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一种新型的正胶剥离技术及其应用
被引量:
2
1
作者
信思树
普朝光
+1 位作者
杨明珠
杨培志
《红外技术》
CSCD
北大核心
2006年第2期105-107,共3页
介绍了在金属微细图形化制作中常用的两种方法:刻蚀和剥离,并比较了两者的优劣。开发了一种新型的正胶剥离技术,着重解决了传统的正胶剥离技术中所存在的较为严重的“二次污染”问题,提高了其剥离精度,达到2μm。最后介绍了新型的正胶...
介绍了在金属微细图形化制作中常用的两种方法:刻蚀和剥离,并比较了两者的优劣。开发了一种新型的正胶剥离技术,着重解决了传统的正胶剥离技术中所存在的较为严重的“二次污染”问题,提高了其剥离精度,达到2μm。最后介绍了新型的正胶剥离技术在实际工作中的应用。
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关键词
正胶
剥离技术
金属微细图形化
二次污染
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职称材料
电磁波频率选择透通纺织品的设计和加工
被引量:
10
2
作者
施楣梧
关福旺
《纺织高校基础科学学报》
CAS
2018年第3期266-271,共6页
对传统频率选择表面的技术现状、设计原理进行系统分析,在此基础上提出织物基频率选择表面的设计方法、加工技术.借助于电磁仿真软件进行初步设计,利用电脑刻绘机切割实验制备样品,通过测试分析电磁传输特性,进一步优化设计.利用导电浆...
对传统频率选择表面的技术现状、设计原理进行系统分析,在此基础上提出织物基频率选择表面的设计方法、加工技术.借助于电磁仿真软件进行初步设计,利用电脑刻绘机切割实验制备样品,通过测试分析电磁传输特性,进一步优化设计.利用导电浆料印花、导电纱线绣花、激光雕刻、烫金纸转印等加工技术,在织物基体上制备周期导电单元.针对雷达波频段进行窄频化传输设计,得到导电单元的尺寸参数,制备相应的样品并实测分析.测试结果表明,各样品均具有优异的窄频化透波性能,如10GHz十字形单元样品的-3dB带宽仅为1.66GHz,优于现有文献结果.
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关键词
频率选择表面
电磁功能织物
透射系数
周期导电图案
金属化工艺
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职称材料
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量:
5
3
作者
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻...
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
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关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
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职称材料
基于电喷印集成制造阵列化嵌金属电极柔性微流体管道
被引量:
1
4
作者
吕孝峰
郭洪吉
+4 位作者
孙丽娜
杨婷
邹旿昊
仲亚
于海波
《中国科学:技术科学》
EI
CSCD
北大核心
2023年第4期525-535,共11页
微流控芯片在生物、化学、医学等领域受到了研究者们的广泛关注,尤其是含有金属电极的微流体管道在毛细电泳、电化学微量检测、生物医学工程和柔性电子领域具有广泛的需求前景.文章提出了一种简单按需制备阵列化嵌金属电极柔性微流体管...
微流控芯片在生物、化学、医学等领域受到了研究者们的广泛关注,尤其是含有金属电极的微流体管道在毛细电泳、电化学微量检测、生物医学工程和柔性电子领域具有广泛的需求前景.文章提出了一种简单按需制备阵列化嵌金属电极柔性微流体管道的方法.该方法基于电喷印直写技术并结合翻模和湿法刻蚀工艺,实现了嵌金属电极柔性微流体管道阵列的制备.首先,通过在线性转动接收基底上叠加直写聚乙烯醇(PVA)纤维,制备了可嵌入聚二甲基硅氧烷(PDMS)的表面光滑的线性凸起微结构(线宽为10~100μm,高宽比可大于1:2),并以此作为模板,实现了阵列化柔性微流体沟道的制造;其次,通过在平动接收基底上直写光刻胶作为保护层,并结合湿法刻蚀工艺,实现了在含有微流体沟道阵列的柔性基底上金属图案化导电电极(线宽低至5μm)的灵活制造;最后,对通入不同浓度盐溶液的微流体管道进行电学测试,验证了其管道的导通性和金属电极的导电性.结果表明:基于电喷印的集成制造流程可以灵活、简单、高效、低成本的按需加工阵列化嵌金属电极柔性微流体管道,有望应用在生物医学工程和柔性电子等领域.
