碳纤维织物增强聚苯硫醚(CFF/PPS)复合材料层压板,研究了热压温度、热压压力和热压时间对复合材料层压板力学性能的影响,确定了制备CFF/PPS复合材料的理想工艺参数为:热压温度320～330℃,热压压力0.15～0.20MPa,热压时间8～10min。在该参数下制得的层压板拉伸强度为652MPa,弯曲强度为711MPa,层间剪切强度为43MPa;在6.7J/mm的冲击能量下,层压板的冲击后压缩剩余强度为116MPa。

脉宽压缩光栅用多层膜制备和性能测试

给出了以413nm作为写入波长,1053nm作为使用波长的多层介质光栅膜的设计,计算表明膜系H3L(H2L)^9H0.5L2.03H满足光栅膜的要求·最后给出了制备得到的样品光学特性测试,结果表明在使用波长和曝光波长处满足设计要求,其抗激光损伤阈值在光正入射和51.2°入射时分别为14.14J/cm2和9.32J/cm2,膜系的应力表现为压应力·

基于λ/4膜系的全角度反射镜

本文介绍了一种用 λ/4膜系设计特定波长范围内的全偏振全角度反射镜的方法 ,给出了反射带中心波长、边缘波长及带宽的表达式 ,并对如何避免 Brewster窗作了定量分析 .

一种用于Yb:YAG激光器的波长分离膜的研制

以1 030 nm高反,940,980 nm高透的波长分离膜作为实例,为提高该薄膜元件的波长分离效果,从膜系的优化方面做了一系列的研究,诸如采用带通滤光片的设计思想,在膜堆两侧加入了匹配层,调整膜堆的周期厚度,并用膜系设计软件对通带作进一步的优化。通过这一系列的优化设计后,利用RF双离子束溅射工艺在BK7玻璃基底上沉积样品薄膜,并在基底背面加镀通带增透膜。结果显示,透射带在940 和980 nm处的透过率分别为97.73%和93.63%,反射带在1 030 nm的反射率为99.99%。对所制备的样品薄膜进行了激光损伤阈值测量,得到了35 J/cm2(1 064 nm,12 ns)的结果。

几种高反膜设计新方法

现代科技的发展对增反膜提出的要求越来越高，具体表现在两个方面：一是要求在现有基础上进一步提高反射率，拓宽高反膜带宽，二是将高反膜的波长向短波方向延伸至真空紫外-x射线。本文总结了近年来出现的一些思路独特的增反膜设计新方法，包括Needle设计法、Staggered broad-band reflecting muhilayers法、Sub-quarterwave multilayers法、Layered synthetic microstructure／quasi-periodic multilayers法、Layer by layer法、带阻挡层的Layer by layer法及Wide range multilayer设计法。给出了这些设计方法的思路，以真空紫外-X射线反射膜为侧重点。对增反膜设计、制作过程中尚存的一些重大问题也进行了阐述。

晶体硅太阳电池表面钝化技术

介绍了晶体硅太阳电池表面钝化技术的发展历程,表面钝化膜在晶体硅太阳电池中所起的作用,以及晶体硅太阳电池中各种钝化膜和表面钝化技术。阐述了国内和国际对晶体硅太阳电池表面钝化技术的最新研究动态,重点论述了SiO2,SiNx,SiCx和Al2O3,以及这些钝化膜的叠层钝化技术的优缺点。在此基础上进一步指出SiO2/SiNx叠层钝化膜将成为今后工业化生产的研究重点,Al2O3及其叠层钝化膜将成为今后实验室的研究重点,由于表面钝化是提高晶体硅太阳电池转换效率最有效的手段之一,今后晶体硅太阳电池表面钝化技术仍将是国内和国际研究的热点问题之一。

原位氧化硅钝化层对氧化钒薄膜光电特性的影响

氧化硅(SiOx)原位钝化层对氧化钒(VOx)薄膜电学特性的影响分析旨在改善像元微桥结构的光学吸收特性,提高热敏VOx薄膜层的方阻和电阻温度系数(TCR)稳定性。采用离子束溅射沉积50 nm VOx薄膜后,紧接着沉积30 nm SiOx钝化层。通过原位残余气体分析仪(RGA)和衬底温度控制,调节氧化钒薄膜中的氧含量,分析了VOx单层膜、SiOx/VOx双层膜的电学特性随工艺温度的变化规律,原位残余气体分析仪(RGA)和150℃加温工艺提高了VOx热敏层薄膜的方阻和电阻温度系数稳定性。

热塑性复合材料研究及其在航空领域中的应用

本文介绍了热塑性复合材料的分类与组成,并简述了短纤维粒料(SFT)、长纤维粒料(LFT)、玻璃纤维毡增强热塑性片材(GMT)、织物预浸料和单向连续纤维增强热塑预浸料(CFRTP)的各自优点,连续纤维增强热塑性树脂的预浸料的主流制备工艺。结合高性能热塑性复合材料在国外航空领域中的应用,展望了其在我国的发展方向。

