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全离子注入NPN型偶载场效应晶体管的离子注入工艺研究
1
作者
于理科
郭慧民
+2 位作者
任永玲
李国辉
姬成周
《北京师范大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
2003年第3期320-324,共5页
通过trim软件和高斯模型对离子注入后快速退火载流子分布进行设计 ,初步构造出离子注入的分布图像 ,通过与实验结果比较 ,进一步完善模型 .选用高斯与半高斯混合模型 ,得到了与实验结果更吻合的模拟方案 .从而找到了研制NPN型偶载场效...
通过trim软件和高斯模型对离子注入后快速退火载流子分布进行设计 ,初步构造出离子注入的分布图像 ,通过与实验结果比较 ,进一步完善模型 .选用高斯与半高斯混合模型 ,得到了与实验结果更吻合的模拟方案 .从而找到了研制NPN型偶载场效应晶体管 (VDCFET)离子注入的最佳条件 ,并研制了性能良好的VDCFET .
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关键词
NPN型偶载场效应晶体管
离子注入工艺
VDCFET
离子注入射程分布理论
高斯模型
混合模型
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职称材料
题名
全离子注入NPN型偶载场效应晶体管的离子注入工艺研究
1
作者
于理科
郭慧民
任永玲
李国辉
姬成周
机构
北京师范大学教育部射线束与材料改性重点实验室
出处
《北京师范大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
2003年第3期320-324,共5页
基金
国家自然科学基金资助项目 (6 0 2 4 4 0 0 4 )
北京市自然科学基金资助项目 (4 96 2 0 0 4 )
文摘
通过trim软件和高斯模型对离子注入后快速退火载流子分布进行设计 ,初步构造出离子注入的分布图像 ,通过与实验结果比较 ,进一步完善模型 .选用高斯与半高斯混合模型 ,得到了与实验结果更吻合的模拟方案 .从而找到了研制NPN型偶载场效应晶体管 (VDCFET)离子注入的最佳条件 ,并研制了性能良好的VDCFET .
关键词
NPN型偶载场效应晶体管
离子注入工艺
VDCFET
离子注入射程分布理论
高斯模型
混合模型
Keywords
ion implantation
gauss
model
half gauss model
分类号
TN386.6 [电子电信—物理电子学]
TN305.3 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
全离子注入NPN型偶载场效应晶体管的离子注入工艺研究
于理科
郭慧民
任永玲
李国辉
姬成周
《北京师范大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
2003
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