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钝化介质层对功率GaAs MESFET的栅-漏击穿特性影响
1
作者
费庆宇
黄云
《电子产品可靠性与环境试验》
2004年第2期1-5,共5页
用直接测定GaAs MESFET的栅-漏极电容-频率(C-f)和高频电容-电压(C-V)的方法,研究了钝化层-半导体界面的慢界面陷阱电荷对栅-漏反向击穿特性的影响,为解决GaAs MESFET的栅-漏反向击穿特性不良和不稳定提供了依据。
关键词
栅-漏极电容-频率
高频电容-电压
栅-漏反向击穿电压
慢界面陷阱密度
钝化层
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职称材料
题名
钝化介质层对功率GaAs MESFET的栅-漏击穿特性影响
1
作者
费庆宇
黄云
机构
信息产业部电子第五研究所
电子元器件可靠性物理及其应用技术国家重点实验室
出处
《电子产品可靠性与环境试验》
2004年第2期1-5,共5页
基金
电子元器件可靠性及其应用技术国家重点实验室基金(00JS03EZS0302)资助。
文摘
用直接测定GaAs MESFET的栅-漏极电容-频率(C-f)和高频电容-电压(C-V)的方法,研究了钝化层-半导体界面的慢界面陷阱电荷对栅-漏反向击穿特性的影响,为解决GaAs MESFET的栅-漏反向击穿特性不良和不稳定提供了依据。
关键词
栅-漏极电容-频率
高频电容-电压
栅-漏反向击穿电压
慢界面陷阱密度
钝化层
Keywords
C-f
C-V
gate-gain reverse breakdowm
slow trap desity
passivation
分类号
TN386.1 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
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1
钝化介质层对功率GaAs MESFET的栅-漏击穿特性影响
费庆宇
黄云
《电子产品可靠性与环境试验》
2004
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