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关键词
电喷印
柔性微流体管道
无掩膜制造
柔性图案化金属电极
原文传递
题名
一种新型的正胶剥离技术及其应用
被引量:
2
1
作者
信思树
普朝光
杨明珠
杨培志
机构
昆明物理研究所
出处
《红外技术》
CSCD
北大核心
2006年第2期105-107,共3页
文摘
介绍了在金属微细图形化制作中常用的两种方法:刻蚀和剥离,并比较了两者的优劣。开发了一种新型的正胶剥离技术,着重解决了传统的正胶剥离技术中所存在的较为严重的“二次污染”问题,提高了其剥离精度,达到2μm。最后介绍了新型的正胶剥离技术在实际工作中的应用。
关键词
正胶
剥离技术
金属微细图形化
二次污染
Keywords
Positive Photoresist
lift-off technique
fine-line metal pattern fabrication
secondary pollution
分类号
TN219 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
电磁波频率选择透通纺织品的设计和加工
被引量:
10
2
作者
施楣梧
关福旺
机构
军事科学院军需工程技术研究所
泉州师范学院纺织与服装学院
出处
《纺织高校基础科学学报》
CAS
2018年第3期266-271,共6页
基金
国家自然科学基金面上项目(51673211)
文摘
对传统频率选择表面的技术现状、设计原理进行系统分析,在此基础上提出织物基频率选择表面的设计方法、加工技术.借助于电磁仿真软件进行初步设计,利用电脑刻绘机切割实验制备样品,通过测试分析电磁传输特性,进一步优化设计.利用导电浆料印花、导电纱线绣花、激光雕刻、烫金纸转印等加工技术,在织物基体上制备周期导电单元.针对雷达波频段进行窄频化传输设计,得到导电单元的尺寸参数,制备相应的样品并实测分析.测试结果表明,各样品均具有优异的窄频化透波性能,如10GHz十字形单元样品的-3dB带宽仅为1.66GHz,优于现有文献结果.
关键词
频率选择表面
电磁功能织物
透射系数
周期导电图案
金属化工艺
Keywords
frequency selective surface;electromagnetic functional
fabric
;transmission coefficient;periodic conductive
pattern
;
metal
lization process
分类号
TS106 [轻工技术与工程—纺织工程]
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职称材料
题名
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量:
5
3
作者
董启明
郭小伟
机构
电子科技大学光电信息学院
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
基金
The National Natural Science Foundation of China(No.60906052)
文摘
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
Keywords
Interference lithography
Surface plasmon plortiton
Kretschmann structureCLCN: TN305.7 Document Code:A Article ID:1004-4213(2012)05-0558-70 IntroductionThere is a growing interest in exploring new nanolithography techniques with high efficiency,low cost and large-area
fabrication
to
fabric
ate nanoscale devices for nanotechnology applications.Conventional photolithography has remained a useful micro
fabrication
technology because of its ease of repetition and suitability for large-area
fabrication
[1].The diffraction limit,however,restricts the
fabrication
scale of photolithography[2].Potential solutions that have actually been pursued require increasingly shorter illumination wavelengths for replicating smaller structures.It is becoming more difficult and complicated to use the short optical wavelengths to reach the desired feature sizes.Other methods such as electron beam lithography[3],ion beam lithography[4],scanning probe lithography[5],nanoimprint lithography(NIL)[6],and evanescent near-field optical lithography(ENFOL)[7] have been developed in order to achieve nanometer-scale features.As we know,the former three techniques need scanning and accordingly are highly inefficient.In NIL,the leveling of the imprint template and the substrate during the printing process,which determines the uniformity of the imprint result,is a challenging issue of this method.ENFOL have the potential to produce subwavelength structures with high efficiency,but it encounters the fact that the evanescent field decays rapidly through the aperture,thus attenuating the transmission intensity at the exit plane and limiting the exposure distance to the scale of a few tens of nanometers from the mask.In recent years,the use of surface-plasmon polaritons(SPPs) instead of photons as an exposure source was rapidly developed to