室温生长AZO/Al2O3叠层薄膜晶体管性能研究

针对目前大多数氧化物薄膜晶体管都需要采用热退火工艺来提高其性能不利于其在柔性显示器件中应用这一问题,提出了一种采用室温工艺制备的新型TFT器件,无需退火处理即可获得较好的器件性能。该器件采用脉冲激光沉积技术制备的AZO/Al_2O_3叠层结构作为沟道层。与单层AZO-TFT器件相比,叠层TFT器件具有更优异的性能,其迁移率为2.27 cm2·V-1·s-1,开关比为1.43×106。通过对AZO/Al_2O_3叠层薄膜的厚度、密度、粗糙度、物相、界面特性及能带结构等进行分析,发现这种叠层结构能够使电子的运动被限制在AZO薄膜平面内,即形成了二维电子传输,从而提升TFT器件的性能。

分色滤光片的实现及基本工艺

利用截止滤光片可以实现分色目的，而通过合理设计膜系参数，带通滤光片也可达到类似目的．本文对用于分色的截止和带通滤光片的特点作了对比；并讨论了要从工艺上实现这两类膜系需要解决的基本问题．

低电阻率介质层制备低压驱动薄膜电致发光器件的研究

采用Ta2O5／SiO2，Ta2O5／Al2O3复合介质层制备出低压驱动ZnS：Mn薄膜电致发光器件，它的阈值电压在40V以下。当驱动电压为60V，频率为50Hz时，发光亮度在200cd／m2以上，发光层中平均电场强度为105V／cm数量级。这种器件具有其独特的亮度—电压特性、频率特性和电荷存储量—电压特性。这种器件的亮度—电压特性与其复合介质层的电导性质密切相关，而与发光层厚度关系不大。实验分析表明复合介质层的电导性质是获得低压驱动薄膜电致发光器件的关键。

Ta_2O_5介质膜和Ta_2O_5-SiO双层介质膜绝缘特性的实验研究

本文介绍了采用直流磁控反应溅射沉积的Ta_2O_5介质膜及由用同样方法沉积的Ta_2O_5膜和电阻式蒸发沉积的SiO膜组成的双层介质膜的绝缘特性。

基于反向耦合模原理光栅的薄膜模型研究

提出了将Round方法与薄膜理论相结合的多层薄膜模型,将光纤光栅看成一多层薄膜体系,每层薄膜用界面传输矩阵和膜层传输矩阵表示,将每层的传输矩阵相乘后得到光栅的总传输矩阵,用它分析了基于反向耦合模原理的各光纤光栅。数值计算结果表明,该模型计算方法简单,而且和耦合模理论吻合得很好,可以用此模型来分析光纤光栅的各种参数对光栅的影响。

制备工艺条件对SiO_2薄膜非均质特性的影响

薄膜材料的生长过程随镀膜机尺寸的增大而呈现新的规律,为制备膜层均匀性好、材料均质的大尺寸光学元件,分别在不同离子源能量、沉积压强、基板加热温度及基板转速条件下,采用离子辅助电子束蒸发方法制备了不同单层Si O2薄膜样品;利用分光光度计及椭偏仪分别对样品的透过率及椭偏参数进行测量,并对测量结果进行拟合得到不同样品的折射率及非均质特性。实验结果表明,工件架转速是使大尺寸Si O2薄膜材料产生非均质特性的主要影响因素,离子源能量、基板温度、沉积压强通过影响材料生长过程对材料的非均质特性产生调控;对于大尺寸薄膜光学元件,工件架转速存在限制的条件下,优化其他工艺参数可以获得均质Si O2薄膜材料,该结果对于制备具有优良性能的大尺寸薄膜光学元件具有借鉴意义。

多层共挤出塑料薄膜机头的结构改进与发展

介绍了多层共挤出塑料薄膜机头——多层共挤出流延塑料薄膜机头(平膜法)和多层共挤出吹塑塑料薄膜机头(管膜法)的结构、优缺点及其最近10年来的发展状况。在平膜法机头中主要介绍了多流道式机头和喂料块式机头及供料块与多流道组合式狭缝式机头;管膜法机头中主要介绍了套管式圆柱体多层共挤出机头和叠加型圆柱体多层共挤出机头。多层共挤出薄膜机头的发展主要体现在机头结构上的不断创新以及物料的适应性不断增强和薄膜层数的不断增加等方面。

多层周期性薄膜结构的耦合波方法的研究

在分析耦合波方法与传输矩阵法相互联系的基础上以短波通薄膜滤光片为例,分别计算了正入射和斜入射情况下的修正耦合波方法的计算结果并与一般耦合波法、传输矩阵法计算的结果进行了比较,数值计算的结果表明在入射角度不是太大情况下,修正耦合波方法完全可以替代传输矩阵法对多层周期性薄膜结构进行分析和设计。

多晶硅薄膜太阳电池的计算机模拟

建立了一个多晶硅薄膜太阳电池计算机模型。利用该模型 ,分别模拟计算了单结多晶硅薄膜电池、a Si/poly Si双结电池、a Si/ poly Si/ poly Si三结电池 ,并对结果进行了讨论。结果表明实际可行的多晶硅电池应是具有陷光结构的a Si/ poly Si/ poly Si三结叠层电池 ,其子电池厚度为 0 2 3/ 0 95 / 3μm ,最高效率为 2 2 74 %。