fabric
ate nanoscale structures.SPPs are characterized by its near field enhancement so that SPP-based lithography can greatly extend exposure depth and improve
pattern
contrast.Grating-assisted SPP interference,such as SPP resonant interference nanolithography[8] and SPP-assisted interference nanolithography[9],achieved a sub-100nm interference
pattern
.The techniques,however,are necessary to
fabric
ate a
metal
grating with a very fine period and only suitable for small-area interference.To avoid the
fabrication
of the
metal
grating,a prism-based SPP maskless interference lithography was proposed in 2006,which promises good lithography performance.The approach offers potential to achieve sub-65nm and even sub-32nm feature sizes.However,the structure parameters are always not ideal in a real system.One wants to know how much influence the parameter variations have on the
pattern
resolution and what variations of the parameters are allowed to obtain an effective interference.Thus,it is necessary to explore the parameter spaces.1 SPP maskless interference lithography systemThe SPP maskless interference lithography system is shown in Fig.1.A p-polarized laser is divided into two beams by a grating splitter,and then goes into the prism-based multilayer system.Under a given condition,the
metal
film can exhibit collective electron oscillations known as SPPs which are charge density waves that are characterized by intense electromagnetic fields confined to the
metal
lic surface.If the
metal
layer Fig.1 Schematic for SPP maskless interference lithography systemis sufficiently thin,plasma waves at both
metal
interfaces are coupled,resulting in symmetric and antisymmetric SPPs.When the thickness h of
metal
film,dielectric constant ε1,ε2,ε3 of medium above,inside,below the
metal
film are specified,the coupling equation is shown as followstanh(S2h)(ε1ε3S22+ε22S1S3)+(ε1ε2S2S3+ε2ε3S1S2)=0
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
基于电喷印集成制造阵列化嵌金属电极柔性微流体管道
被引量:
1
4
作者
吕孝峰
郭洪吉
孙丽娜
杨婷
邹旿昊
仲亚
于海波
机构
东北大学机械工程与自动化学院
中国科学院沈阳自动化研究所
中国科学院机器人与智能制造创新研究院
中国科学院大学
出处
《中国科学:技术科学》
EI
CSCD
北大核心
2023年第4期525-535,共11页
基金
国家重点研发计划项目(编号:2018YFB1304904)
国家自然科学基金项目(批准号:91848201)资助。
文摘
微流控芯片在生物、化学、医学等领域受到了研究者们的广泛关注,尤其是含有金属电极的微流体管道在毛细电泳、电化学微量检测、生物医学工程和柔性电子领域具有广泛的需求前景.文章提出了一种简单按需制备阵列化嵌金属电极柔性微流体管道的方法.该方法基于电喷印直写技术并结合翻模和湿法刻蚀工艺,实现了嵌金属电极柔性微流体管道阵列的制备.首先,通过在线性转动接收基底上叠加直写聚乙烯醇(PVA)纤维,制备了可嵌入聚二甲基硅氧烷(PDMS)的表面光滑的线性凸起微结构(线宽为10~100μm,高宽比可大于1:2),并以此作为模板,实现了阵列化柔性微流体沟道的制造;其次,通过在平动接收基底上直写光刻胶作为保护层,并结合湿法刻蚀工艺,实现了在含有微流体沟道阵列的柔性基底上金属图案化导电电极(线宽低至5μm)的灵活制造;最后,对通入不同浓度盐溶液的微流体管道进行电学测试,验证了其管道的导通性和金属电极的导电性.结果表明:基于电喷印的集成制造流程可以灵活、简单、高效、低成本的按需加工阵列化嵌金属电极柔性微流体管道,有望应用在生物医学工程和柔性电子等领域.
关键词
电喷印
柔性微流体管道
无掩膜制造
柔性图案化金属电极
Keywords
electrohydrodynamic jet printing
flexible microfluidic pipe
maskless
fabrication
flexible
pattern
ed
metal
electrode
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
O646.5 [理学—物理化学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
一种新型的正胶剥离技术及其应用
信思树
普朝光
杨明珠
杨培志
《红外技术》
CSCD
北大核心
2006
2
下载PDF
职称材料
2
电磁波频率选择透通纺织品的设计和加工
施楣梧
关福旺
《纺织高校基础科学学报》
CAS
2018
10
下载PDF
职称材料
3
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
5
下载PDF
职称材料
4
基于电喷印集成制造阵列化嵌金属电极柔性微流体管道
吕孝峰
郭洪吉
孙丽娜
杨婷
邹旿昊
仲亚
于海波
《中国科学:技术科学》
EI
CSCD
北大核心
2023
1
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